利用感应加热的蒸镀装置以及蒸镀系统制造方法及图纸

本发明专利技术涉及一种利用感应加热的蒸镀装置及蒸镀系统。本发明专利技术涉及的蒸镀装置(100)是利用感应加热的蒸镀装置(100)，其特征在于，包括腔室(110)及感应加热部(140)，通过感应加热部(140)对源基板(120)进行感应加热，并将形成在源基板(120)的至少一表面上的蒸镀物质层(125)蒸镀到与所述一表面相向配置的对象基板(130)上。

Evaporation device using induction heating and evaporation system

The invention relates to a vapor deposition device and a vapor deposition system using induction heating. The present invention relates to a vapor deposition device (100) is by induction heating vapor deposition device (100), characterized by comprising a chamber (110) and induction heating part (140), by induction heating part (140) of the source substrate (120) by induction heating, and will be formed in the source substrate (120) on at least one surface of the evaporation material layer (125) evaporated to the object with the substrate surface (130) on the opposite configuration.

【技术实现步骤摘要】
利用感应加热的蒸镀装置以及蒸镀系统
本专利技术涉及一种利用感应加热的蒸镀装置以及蒸镀系统。更为具体地，涉及一种通过利用感应加热的非接触式加热来进行蒸镀，以实现对于大面积基板的蒸镀，并提高蒸镀物质的使用效率和蒸镀膜均匀度的利用感应加热的蒸镀装置以及蒸镀系统。
技术介绍
为了制造平板显示器、半导体元件等，必须进行在基板上蒸镀所需薄膜的工序。平板显示器的制造包括蒸镀有机物或无机物的工序，半导体元件的制造包括蒸镀金属的工序。使用有机物的元件有液晶显示装置(LCD:LiquidCrystalDisplay)、有机电致发光显示装置(OELD:OrganicElectroLuminescenceDisplay)，使用无机物的元件有等离子显示装置(PDP:PlasmaDisplayPanel)、场发射显示装置(FED:FieldEmissionDisplay)。蒸镀方法大致分为化学蒸镀(CVD:ChemicalVaporDeposition)和物理蒸镀(PVD:PhysicalVaporDeposition)。化学蒸镀利用源气体的化学反应。此外，物理蒸镀利用物理机构，包括真空热蒸镀(evaporation)、离子镀(ion-plating)以及溅镀(sputtering)等。可以根据蒸镀对象的种类及工艺条件选择性地使用这些蒸镀方法，各方法分别需要不同的蒸镀装置。图1示出了现有的蒸镀装置1的概略结构。参照图1，现有的蒸镀装置1包括：腔室2；坩埚3，配置在腔室2的下部，用于收纳蒸镀物质；基板10，因坩埚3被加热而汽化的蒸镀物质5附着在该基板10的表面上；以及掩模4，配置在基板10与坩埚3之间，暴露基板10上待蒸镀的部位。如上所述的现有的蒸镀装置1需要反复进行加热坩埚并蒸镀的过程，因此无法进行连续的蒸镀。并且，基板越大，掩模4也需越大，此时，随着掩模4变大而发生下垂现象，并且无法正常对齐掩模4，使得难以形成想要的图案的薄膜。并且，蒸镀物质5的消耗量大，特别是，用于OLED蒸镀的有机物单价偏贵，有机物使用量的增加直接导致生产成本的增加。另一方面，为了避免上述问题，也可以采用湿涂(wetcoating)工艺。湿涂工艺容易对大面积的基板形成薄膜，并且薄膜形成物质的消耗量小，因此能够降低生产成本。然而，湿涂工艺在材料选择方面受到诸多限制，并且通过湿涂工艺制造的元件特性不佳。因此，需要一种能够适用于大面积的基板，能够降低生产成本，并且能够提升薄膜品质的蒸镀装置。
技术实现思路
所要解决的技术问题因此，本专利技术是为了解决如上所述的现有技术的各种问题而做出的，其目的在于，提供一种能够通过简单的设备结构实现大面积蒸镀的蒸镀装置以及蒸镀系统。此外，本专利技术的目的在于，提供一种能够提高蒸镀材料的使用效率的蒸镀装置以及蒸镀系统。此外，本专利技术的目的在于，提供一种能够提高蒸镀工序的速度及蒸镀膜品质的蒸镀装置以及蒸镀系统。解决技术问题的方案为了达到本专利技术的上述目的，提供一种利用感应加热的蒸镀装置，其包括腔室及感应加热部，通过所述感应加热部对源基板进行感应加热，并将形成在所述源基板的至少一表面上的蒸镀物质层蒸镀到与所述一表面相向配置的对象基板上。所述腔室的内部可以是真空环境。所述源基板的材料可以是导体或半导体，可以通过所述感应加热使所述蒸镀物质层汽化，并蒸镀到所述对象基板上。可以在所述源基板与所述对象基板之间设置有荫罩(shadowmask)。可以通过湿涂(wetcoating)方式形成所述源基板的所述蒸镀物质层。所述蒸镀物质层可以以构成图案的方式形成在所述源基板上。在所述源基板与所述蒸镀物质层之间可以进一步形成有蒸镀图案层。所述蒸镀图案层的材料可以是导体或是半导体，所述源基板的材料可以是绝缘体，可以通过所述感应加热使存在于所述蒸镀图案层上的所述蒸镀物质层汽化，并蒸镀到所述对象基板上。所述源基板的大小可以等于或大于所述对象基板的大小。并且，为了达到本专利技术的上述目的，提供一种蒸镀系统，该蒸镀系统利用感应加热，其包括源涂覆装置、蒸镀装置以及搬运部，所述源涂覆装置通过湿涂(wetcoating)方式在源基板的至少一表面上形成蒸镀物质层，所述搬运部将所述源基板从所述源涂覆装置搬运到所述蒸镀装置中，所述蒸镀装置包括腔室及感应加热部，通过所述感应加热部对所述源基板进行感应加热，并将形成在所述源基板的至少一表面上的蒸镀物质层蒸镀到与所述一表面相向配置的对象基板上。并且，为了达到本专利技术的上述目的，提供一种蒸镀方法，该蒸镀方法利用感应加热，其包括如下步骤：(a)通过湿涂(wetcoating)方式，在源基板的至少一表面上形成蒸镀物质层；(b)将所述源基板配置在真空环境的腔室内；(c)对所述源基板进行感应加热，从而将汽化的所述蒸镀物质层蒸镀到与所述源基板相向配置的对象基板上。有益效果根据如上所述的本专利技术，具有能够通过简单的设备结构实现大面积蒸镀的效果。此外，根据本专利技术，具有能够提高蒸镀材料的使用效率的效果。此外，根据本专利技术，具有能够提高蒸镀工序的速度及蒸镀膜品质的效果。附图说明图1是现有的蒸镀装置的概略图。图2是示出本专利技术的一实施例涉及的利用感应加热的蒸镀装置的概略图。图3是示出本专利技术的一实施例涉及的蒸镀过程的示意图。图4是示出本专利技术的另一实施例涉及的利用感应加热的蒸镀装置的概略图。图5是示出本专利技术的另一实施例涉及的蒸镀过程的示意图。图6是示出本专利技术的一实施例涉及的蒸镀系统的概略图。附图标记：100：蒸镀装置110、210：腔室120：源基板125、127：蒸镀物质层129：蒸镀图案层130：对象基板140：感应加热部200：源涂覆装置300：搬运部具体实施方式后述的对于本专利技术的详细说明，参照了示例性地示出可实施本专利技术的具体实施例的附图。这些实施例的详细说明，足以使本领域的技术人员实施本专利技术。应理解为，本专利技术的各种实施例虽然彼此不同，但并非互相排斥。例如，在此所记载的一实施例的特定形状、结构及特性，在不脱离本专利技术的思想及范围的情况下，可以由其它实施例来实现。此外，应理解为，各公开的实施例中的个别构成要素的位置或者配置，可以在不脱离本专利技术的思想及范围的情况下进行变更。因此，后述的详细说明并无限定之意，准确地说，本专利技术的保护范围应当以权利要求书的内容为准，包含与其权利要求所主张的内容等同的所有范围。附图中类似的附图标记在各个方面表示相同或类似的功能，并且为了便于说明，长度和面积、厚度等以及其形状有可能放大表示。下面，参照附图对本专利技术的优选实施例进行详细说明，以使本专利技术所属
的普通技术人员能够容易实施本专利技术。应理解为，用于平板显示器、半导体元件等的基板都包含在本说明书中进行蒸镀的对象基板的概念之内。只是，在本说明书中以用于有机发光显示装置(OLED)的基板为例进行说明。此外，应理解为，能够进行蒸镀的有机物、无机物、金属等物质都包含在本说明书中的蒸镀物质的概念之内。只是，在本说明书中以有机发光显示装置用有机材料(有机物)为例进行说明。此外，应理解为，在本说明书中感应加热(inductionheating)意指当在缠绕的线圈中流通高频交流电流时，在线圈内部形成变化的磁场，并在受磁场影响的材料中形成感应电流(涡流)，从而使材料发热的现象。图2是示出本专利技术的一实施例涉及的利用感本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种蒸镀装置，该蒸镀装置利用感应加热进行蒸镀，其特征在于，包括腔室及感应加热部，通过所述感应加热部对源基板进行感应加热，并将形成在所述源基板的至少一表面上的蒸镀物质层蒸镀到与所述一表面相向配置的对象基板上。

