化学放大型光致抗蚀剂组合物及其使用方法技术

本发明专利技术涉及化学放大型光致抗蚀剂组合物及其使用方法。光致抗蚀剂组合物包含酚醛聚合物与无含醚部分和/或含羧酸部分的(甲基)丙烯酸酯基共聚物的掺合物及光酸产生剂。该(甲基)丙烯酸酯共聚物包含第一单体，其选自由以下各物组成的组：丙烯酸烷基酯、取代的丙烯酸烷基酯、(甲基)丙烯酸烷基酯、取代的甲基丙烯酸烷基酯及其混合物；和第二单体，其选自由以下各物组成的组：丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸酯或其混合物，该第二单体具有酸可裂解的酯取代基。本文也公开利用该光致抗蚀剂组合物在基板上生成光致抗蚀剂图像的方法。

Chemically amplified photoresist composition and method of use thereof

The present invention relates to chemically amplified photoresist compositions and methods of use thereof. The photoresist composition comprises an admixture of a phenolic polymer with a methyl acrylate copolymer without a ether moiety and / or a carboxylic acid moiety, and a light acid producing agent. The (methyl) acrylate copolymer containing a first monomer, which is selected from each of the following groups: the composition of alkyl acrylate and acrylic acid alkyl ester substituted, (meth) acrylic acid alkyl ester and acrylic acid alkyl ester substituted and mixtures thereof; and the second monomer, which is selected from each of the following groups: acrylic, composition (methyl) acrylate or the mixture of the second monomer having an acid cleavable ester substituent. A method of producing photoresist images on a substrate using the photoresist composition is also disclosed.

【技术实现步骤摘要】
化学放大型光致抗蚀剂组合物及其使用方法本申请是申请日为2010年8月3日、申请号为201080036675.1、专利技术名称为“化学放大型光致抗蚀剂组合物及其使用方法”的中国专利技术专利申请的分案申请。
本专利技术一般地涉及化学放大型光致抗蚀剂组合物及其使用方法。更特别地，该光致抗蚀剂组合物包含酚醛聚合物和(甲基)丙烯酸酯基共聚物的掺合物。
技术介绍
在工业上存在着对由使用光刻技术制造的微电子器件中更高电路密度的需求。增加每个芯片上组件的数目的一种方法是降低芯片上的最小特征尺寸，这需要更高的光刻分辨率。使用较短的波长辐射(例如，190到315nm)提供较高分辨率的潜在可能。然而，在深UV辐射下，相同能量剂量转移较少的光子，因而需要更高曝光剂量来获得所需要的相同光化学响应。另外，在深UV光谱区域中，当前光刻工具具有极大衰减的输出。为提高灵敏度，已开发出几种酸催化的化学放大型光致抗蚀剂组合物，诸如公开于美国专利第4,491,628号及Nalamasu等，“AnOverviewofResistProcessingforDeep-UVLithography”，J.PhotopolymerSc本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光致抗蚀剂组合物，其包含：酚醛聚合物与无含醚部分且无含羧酸部分的(甲基)丙烯酸酯基共聚物的掺合物，该(甲基)丙烯酸酯基共聚物由i)第一单体和ii)第二单体组成，所述第一单体选自由以下各物组成的组：丙烯酸烷基酯、取代的丙烯酸烷基酯、甲基丙烯酸烷基酯、取代的甲基丙烯酸烷基酯及其混合物，所述第二单体选自由以下各物组成的组：(甲基)丙烯酸1‑甲基环戊酯、(甲基)丙烯酸1‑乙基环戊酯、(甲基)丙烯酸1‑乙基环己酯、(甲基)丙烯酸1‑乙基环庚酯、(甲基)丙烯酸1‑乙基环辛酯、(甲基)丙烯酸1‑乙基‑2‑甲氧基环己酯、(甲基)丙烯酸1‑丁基环己酯、(甲基)丙烯酸1‑丁基‑2‑甲氧基环己酯、(甲基)丙烯酸...

【技术特征摘要】
2009.08.26 US 12/547,8081.一种光致抗蚀剂组合物，其包含：酚醛聚合物与无含醚部分且无含羧酸部分的(甲基)丙烯酸酯基共聚物的掺合物，该(甲基)丙烯酸酯基共聚物由i)第一单体和ii)第二单体组成，所述第一单体选自由以下各物组成的组：丙烯酸烷基酯、取代的丙烯酸烷基酯、甲基丙烯酸烷基酯、取代的甲基丙烯酸烷基酯及其混合物，所述第二单体选自由以下各物组成的组：(甲基)丙烯酸1-甲基环戊酯、(甲基)丙烯酸1-乙基环戊酯、(甲基)丙烯酸1-乙基环己酯、(甲基)丙烯酸1-乙基环庚酯、(甲基)丙烯酸1-乙基环辛酯、(甲基)丙烯酸1-乙基-2-甲氧基环己酯、(甲基)丙烯酸1-丁基环己酯、(甲基)丙烯酸1-丁基-2-甲氧基环己酯、(甲基)丙烯酸1-环戊基环戊酯、(甲基)丙烯酸1-异丙基环庚酯、(甲基)丙烯酸2,5-二甲基-1-甲基环己酯及其混合物；及光酸产生剂，其中所述取代的丙烯酸烷基酯或该取代的甲基丙烯酸烷基酯具有含C4-C20内酯的取代基；并且所述丙烯酸烷基酯和甲基丙烯酸烷基酯为甲酯或乙酯；其中以组合物的固体的总重量计，所述(甲基)丙烯酸酯基共聚物为5至少于50重量份，酚醛聚合物大于50重量份至95重量份，且光酸产生剂为0.1至20重量份。2.如权利要求1所述的光致抗蚀剂组合物，其中以该(甲基)丙烯酸酯基共聚物的总重量计，该第一单体为50至90重量％，而该第二单体为10至50重量％。3.如权利要求1所述的光致抗蚀剂组合物，其中该(甲基)丙烯酸酯基共聚物占该光致抗蚀剂组合物的不到50重量％。4.如权利要求1所述的光致抗蚀剂组合物，其中该(甲基)丙烯酸酯基共聚物占该光致抗蚀剂组合物的不到25重量％。5.如权利要求1所述的光致抗蚀剂组合物，其中该(甲基)丙烯酸酯基共聚物的分子量为3千至1万道尔顿。6.如权利要求1所述的光致抗蚀剂组合物，其中该酚醛聚合物的分子量为3千至1万4千道尔顿。7.如权利要求1所述的光致抗蚀剂组合物，其中该酚醛聚合物为酚醛清...

【专利技术属性】
技术研发人员：R·A·迪佩托，R·D·艾伦，P·J·布罗克，H·特鲁昂，
申请(专利权)人：国际商业机器公司，
类型：发明
国别省市：美国,US