蒸镀坩埚热场控制装置及蒸镀系统制造方法及图纸

本发明专利技术涉及一种蒸镀坩埚热场控制装置，其包括：蒸镀坩埚、加热装置；若干温度检测单元，用于检测所述蒸镀坩埚上若干检测点的温度；若干反射板，设置于所述蒸镀坩埚的外围，且用于向蒸镀坩埚反射热量；以及控制单元，基于若干所述温度检测单元所检测的温度，控制若干所述反射板移动以调整每个所述反射板与所述蒸镀坩埚之间的间距。上述蒸镀坩埚热场控制装置，控制单元根据各检测点的实测温度，分别独立控制各个反射板，使蒸镀坩埚温度高的区域附近的反射板远离蒸镀坩埚，温度低的区域附近的反射板靠近蒸镀坩埚，从而使整个热场更加均一，从而蒸镀源受热一致，最终形成的膜层厚度一致。本发明专利技术还提供了一种蒸镀系统。

Evaporating crucible thermal field control device and evaporation system

The invention relates to an evaporation crucible thermal control device, which comprises: evaporation crucible, a heating device; a plurality of temperature detection unit for detecting the evaporation crucible on several test points of temperature; some reflection plate arranged on the periphery of the evaporation crucible, and evaporation crucible used to reflect heat and a control unit; a plurality of temperature detection unit based on the temperature detection, distance control a plurality of reflecting plate moves to adjust each of the reflective plate between the evaporation crucible. The evaporation crucible thermal control device, the control unit according to the measured temperature of each detection point, respectively independent control of each reflection plate, the deposition area near the reflection plate of high temperature evaporation from the crucible crucible, near the reflector near the low temperature evaporation from the crucible, and the thermal field is more uniform thus, the evaporation source is heated uniformly, the final form of the film thickness. The invention also provides a evaporation system.