【技术特征摘要】
2015.11.19 KR 10-2015-01624031.一种蒸镀装置，该蒸镀装置利用感应加热进行蒸镀，其特征在于，包括腔室及感应加热部，通过所述感应加热部对源基板进行感应加热，并将形成在所述源基板的至少一表面上的蒸镀物质层蒸镀到与所述一表面相向配置的对象基板上。2.根据权利要求1所述的蒸镀装置，其特征在于，所述腔室的内部处于真空环境。3.根据权利要求1所述的蒸镀装置，其特征在于，所述源基板的材料是导体或半导体，通过所述感应加热使所述蒸镀物质层汽化，从而蒸镀到所述对象基板上。4.根据权利要求1所述的蒸镀装置，其特征在于，在所述源基板与所述对象基板之间设置有荫罩。5.根据权利要求1所述的蒸镀装置，其特征在于，通过湿涂方式形成所述源基板的所述蒸镀物质层。6.根据权利要求1所述的蒸镀装置，其特征在于，所述蒸镀物质层以构成图案的方式形成在所述源基板上。7.根据权利要求1所述的蒸镀装置，其特征在于，在所述源基板与所述蒸镀物质层之间进一步形成有蒸镀图案层。8.根据权利要求7所述的蒸镀装置，其特征在于，所述蒸镀图案层的材料是导体或半导体，所述源基板的材料是绝缘体，通过所述感应加热使存在于所述蒸镀图案层上的所述蒸镀物质层汽化，并蒸镀到所述对象基板上。9.根据权利要求1所述的蒸镀装置，其特征在于，所述源基板的大小等于或大于所述对象基板的大小。10.一种蒸镀系统，该蒸镀系统利用感应加热进行蒸镀，其特征在于，包括源涂覆装置、蒸镀装置以及搬...

【专利技术属性】
技术研发人员：朴善淳，李海龙，金荣道，池成勋，洪沅义，
申请(专利权)人：株式会社达文希斯，
类型：发明
国别省市：韩国,KR