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本发明提供一种阵列基板的制备方法，包括：提供基板；在所述基板上形成栅绝缘层；在所述栅绝缘层上形成第一钝化层；在所述第一钝化层上形成有机层；在所述有机层上形成第一导体层；在所述第一导体层上沉积光刻胶；以所述光刻胶和所述第一导体层为双重掩模刻蚀...
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