正色调有机溶剂显像的化学增强抗蚀剂制造技术

提供用包含有机显像剂溶剂显像正色调化学增强抗蚀剂的方法，所述有机显像剂溶剂具有单独或者与其它有机溶剂如异丙醇和/或水组合的至少一种多元醇，例如乙二醇和/或甘油。本文所述有机溶剂显像正色调抗蚀剂用于光刻图案形成方法；用于生产半导体器件，例如集成电路(IC)；以及用于其中碱性溶剂不合适的应用，例如用生物分子阵列图案化的芯片的生产或不需要存在酸结构部分的去保护应用。

【技术实现步骤摘要】
正色调有机溶剂显像的化学增强抗蚀剂联合研究协议本文所述专利技术服从InternationalBusinessMachinesCorporation与JSRCorporation之间的联合研究协议。
本专利技术一般性地涉及光致抗蚀剂(photoresist)。更具体而言，本专利技术涉及能够用多元醇基溶剂显像(develop)用于高分辨率成像的正色调(positivetone)抗蚀剂。专利技术背景由于半导体器件特征在尺寸方面持续收缩，满足关于高分辨率、低线边缘粗糙度(lineedgeroughness,LER)和高光速度(photospeed)的光致抗蚀剂性能要求的任务日益困难。同时满足关于分辨率、LER和敏感性的挑战在本领域中称为“RLS权衡”。设计为在碱性基础中显像的当代化学增强(chemicallyemplified)光致抗蚀剂能够达到高光速度，但当特征尺寸接近20nm时，显示出不令人满意的分辨率和LER。相比而言，高性能溶剂显像的非化学增强抗蚀剂，例如PMMA(聚甲基丙烯酸甲酯)抗蚀剂具有优异的分辨率和LER，但在光学成像中具有不可接受的差光速度。光刻法中溶剂显像的使用不是新本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种方法，其包括：在化学增强抗蚀剂中用有机显像剂溶剂将正色调图像显像，其中有机显像剂溶剂包含多元醇，且进一步，其中有机显像剂溶剂具有不多于2.6×10‑4M氢氧根离子。

【技术特征摘要】
2013.02.23 US 13/775,1221.一种方法，其包括：在化学增强抗蚀剂中用有机显像剂溶剂将正色调图像显像，其中有机显像剂溶剂包含乙二醇与异丙醇的混合物或甘油与异丙醇的混合物，且进一步，其中有机显像剂溶剂具有不多于2.6×10-4M氢氧根离子。2.根据权利要求1的方法，其中有机显像剂溶剂具有不多于1.0×10-4M氢氧根离子。3.根据权利要求1的方法，其中有机显像剂溶剂不含氢氧根离子。4.根据权利要求1的方法，其中化学增强抗蚀剂包含选自如下的组成组成的组：分子玻璃、聚羟基苯乙烯、具有一个或多个侧基六氟代醇基团的苯乙烯、丙烯酸酯、甲基丙烯酸酯和甲基丙烯酸酯氟代醇。5.根据权利要求1的方法，其中化学增强抗蚀剂包含苯乙烯分子玻璃。6.根据权利要求5的方法，其中苯乙烯分子玻璃为被2-甲基-2-金刚烷基保护的NORIA分子玻璃。7.根据权利要求1的方法，其中化学增强抗蚀剂包含聚羟基苯乙烯聚合物。8.根据权利要求7的方法，其中聚羟基苯乙烯聚合物为聚(4-羟基苯乙烯-共聚-甲基丙烯酸2-甲基-2-金刚烷基酯)。9.根据权利要求1的方法，其中化学增强抗蚀剂包含甲基丙烯酸酯-氟代醇聚合物。10.根据权利要求9的方法，其中甲基丙烯酸酯-氟代醇聚合物选自聚(5-丙烯酰氧基-2,6-降冰片内酯-共聚-甲基丙烯酸2-甲基-2-金刚烷基酯-共聚-甲基丙烯酸2-[1’,1’,1’-三氟-2’-(三氟甲基)-2’-羟基)丙基-3-降冰片基酯)；聚(5-丙烯酰氧基-2,6-降冰片内酯-共聚-甲基丙烯酸2-甲基-2-环戊基酯-共聚-甲基丙烯酸2-[1’,1’,1’-三氟-2’-(三氟甲基)-2’-羟基)丙基-3-降冰片基酯)；和聚(5-丙烯酰氧基-2,6-降冰片内酯-共聚-甲基丙烯酸2-乙基-2-环戊基酯-共聚-甲基丙烯酸2-乙基-2-金刚烷基酯-共聚-甲基丙烯酸2-[1’,1’,1’-三氟-2’-(三氟甲基)-2’-羟基)丙基-3-降冰片基酯)组成的组。11.根据权利要求1的方法，其中化学增强抗蚀剂包含甲基丙烯酸酯聚合...

【专利技术属性】
技术研发人员：R·D·艾伦，R·阿约西，L·D·玻加诺，W·D·辛斯伯格，L·K·桑德伯格，S·A·斯万松，H·D·特鲁昂，G·M·瓦尔拉夫，
申请(专利权)人：国际商业机器公司，JSR株式会社，
类型：发明
国别省市：美国;US