半导体储料器系统和方法技术方案

技术编号:15985114 阅读:64 留言:0更新日期:2017-08-12 06:19
在一个实施例中,本发明专利技术公开了用于诸如超紫外线(EUV)掩模版载具的高水平清洁度制品的清洁存储方法和系统。净化室可以用于清洁存储工件。吹扫气体系统可以用于防止存储在工件内的物品的污染。机器人可以用于检测在输送工件之前存储室的条件。监测装置可以用于监测器储料器的状态。

【技术实现步骤摘要】
半导体储料器系统和方法本申请是申请人动力微系统公司的专利技术名称“半导体储料器系统和方法”的申请的分案申请,国际申请日是2012年6月28日,国际申请号为PCT/IB2012/053278,进入中国国家阶段日期是2013年12月27日,国家申请号为201280032202.3。本申请主张2011年6月28日提出申请的题目为“Semiconductorstockersystemsandmethods”的美国临时专利申请第61/501,792号的优先权,该申请通过引用在此并入供参考。
本专利技术涉及用于存储在半导体制造行业中使用的诸如晶片或掩模版载具的工件或工件容器的设备和方法。
技术介绍
储料器通常安装在半导体设备内以用于临时存储诸如晶片、平板显示器、LCD、光刻掩模版或掩模的工件。在制造半导体器件、LCD面板及其它工件的过程中,具有数百个处理设备并因此具有数百个制造步骤。非常难以使晶片、平板、或LCD(以下称为工件)在步骤之间、工具之间统一流动。尽管被最好计划,但是始终存在料想不到的情况,例如工具掉下、发生紧急状况、周期性保养比计划持续得时间长,因此对于一些工具在一些步骤处会存在各种工件的聚集。聚集的工件将需要被存储在存储储料器中,等待被处理。例如,光刻处理是半导体制造设备中的关键处理,涉及大量光刻掩模或掩模版(在以下中称为掩模版)。掩模版因此通常被存储在存储储料器中,并当需要使被取回到光刻曝光设备中。工件和掩模版(以下称为物品)的存储由于清洁度要求而更加复杂。对物品的损坏可以是颗粒形式的物理损坏或相互作用形式的化学损坏。在半导体装置处理的关键尺寸超过0.1微米的情况下,将需要防止0.1微米尺寸的颗粒和活性组分接近物品。存储区域通常需要比处理设备更清洁以确保处理之间进行较小的清洁。因此储料器存储区域通常被设计成优选地通过恒定吹扫或甚至通过惰性气体流相对于外部环境密封以防止可能的化学反应。对存储区域的访问被负载锁定,以确保清洁的存储环境与外部环境之间的隔离。随着半导体装置和处理的发展,在现代化半导体设备中的清洁度要求增加,例如在存储储料器中的清洁度的要求增加。
技术实现思路
在一个实施例中,本专利技术公开了用于诸如超紫外线(EUV)掩模版载具的高水平清洁度物品的清洁存储方法和系统。净化室可以用于清洁存储工件。吹扫气体系统可以用于防止存储在工件内的物品的污染。机器人可以用于检测在输送工件之前存储室的条件。监测装置可以用于监测器储料器的状态。附图说明图1A-1B示出了根据本专利技术的一个实施例的储料器系统的结构;图2A-2B示出了根据本专利技术的一个实施例的净化处理的示例;图3A-3B示出了根据本专利技术的一个实施例的净化系统的不同结构;图4A-4B示出了根据本专利技术的一个实施例的用于使用净化室对对象进行净化的流程图;图5A-5B示出了根据本专利技术的一个实施例的用于使用净化室对对象进行净化的其它流程图;图6A-6C示出了根据本专利技术的一个实施例的用于使用净化室对储料器中的对象进行净化的流程图;图7示出了根据本专利技术的一个实施例的包括多个存储隔室的存储室;图8示出了根据本专利技术的一个实施例的使用吹扫气体存储隔室的储料器系统;图9A-9C示出了根据本专利技术的一个实施例的用于使用吹扫气体隔室存储对象的流程图;图10A-10E示出了根据本专利技术的一个实施例的具有流量传感器的机械臂;图11A-11B示出了根据本专利技术的一个实施例夹持臂上的传感器结构;图12A-12D示出了根据本专利技术的一个实施例的流动检测程序;图13A-13B示出了根据本专利技术的一个实施例的在放置对象之前用于感测吹扫气体流的流程图;图14A图示了根据本专利技术的一个实施例的监测器载具;图14B示出了为储料器的监测载具的移动;图15A-15C示出了根据本专利技术的一个实施例用于从监测载具收集数据的流程图;图16A示出了根据本专利技术的一个实施例的包括数据采集台的系统;图16B示出了根据本专利技术的一个实施例的数据采集台的流程图;图17示出了根据本专利技术的一个实施例的用于过载台和手动装载台的示例性结构;图18A-18B示出了根据本专利技术的一个实施例的用于防问过载台的示例性流程图;图19示出了根据本专利技术的一个实施例的具有吹扫喷嘴的示例性输送和/或存储台;以及图20示出了EUV掩模版载具的结构。具体实施方式在一些实施例中,本专利技术公开了用于存储诸如半导体工件容器和掩模版载具的对象的方法和设备。在一个实施例中,存储过程可以包括用于将气体吹扫到存储对象的内部容积的用于存储的洁净环境和用于周期性地清洁存储对象的净化室。对于诸如暗盒、FOUP、保持器、载具等的半导体制品来说清洁度可能是关键的要求。在清洁存储中,清洁环境保持清洁度水平,例如将在几微米范围内的颗粒减小到子微米水平,并且减少痕量污染物、有机、无机金属、自然氧化物和微粒问题。在一个实施例中,本专利技术公开了用于诸如超紫外线(EUV)掩模版载具的高水平清洁度制品的清洁存储方法和系统。随后的描述使用超紫外辐射掩模版载具是示例性的,但是本专利技术不受此限制,而是可以被应用于具有严格清洁度要求的任何对象,例如低微粒污染物和低除气部件。图20示出了将要被存储的EUV掩模版载具的结构。EUV掩模版200通常被存储在双容器载具209中,且在内容器与外容器之间的空间207中具有氮气。内容器通常由金属制成,所述内容器包括与下支撑件202配合的上盖201。外容器通常由低除气聚合物制成,所述外容器包括与下支撑件204配合的上盖203。两个容器都可以具有用于被操作者或自动输送系统保持的手柄。显示用于外容器的上盖203的手柄205。外容器的支撑件204可以具有用于接收吹扫到掩模版载具的内部容积207的氮气的入口。双容器EUV掩模版载具是用于半导体处理的高水平清洁度的一个示例,其中掩模版被存储在两个水平的容器中以防止污染。另外,两个水平之间的容积被氮气吹扫以避免细菌增长,或防止来自外容器的除气颗粒附到内容器。因此用于这种清洁对象的存储系统要求保持期望的清洁度水平的改进的特征。在一个实施例中,本专利技术公开了用于周期性地吹扫、清洁存储对象或对所述存储对象进行除气的清洁室和方法。清洁室可以例如通过在存储期间对粘到对象的任何污染物进行除气来恢复存储对象的清洁度。周期性清洁可以减少或除去任何污染物,从而使对象恢复到高清洁度水平。在一个实施例中,清洁室可以包括净化室,所述净化室采用高真空以对对象执行污染物的除气。将要被存储的对象在放置处于存储状态之前被净化。存储对象可以在从储料器取出之前被净化。例如在一定时间之后,当对象变脏时,或当考虑储料器的清洁度水平时,存储对象可以在某些程序之后被净化。在一个实施例中,净化过程使用诸如10-6托或低于10-6托的高真空,以释放对象的表面或子表面上的任何被圈闭污染物。另外,对象内部的容积例如以相同的高真空水平被抽空。此外,可以对内部容积执行吹扫处理以进一步除去对象内的任何微粒和污染物。在一个实施例中,通过内部容积泵送清洁氮气和/或泵送/吹扫清洁氮气在闭合的同时对对象进行去污。在另一个实施例中,在打开的同时对对象进行去污,因此对象的所有部分都受到高水平真空以释放任何被圈闭污染物。图1A-1B示出了根据本专利技术的一个实施例的储料器系统的结构。储料器可以包括存储室12、装载和卸载台1本文档来自技高网
...
半导体储料器系统和方法

