阵列基板的制备方法技术
Method for preparing array substrate
The invention provides a method for making an array substrate includes providing a substrate; forming a gate insulating layer on the substrate; a first passivation layer is formed on the gate insulating layer; the organic layer is formed on the first passivation layer; a first conductor layer formed on the organic layer; in the the first conductive layer deposited on the photoresist; with the photoresist layer and the first conductor is double masks to etch the organic layer. The array substrate for the preparation method of the invention, made of photoresist and the conductor layer hard mask layer for double mask etching, etching reduces the difficulty of reducing dependence on photoresist, reduces the complexity of the technology.
【技术实现步骤摘要】
阵列基板的制备方法
本专利技术涉及显示装置
，尤其涉及一种阵列基板的制备方法。
技术介绍
在现有的阵列基板的制备工艺中，需要对多个膜层进行刻蚀。图1示出根据现有技术的制备方法制备的阵列基板的结构示意图。如图1所示，需要同时蚀刻栅绝缘层2、第一钝化层3和第二钝化层10这三层膜层，由于这三层膜层的厚度较厚，刻蚀难度较大，需要较厚的光刻胶层作为掩模，这对于曝光显影以及刻蚀工艺都会是很大的挑战，不但对光刻胶的依赖性高，还会出现曝光不彻底导致光刻胶残留，刻蚀时间长光刻胶易碳化形成侧墙等问题，导致工艺不良。而且现有技术中采用同时蚀刻栅绝缘层、第一钝化层和第二钝化层的方法，需要首先对其中的树脂层6进行曝光显影工艺，在树脂层6中形成开口9，以使得第一钝化层3与第二钝化层10接触。这需要一道掩模以形成开口9，增加了工艺的复杂度。
技术实现思路
鉴于现有技术中的上述问题，本专利技术的目的在于提供一种阵列基板的制备方法，能够降低刻蚀难度，减少刻蚀对光刻胶的高依赖性，降低工艺复杂度。本专利技术的实施例提供一种阵列基板的制备方法，包括：提供基板；在所述基板上形成栅绝缘层；在所述栅绝缘层上...
【技术保护点】
一种阵列基板的制备方法，包括：提供基板；在所述基板上形成栅绝缘层；在所述栅绝缘层上形成第一钝化层；在所述第一钝化层上形成有机层；在所述有机层上形成第一导体层；在所述第一导体层上沉积光刻胶；以所述光刻胶和所述第一导体层为双重掩模刻蚀所述有机层。
【技术特征摘要】
1.一种阵列基板的制备方法，包括：提供基板；在所述基板上形成栅绝缘层；在所述栅绝缘层上形成第一钝化层；在所述第一钝化层上形成有机层；在所述有机层上形成第一导体层；在所述第一导体层上沉积光刻胶；以所述光刻胶和所述第一导体层为双重掩模刻蚀所述有机层。2.如权利要求1所述的阵列基板的制备方法，还包括以所述光刻胶和所述第一导体层为双重掩模刻蚀所述有机层、所述第一钝化层和所述栅绝缘层。3.如权利要求2所述的阵列基板的制备方法，其中以所述光刻胶和所述第一导体层为双重掩模刻蚀所述有机层、所述第一钝化层和所述栅绝缘层包括：采用半色调掩模工艺，通过湿法刻蚀将所述第一导体层制成硬掩模层，以所述光刻胶和所述硬掩模层作为双重掩模刻蚀所述有机层、所述第一钝化层和所述栅绝缘层。4.如权利要求1或2所述的阵列基板的制备方法，还包括在所述基板上形成栅绝缘层之前，在所述基板上形成栅极层，在所述栅极层之上...
【专利技术属性】
技术研发人员：刘清召，曹占锋，王久石，王珂，赵磊，路达，董水浪，王国强，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：北京,11
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