【技术实现步骤摘要】
蒸镀坩埚热场控制装置及蒸镀系统
本专利技术涉及显示领域，特别是涉及一种在显示面板制造过程中的蒸镀坩埚热场控制装置及蒸镀系统。
技术介绍
在显示面板的制造过程中，特别是OLED显示面板的制造过程中，通常会使用蒸镀工艺来形成膜层。在蒸镀操作时，一般将蒸镀源放置在蒸镀坩埚内，然后对蒸镀坩埚进行加热，使蒸镀源受热，并气化离开蒸镀坩埚，最后蒸镀源镀覆在待蒸镀基材上，从而在待蒸镀基材上形成膜层。但是，目前蒸镀所形成的膜层，一般部分区域较厚，部分区域较薄，即形成的膜层厚度不均，这将严重影响显示面板的品质。
技术实现思路
基于此，有必要针对现有技术中蒸镀所形成的膜层厚度不均的问题，提供一种能够形成厚度均匀的膜层的蒸镀坩埚热场控制装置。一种蒸镀坩埚热场控制装置，包括：蒸镀坩埚；加热装置，用于对所述蒸镀坩埚加热；若干温度检测单元，用于检测所述蒸镀坩埚上若干检测点的温度；若干反射板，设置于所述蒸镀坩埚的外围，且用于向蒸镀坩埚反射热量；以及控制单元，基于若干所述温度检测单元所检测的温度，控制若干所述反射板移动以调整每个所述反射板与所述蒸镀坩埚之间的间距。上述蒸镀坩埚热场控制装置，温度检测单元检测蒸镀坩埚上若干检测点的温度，然后控制单元根据各检测点的实测温度，分别独立控制各个反射板，使蒸镀坩埚温度高的区域附近的反射板远离蒸镀坩埚，温度低的区域附近的反射板靠近蒸镀坩埚，从而使整个热场更加均一，进而使整个蒸镀坩埚各区域的温度尽可能的保持一致，从而蒸镀源受热一致，蒸发速率一致，最终形成的膜层厚度一致。在其中一个实施例中，所述反射板与所述温度检测单元一一对应设置，所述控制单元基于每个所述温度检测单元所检测的温度，控制其对应的反射板移动以靠近或远离所述蒸镀坩埚。在其中一个实施例中，所述反射板分别对称分布于所述蒸镀坩埚的两侧。在其中一个实施例中，所述蒸镀坩埚热场控制装置还包括与所述反射板对应设置且用于移动所述反射板的若干轨道。在其中一个实施例中，所述轨道为齿轮滚轴。在其中一个实施例中，所述反射板的表面设有波浪状凹槽。在其中一个实施例中，所述温度检测单元包括贴设于所述蒸镀坩埚的外侧壁的热电偶。在其中一个实施例中，所述热电偶贴设于所述蒸镀坩埚的外侧壁中部。在其中一个实施例中，所述加热装置包括围设于所述蒸镀坩埚外围的加热丝。本专利技术还提供了一种蒸镀系统。一种蒸镀系统，包括本专利技术所提供的蒸镀坩埚热场控制装置。上述蒸镀系统，由于采用本专利技术所提供的蒸镀坩埚热场控制装置，故而整个蒸镀坩埚各区域的温度尽可能的保持一致，从而蒸镀源受热一致，蒸发速率一致，最终形成的膜层厚度一致。附图说明图1为本专利技术一实施例的蒸镀坩埚热场控制装置的俯视图。图2为图1中的蒸镀坩埚热场控制装置的右视图。具体实施方式为了使本专利技术的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合具体实施方式，对本专利技术进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施方式仅仅用以解释本专利技术，并不用于限定本专利技术。除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本专利技术的
的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本专利技术的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施方式的目的，不是旨在于限制本专利技术。本文所使用的术语“及/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。参见图1-2，本专利技术一实施例的蒸镀坩埚热场控制装置，包括蒸镀坩埚100、加热装置(未示出)、若干温度检测单元300、若干反射板400、以及控制单元。其中，蒸镀坩埚100的主要作用是盛放蒸镀源。蒸镀坩埚100内设有容纳蒸镀源的空腔，在蒸镀坩埚100的顶部开设有若干可供蒸镀源溢出的开口101。在本实施例中，蒸镀坩埚100大致呈长方体状。蒸镀坩埚100的开口101呈线性排布，更具体地说，开口101沿平行于长方体的长边线性排布。本专利技术对蒸镀坩埚的具体结构以及材质没有特殊限制，本领域技术人员可以根据实际情况选择合适的具体结构以及材质，在此不再赘述。其中，加热装置的主要作用是，对蒸镀坩埚100加热，从而使蒸镀源受热气化。在本实施例中，加热装置包括围设于蒸镀坩埚100外围的加热丝。这样可以使蒸镀坩埚100的受热更加均匀。当然，可以理解的是，本专利技术的加热装置并不局限于加热丝，还可以是其它加热元件，在此不再赘述。其中，温度检测单元300的主要作用是，用于检测蒸镀坩埚100上若干检测点的温度。也就是说，在蒸镀坩埚100上的每个检测点上均对应设置一个温度检测单元300，该温度检测单元300获取对应的检测点处的蒸镀坩埚100的温度。在本实施例中，温度检测单元300包括贴设于蒸镀坩埚100的外侧壁110的热电偶。优选地，热电偶贴设于蒸镀坩埚100的外侧壁中部。这样可以进一步使蒸镀形成膜层的厚度更加均匀。当然，可以理解的是，本专利技术的温度检测单元300并不局限于热电偶，还可以是本领域技术人员认为合适的其它测温元件，在此不再赘述。其中，反射板400的主要作用是，用于向蒸镀坩埚100反射热量；反射板400设置于蒸镀坩埚100的外围。优选地，反射板400位于加热丝外围且距离加热丝有一定的间隔距离。在本实施例中，反射板400的表面设有波浪状凹槽。这样可以使热场更加均匀。优选地，为了方便反射板移动，本实施例的蒸镀坩埚热场控制装置1000还包括用于移动反射板400的若干轨道600。若干轨道600与若干反射板400一一对应设置；也就是说，每个反射板400均有与其对应的轨道600，从而方便该反射板400移动。在本实施例中，轨道600为齿轮滚轴。这样可以使反射板的移动距离更加精确的控制。当然，可以理解的是，本专利技术的轨道600并不局限于齿轮滚轴，还可以是其它可以移动反射板400的轨道，在此不再赘述。其中，控制单元的主要作用是，基于若干温度检测单元300所检测的温度，控制若干反射板400移动以调整每个反射板400与蒸镀坩埚100之间的间距。也就是说，若干温度检测单元300将其检测的蒸镀坩埚100各检测点的温度传送给控制单元，控制单元对温度数据进行分析，然后控制每个反射板400移动以使其与蒸镀坩埚100之间的间距增大、或减小、或保持不变。优选地，反射板400与温度检测单元300一一对应设置，控制单元基于每个温度检测单元300所检测的温度，控制其对应的反射板400移动以靠近或远离蒸镀坩埚100。也就是说，若某个温度检测单元300所检测温度较高，则控制单元控制该温度检测单元300所对应的反射板400远离蒸镀坩埚100，从而使反射强度减弱，以降低该检测点的温度；若某个温度检测单元300所检测温度较低，则控制单元控制该温度检测单元300所对应的反射板400靠近蒸镀坩埚，从而使反射强度增强，以提高该检测点的温度。更优选地，控制单元根据若干温度检测单元300所检测的温度，计算出平均温度，然后基于该温度检测单元300所检测的温度与平均温度的差值，调整其对应的反射板400与蒸镀坩埚100之间的间距。在本实施例中，若干反射板400对称分布于蒸镀坩埚100的两侧。对应地，若干温度检测单元300对称分布于蒸镀坩埚100的两侧壁，也即若干检测点对称分布于蒸镀坩埚100的两侧壁110上。上述蒸镀坩埚热场控制装置，温度检测单元300检测蒸镀坩埚100上若干检测点的温度，然后控制单元根据各检测点的实测温度，分别独立控制本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种蒸镀坩埚热场控制装置，其特征在于，包括：蒸镀坩埚；加热装置，用于对所述蒸镀坩埚加热；若干温度检测单元，用于检测所述蒸镀坩埚上若干检测点的温度；若干反射板，设置于所述蒸镀坩埚的外围，且用于向蒸镀坩埚反射热量；以及控制单元，基于若干所述温度检测单元所检测的温度，控制若干所述反射板移动以调整每个所述反射板与所述蒸镀坩埚之间的间距。

【技术特征摘要】
1.一种蒸镀坩埚热场控制装置，其特征在于，包括：蒸镀坩埚；加热装置，用于对所述蒸镀坩埚加热；若干温度检测单元，用于检测所述蒸镀坩埚上若干检测点的温度；若干反射板，设置于所述蒸镀坩埚的外围，且用于向蒸镀坩埚反射热量；以及控制单元，基于若干所述温度检测单元所检测的温度，控制若干所述反射板移动以调整每个所述反射板与所述蒸镀坩埚之间的间距。2.根据权利要求1所述的蒸镀坩埚热场控制装置，其特征在于，所述反射板与所述温度检测单元一一对应设置，所述控制单元基于每个所述温度检测单元所检测的温度，控制其对应的反射板移动以靠近或远离所述蒸镀坩埚。3.根据权利要求2所述的蒸镀坩埚热场控制装置，其特征在于，所述反射板分别对称分布于所述蒸镀坩埚的两侧。4.根据权利要求1～3任一项所述的蒸镀坩埚热场控制装置，其...

【专利技术属性】
技术研发人员：宋建华，
申请(专利权)人：昆山国显光电有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏,32