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提供用包含有机显像剂溶剂显像正色调化学增强抗蚀剂的方法，所述有机显像剂溶剂具有单独或者与其它有机溶剂如异丙醇和/或水组合的至少一种多元醇，例如乙二醇和/或甘油。本文所述有机溶剂显像正色调抗蚀剂用于光刻图案形成方法；用于生产半导体器件，例如集...
该专利属于国际商业机器公司;JSR株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过国际商业机器公司;JSR株式会社授权不得商用。

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