【技术实现步骤摘要】
光致抗蚀剂剥离液组合物
本专利技术涉及一种使用环状胺类、极性溶剂类及非极性溶剂类的双组分以上的光致抗蚀剂剥离液组合物。
技术介绍
光致抗蚀剂(photo-resist)是照相平版印刷工艺中不可缺少的材料，而照相平版印刷工艺是用于制造集成电路(Integrated circuit, 1C)、大规模集成电路(large scaleintegration, LSI)、超大规模集成电路(very large scale integration, VLSI)等半导体装置和液晶显示器(Liquid crystal display, IXD)、等离子体显示器(plasma displaydevice, PDP)等图像显示装置的常用工艺之一。照相平板印刷工艺(photo-lithography processing)结束之后,光致抗蚀剂在高温下被剥离溶液去除，在此过程中光致抗蚀剂被去除的同时，下层金属膜会被剥离溶液腐蚀。因此，需要一种具有出色的光致抗蚀剂去除效果，并且可将金属膜的腐蚀降到最低的方法。现有的一般光致抗蚀剂剥离液组合物以胺、溶剂类为基础，或者进一步加入防腐剂等...
【技术保护点】
一种光致抗蚀剂剥离液组合物，包含：10至85重量%的N,N?二甲基丙酰胺、1至30重量%的环状胺类、10至85重量%的质子极性溶剂、及0至50重量%的超纯水。
【技术特征摘要】
2012.08.20 KR 10-2012-00908351.一种光致抗蚀剂剥离液组合物，包含: 10至85重量％的N，N- 二甲基丙酰胺、I至30重量％的环状胺类、10至85重量％的质子极性溶剂、及O至50重量％的超纯水。2.根据权利要求1所述的光致抗蚀剂剥离液组合物，包含: 10至65重量％的N，N- 二甲基丙酰胺、I至15重量％的环状胺类、10至68重量％的质子极性溶剂、及20至40重量％的超纯水。3.根据权利要求1所述的光致抗蚀剂剥离液组合物，其中， 所述质子极性溶剂为选自乙二醇、二乙二醇、三乙二醇、四乙二醇、乙二醇甲醚、乙二醇乙醚、乙二醇丁醚、二乙二醇甲醚、二乙二醇乙醚、二乙二醇丁醚、三乙二...
【专利技术属性】
技术研发人员：许舜范，金炳郁，赵泰杓，尹锡壹，郑世桓，张斗瑛，朴善周，
申请(专利权)人：株式会社东进世美肯，
类型：发明
国别省市：
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