气体清洗用过滤器制造技术

一种气体清洗用过滤器，用在由容器主体和盖体构成的收纳容器(1)上，其具有：过滤器壳体(100)，该过滤器壳体具有能够使收纳容器(1)的外部空间的气体与收纳空间(27)的气体通气的通气空间(110)；和衬垫(300)，其形成在过滤器壳体(100)的收纳空间的外侧且以将形成通气空间(110)的一部分的喷嘴部(103)的外周面覆盖的方式形成，衬垫(300)由弹性体形成。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】气体清洗用过滤器
本专利技术涉及用在收纳容器上的气体清洗用过滤器，该收纳容器在对由半导体晶片等构成的基板进行收纳、保管、搬运、运输等时使用。
技术介绍
作为用于收纳由半导体晶片构成的基板并将其在工厂内的工序中搬运的收纳容器，从以往就已知具有容器主体和盖体的收纳容器。容器主体具有在一个端部形成有容器主体开口部且另一端部被封闭的筒状的壁部。盖体能够相对于容器主体开口部装拆，且能够封闭容器主体开口部。通过由盖体封闭该容器主体，而在收纳容器内形成有收纳基板等的收纳空间。收纳空间由容器主体的壁部和盖体的内表面包围而形成，能够收纳多个基板。在为盖体的部分且是当封闭容器主体开口部时与收纳空间相对的部分上设有前保持器。前保持器当由盖体封闭容器主体开口部时，能够支承多个基板的缘部。此外，与前保持器成对地，在壁部上设有里侧基板支承部。里侧基板支承部能够支承多个基板的缘部。里侧基板支承部在由盖体封闭容器主体开口部时，与前保持器联动地支承多个基板，由此在使相邻的基板彼此以规定间隔分离而并列的状态下，保持多个基板(参照专利文献1～2)。此外，在容器主体上设有过滤器。根据需要在过滤器内部设有止回阀。从过滤器穿通并从收纳容器的外部向收纳空间，由将氮气等非活性气体或水分去除(1％以下)的干燥空气(以下称为清洗气体)进行气体清洗。止回阀防止基于气体清洗而填充至收纳空间的气体泄漏(参照专利文献3～4)。在为了将上述过滤器安装至容器主体而设的贯穿孔(连通开口)中，安装有上述过滤器。此时，为了将容器主体和过滤器设为密封构造，过滤器的壳体(护环)是由弹性材料形成的(专利文献5)。此外，为了进行气体清洗，需要使气体清洗装置的清洗端口与过滤器紧密接触。由于在该情况下过滤器的壳体也是由弹性材料形成的，所以在清洗端口被按压至过滤器上时，供清洗端口抵接的部分的过滤器壳体会弹性变形，能够使清洗端口的前端与过滤器紧密接触。由此，能够有效地由清洗气体对收纳容器的收纳空间进行气体清洗。在先技术文献专利文献1：日本专利第4204302号公报专利文献2：日本专利第4201583号公报专利文献3：日本专利第5241607号公报专利文献4：日本特开第2007-533166号公报专利文献5：日本专利第5213440号公报如前述那样，作为过滤器壳体的材质而使用弹性材料，由此能够将收纳容器和过滤器容易地密封，还能够确保过滤器与清洗端口之间的紧密性，能够进行有效的气体清洗。但是，过滤器壳体的供清洗气体通过的通气空间也由弹性材料形成，清洗气体会接触到该弹性材料，并向收纳空间流动。弹性材料是吸湿、吸水率高且逸气多的材料。近年来，要求半导体工序的细微化和半导体芯片的成品率的提高。由此，对收纳半导体晶片的收纳容器也要求了尽可能地降低来自构成收纳容器的材质的有机气体或氯气等的逸气、和容器内部的湿度。由此，存在如下问题，即虽然进行利用清洗气体的气体清洗，但是清洗气体会从由弹性材料成形的过滤器壳体的通气空间穿过，由此弹性材料中所含的水分和对半导体晶片不利的逸气会含在清洗气体中，从而不能将收纳容器的内部的环境维持于清洁的状态。由于该问题，存在半导体芯片的成品率下降的问题。虽然若通过低逸气、低吸湿、低吸水性的树脂来构成过滤器壳体，则能够解决上述的问题，但是在该情况下，由于弹性降低，从而与清洗端口之间的紧密性会降低，存在颗粒或不希望的气体、水分会从清洗端口与过滤器的间隙进入至收纳容器内部的问题。或者，存在由于过滤器壳体与清洗端口之间的紧密性的下降，而导致清洗气体从清洗端口的前端部泄漏，气体清洗的效率下降的问题点。由此，在以往，具有无法同时解决上述问题点的课题。
技术实现思路
本专利技术的目的在于，提供一种气体清洗用过滤器，其能够通过清洗气体有效地置换收纳容器的收纳空间内的气体，且能够维持收纳容器内部的清洁度。本专利技术提供一种气体清洗用过滤器，其安装在收纳容器的连通开口上，该收纳容器通过容器主体和盖体而在内部形成有收纳空间，其中，所述容器主体在一个端部具有容器主体开口部，所述盖体能够相对于所述容器主体开口部装拆且能够封闭所述容器主体开口部，所述连通开口形成在所述容器主体或者所述盖体的至少任意一个上且能够使所述收纳容器的外部空间与所述收纳空间连通，所述气体清洗用过滤器的特征在于，具有：过滤器壳体，其具有能够使所述收纳容器的外部空间的气体与所述收纳空间的气体通气的通气空间；和衬垫，其形成在所述过滤器壳体的所述收纳空间的外侧且以将形成所述通气空间的一部分的喷嘴部的外周面覆盖的方式形成，所述过滤器壳体由热塑性树脂形成，所述衬垫由弹性体形成。