【技术保护点】
一种用于输送工件的机器人,所述机器人包括:用于支撑工件的机械臂;联接到机械臂的第一端的一个或多个传感器,其中所述传感器能够操作以检测气流;以及联接到机械臂的第二端的移动机构,其中移动机构能够操作以移动机械臂。

【技术特征摘要】
2011.06.28 US 61/501,7921.一种用于输送工件的机器人,所述机器人包括:用于支撑工件的机械臂;联接到机械臂的第一端的一个或多个传感器,其中所述传感器能够操作以检测气流;以及联接到机械臂的第二端的移动机构,其中移动机构能够操作以移动机械臂。2.根据权利要求1所述的机器人,其中机械臂形成用于夹持工件的夹持装置。3.根据权利要求1所述的机器人,进一步包括用于改变机械臂的夹持距离的机构。4.根据权利要求1所述的机器人,其中工件被支撑在第一端与第二端之间。5.根据权利要求1所述的机器人,其中传感器被构造成检测向上的气流。6.根据权利要求1所述的机器人,其中传感器被构造成检测侧向气流。7.根据权利要求1所述的机器人,其中传感器被构造成检测在将工件输送到目的地期间的气流。8.一种用于监测储料器的状态的装置,其中储料器被构造成存储多个工件,所述装置包括:联接到装置的外表面或内部的一个或多个传感器,其中所述装置包括与工件类似的尺寸和形状;联接到传感器以用于存储由传感器采集的数据的存储器;联接到存储器以给存储器供电的电池。9.根据权利要求8所述的装置,其中传感器被构造成检测气流。10.根据权利要求8所述的装置,其中传感器被构造成检测气流的质量。11.根据权利要求8所述的装置,其中气流的质量包括气流的组分和气流中的颗粒的水平中的至少一个。12.根据权利要求8所述的装置,其中传感器被构造成检测环境的特征。13.根据权利要求8所述的装置,其中所述特征包括温度、清洁度和微粒的水平中的至少一个。14.根据权利要求8所述的装置,其中传感器采集作为时间函数的数据。15.根据权利要求8所述的装置,进一步包括操作传感器和存储器的控制器。16.根据权利要求18所述的装置,进一步包括用于使传感器与数据处理系统通信的接口。17.一种用于存储工件的储料器,其中工件包括用于存储制品...

【专利技术属性】
技术研发人员:卢茨·莱伯斯托克
申请(专利权)人:动力微系统公司
类型:发明
国别省市:德国,DE

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1