制造垂直存储器装置的方法制造方法及图纸

提供一种制造垂直存储器装置的方法，所述方法包括基于每个沟道孔和与其相邻的隔离区之间的距离、多个沟道孔在布局中的形状、多个沟道孔在布局中的坐标中的至少一个，将包括在垂直存储器装置的布局中的多个沟道孔划分为多种类型。识别连接到包括在布局中的多条位线中的每条位线的沟道孔的类型，以及基于针对每条位线确定的沟道孔的类型来确定多条位线的负载是否均衡。

Method of manufacturing a vertical memory device

Provide a method for manufacturing a vertical memory device, the method includes the isolation between each channel based on the area and its adjacent hole distance, a plurality of channel holes in the layout of the shape, a plurality of trench hole coordinates in the layout of the at least one, will be included in the vertical storage device the layout of a plurality of channel holes are divided into several types. Identifies the type of channel hole connected to each bit line in a plurality of bit lines in the layout, and determines whether the load of the plurality of bit lines is balanced based on the type of channel aperture determined for each bit line.

【技术实现步骤摘要】
制造垂直存储器装置的方法本申请要求于2016年2月22日在韩国知识产权局提交的第10-2016-0020706号韩国专利申请的权益，该韩国专利申请的公开通过引用全部包含于此。
本公开涉及一种存储器装置，更具体地，涉及一种验证垂直存储器装置的布局的方法。
技术介绍
存储器装置用于存储数据，并被划分为易失性存储器装置或非易失性存储器装置。作为非易失性存储器装置的示例的闪存装置可以用在移动电话、数码照相机、个人数字助理(PDA)、便携式计算机、台式计算机和其它装置中。最近，已经开发了垂直存储器装置以增大存储容量并实现非易失性存储器装置的小型化。垂直存储器装置包括垂直堆叠在基底上的多个存储器单元或多个存储器单元阵列。在其中形成有具有多孔结构的沟道孔的垂直存储器装置中，形成在沟道孔中的存储器单元的特性可以根据每个沟道孔和与其相邻的隔离区之间的距离而变化。
技术实现思路
根据公开的方面，提供一种验证垂直存储器装置的布局的方法，所述方法包括基于每个沟道孔和与其相邻的隔离区之间的距离、多个沟道孔在布局中的形状、多个沟道孔在布局中的坐标中的至少一个，将包括在垂直存储器装置的布局中的多个沟道孔划分为多种类型本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种制造垂直存储器装置的方法，所述方法包括：基于每个沟道孔和与其相邻的隔离区之间的距离、多个沟道孔在布局中的形状和所述多个沟道孔在布局中的坐标中的至少一个，将垂直存储器装置的布局中的所述多个沟道孔划分为多种类型；识别连接到布局中的多条位线中的每条位线的沟道孔的类型；基于针对每条位线识别的沟道孔的类型，验证所述多条位线的负载是否均衡；在验证到位线的负载均衡时，基于布局制造用于垂直存储器装置的蚀刻掩模；以及通过蚀刻已经应用了蚀刻掩模的多层器件来制造垂直存储器装置，其中，在所制造的垂直存储器装置内的位线的负载是均衡的。

【技术特征摘要】
2016.02.22 KR 10-2016-00207061.一种制造垂直存储器装置的方法，所述方法包括：基于每个沟道孔和与其相邻的隔离区之间的距离、多个沟道孔在布局中的形状和所述多个沟道孔在布局中的坐标中的至少一个，将垂直存储器装置的布局中的所述多个沟道孔划分为多种类型；识别连接到布局中的多条位线中的每条位线的沟道孔的类型；基于针对每条位线识别的沟道孔的类型，验证所述多条位线的负载是否均衡；在验证到位线的负载均衡时，基于布局制造用于垂直存储器装置的蚀刻掩模；以及通过蚀刻已经应用了蚀刻掩模的多层器件来制造垂直存储器装置，其中，在所制造的垂直存储器装置内的位线的负载是均衡的。2.根据权利要求1所述的方法，所述方法还包括：在划分之前，测量每个沟道孔与相邻的隔离区之间的距离。3.根据权利要求2所述的方法，其中，所述测量的步骤包括基于所述多个沟道孔在布局中的坐标来测量距离。4.根据权利要求1所述的方法，其中，隔离区包括字线切割区。5.根据权利要求4所述的方法，其中，所述划分的步骤包括将所述多个沟道孔划分为相对靠近字线切割区的第一类型的沟道孔和相对远离字线切割区的第二类型的沟道孔。6.根据权利要求5所述的方法，其中，识别的步骤包括识别来自连接到每条位线的沟道孔之中的第一类型沟道孔的数量和来自连接到每条位线的沟道孔之中的第二类型沟道孔的数量。7.根据权利要求6所述的方法，其中，所述验证的步骤包括：针对每条位线比较第一类型沟道孔的数量与第二类型沟道孔的数量；确定所述多条位线之中第一类型沟道孔的数量等于第二类型沟道孔的数量的位线具有均衡的负载；以及确定所述多条位线之中第一类型沟道孔的数量不同于第二类型沟道孔的数量的位线具有非均衡的负载。8.根据权利要求1所述的方法，其中，隔离区包括字线切割区和串选择线切割区。9.根据权利要求8所述的方法，其中，所述划分的步骤包括将所述多个沟道孔划分为最靠近字线切割区的第一类型沟道孔、第二最靠近字线切割区的第二类型沟道孔、最靠近串选择线切割区的第三类型沟道孔和第二最靠近串选择线切割区的第四类型沟道孔。10.根据权利要求9所述的方法，其中，所述识别的步骤包括识别来自连接到每条位线的沟道孔之中的第一类型沟道孔的数量、来自连接到每条位线的沟道孔之中的第二类型沟道孔的数量、来自连接到每条位线的沟道孔之中的第三类型沟道孔的数量以及来自连接到每条位线的沟道孔之中的第四类型沟道孔的数量。11.根据权利要求10所述的方法，其中，...

【专利技术属性】
技术研发人员：金基元，金成勋，孙在翼，
申请(专利权)人：三星电子株式会社，
类型：发明
国别省市：韩国,KR