此外，优选为，气体清洗用过滤器前端部由在所述喷嘴部的前端部形成在所述收纳空间的外侧方向上的喷嘴前端部、和在所述衬垫的前端部形成在所述收纳空间的外侧方向上的衬垫外侧前端部构成，在该气体清洗用过滤器前端部中，当用于清洗所述收纳容器的内部气体的气体清洗装置的清洗端口与所述气体清洗用过滤器前端部抵接，执行气体清洗时，所述喷嘴前端部的位置与抵接在所述气体清洗用过滤器前端部上的所述衬垫外侧前端部的位置相同，或者向所述收纳空间的外侧方向突出。而且，优选为，在所述清洗端口与所述气体清洗用过滤器前端部抵接之前，所述衬垫外侧前端部的位置与所述喷嘴前端部的位置相同，或者向所述收纳空间的外侧方向突出。或者，优选为，在所述清洗端口与所述气体清洗用过滤器前端部抵接之前，所述喷嘴前端部的位置与所述衬垫外侧前端部的位置相比向所述收纳空间的外侧方向突出。而且，优选为，所述衬垫为单体的状态下的所述衬垫外侧前端部的内径的形状比所述喷嘴前端部的外径小。并且，优选为，在所述过滤器壳体的所述通气空间内，具有将气体的流通方向限制为固定方向的止回阀机构。专利技术效果根据本专利技术，能够提供一种气体清洗用过滤器，其能够有效地进行基于清洗气体的收纳容器的收纳空间内的气体的置换，且能够维持收纳容器内部的清洁度。由此，由于能够延长半导体晶片暴露在非活性气体或干燥空气中的比例，所以能够提高基于半导体晶片所制造的半导体芯片的成品率。而且，能够在短时间内有效地进行基于清洗气体的气体置换，因此使工序缩短，也有助于降低成本。附图说明图1是表示在收纳容器1上安装有本专利技术的第1实施方式的气体清洗用过滤器80，且收纳有基板W的状态的分解立体图。图2是表示在收纳容器1上安装有本专利技术的第1实施方式的气体清洗用过滤器80的状态的下方立体图。图3A是表示本专利技术的第1实施方式的气体清洗用过滤器80的上方立体图。图3B是表示本专利技术的第1实施方式的气体清洗用过滤器80的下方立体图。图4是表示本专利技术的第1实施方式的气体清洗用过滤器80的分解立体图。图5是表示将本专利技术的第1实施方式的气体清洗用过滤器80安装于收纳容器1上的部分的剖视图。图6是将图5中的气体清洗用过滤器前端部406的附近放大的剖视图。图7A是将本专利技术的第2实施方式的气体清洗用过滤器80A的气体清洗用过滤器前端部406A的附近放大的剖视图，是表示与清洗端口800抵接之前的状态的图。图7B是将本专利技术的第2实施方式的气体清洗用过滤器80A的气体清洗用过滤器前端部406A的附近放大的剖视图，是表示与清洗端口800抵接后的状态的图。图8A是将本专利技术的第3实施方式的气体清洗用过滤器80B的气体清洗用过滤器前端部4本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种气体清洗用过滤器，其安装在收纳容器的连通开口上，该收纳容器通过容器主体和盖体而在内部形成有收纳空间，其中，所述容器主体在一个端部具有容器主体开口部，所述盖体能够相对于所述容器主体开口部装拆且能够封闭所述容器主体开口部，所述连通开口形成在所述容器主体或者所述盖体的至少任意一个上且能够使所述收纳容器的外部空间与所述收纳空间连通，所述气体清洗用过滤器的特征在于，具有：过滤器壳体，其具有能够使所述收纳容器的外部空间的气体与所述收纳空间的气体通气的通气空间；和衬垫，其形成在所述过滤器壳体的所述收纳空间的外侧且以将形成所述通气空间的一部分的喷嘴部的外周面覆盖的方式形成，所述过滤器壳体由热塑性树脂形成，所述衬垫由弹性体形成。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2014.11.12 JP 2014-2298741.一种气体清洗用过滤器，其安装在收纳容器的连通开口上，该收纳容器通过容器主体和盖体而在内部形成有收纳空间，其中，所述容器主体在一个端部具有容器主体开口部，所述盖体能够相对于所述容器主体开口部装拆且能够封闭所述容器主体开口部，所述连通开口形成在所述容器主体或者所述盖体的至少任意一个上且能够使所述收纳容器的外部空间与所述收纳空间连通，所述气体清洗用过滤器的特征在于，具有：过滤器壳体，其具有能够使所述收纳容器的外部空间的气体与所述收纳空间的气体通气的通气空间；和衬垫，其形成在所述过滤器壳体的所述收纳空间的外侧且以将形成所述通气空间的一部分的喷嘴部的外周面覆盖的方式形成，所述过滤器壳体由热塑性树脂形成，所述衬垫由弹性体形成。2.根据权利要求1所述的气体清洗用过滤器，其特征在于，气体清洗用过滤器前端部由在所述喷嘴部的前端部形成在所述收纳空间的外侧方向上的喷嘴前端部、和在所述衬垫的前端部形成在所述收纳空间的外侧方向上的衬垫外侧前端部...

【专利技术属性】
技术研发人员：笠间宣行，永岛刚，
申请(专利权)人：未来儿株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP