一种TFT用铜刻蚀液废液的安全储存方法技术

本发明专利技术公开了一种TFT用铜刻蚀液废液的安全储存方法，当面板厂Cu刻蚀液废液排放至储液池时，系统启动，将储液池中废液、后储罐中稀释液注入分解罐、稀释后废液通过分解罐分解层分解，产生气体经引风机排入面板厂废气管道；分解后废液经H2O2在线监测，当H2O2监测值低于设计要求时，废液排入冷凝装置进行热交换；当H2O2监测值高于设计要求时，废液重新进入分解罐分解；废液完成热交换后，在线监测温度：当温度低于设计要求时，废液排入后储罐；同时根据情况，适当提升废液处置量，当温度高于设计要求时，减少废液进液量；后储罐中废液达到溢液口，废液排出。

Safe storage method for waste liquid of copper etching liquid used for TFT

The invention discloses copper etching waste liquor of the safe storage method of TFT system, starting when the panel factory Cu etching waste liquor discharged into the liquid storage tank, liquid storage tank, the liquid and the tank after the diluent injection decomposition tank, diluted by the decomposition of waste cans decomposition decomposition, producing gas by fan exhaust pipe into the panel factory; after the decomposition of waste liquor by the on-line monitoring of H2O2, when the H2O2 value is lower than the design requirements of monitoring, waste discharged into the condensing device for heat exchange; when the H2O2 value is higher than the design requirements of monitoring, waste water back into the tank waste decomposition decomposition; complete heat exchange, on-line monitoring of temperature: when the temperature is lower than the design requirements, after the waste discharged into the tank; at the same time according to the situation, appropriate to enhance the amount of waste disposal, when the temperature is higher than the design requirements, reduce waste liquid; waste storage tank to discharge port, Effluent discharge.

【技术实现步骤摘要】
一种TFT用铜刻蚀液废液的安全储存方法
本专利技术属刻蚀液废液领域，尤其涉及一种TFT用铜刻蚀液废液的安全储存方法。
技术介绍
液晶显示装置(LCD，LiquidCrystalDisplay)具有机身薄、省电、无辐射等众多优点，得到广泛的应用，现有液晶显示器包括液晶显示面板及背光模组，通常液晶显示面板又包括TFT阵列基板、CF基板、及在阵列和CF基板之间的液晶。通过给TFT阵列基板供电与否来控制液晶分子改变方向，将背光模组的光线投射到CF基板产生画面，TFT阵列基板上的导电层需要通过刻蚀工艺制成。液晶面板(LCD)电极(Gate、S/D)有两种，一种铝，一种铜，相比较，铜较铝具有优异的电学性能；TFT阵列基板常规采用铝电极，随着液晶显示终端大尺寸化、高解析度以及驱动频率高速化的发展趋势及要求，液晶显示领域技术人员不得不面对TFT阵列中电阻及所其造成的电阻/电容时间延迟问题；而铝电极具有的较高电阻率使得TFT阵列基板像素电极不能够充分充电，随着市场对技术的要求，上述矛盾日益明显。因此，具有较低的电阻率及良好的电迁移能力的铜导线被越来越多的应用到TFT阵列上。据统计，目前全国范围内分布着本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种TFT用铜刻蚀液废液的安全储存方法，其特征在于，包括以下步骤：(1)、当面板厂Cu刻蚀液废液排放至储液池时，废液实时处置系统启动；（2）、系统启动后，将储液池中废液、后储罐中稀释液注入分解罐；（3）、稀释后废液通过分解罐分解层分解，产生气体经引风机排入面板厂废气管道；分解后废液经H2O2在线监测，当H2O2监测值低于设计要求时，废液排入冷凝装置进行热交换；当H2O2监测值高于设计要求时，废液重新进入分解罐分解；（4）、废液完成热交换后，在线监测温度：当温度低于设计要求时，废液排入后储罐；同时根据要求，适当提升废液处置量，当温度高于设计要求时，减少废液进液量；（5）、后储罐中废液达到溢液口，...

【技术特征摘要】
1.一种TFT用铜刻蚀液废液的安全储存方法，其特征在于，包括以下步骤：(1)、当面板厂Cu刻蚀液废液排放至储液池时，废液实时处置系统启动；（2）、系统启动后，将储液池中废液、后储罐中稀释液注入分解罐；（3）、稀释后废液通过分解罐分解层分解，产生气体经引风机排入面板厂废气管道；分解后废液经H2O2在线监测，当H2O2监测值低于设计要求时，废液排入冷凝装置进行热交换；当H2O2监测值高于设计要求时，废液重新进入分解罐分解；（4）、废液完成热交换后，在线监测温度：当温度低于设计要求时，废液排入后储罐；同时根据要求，适当提升废液处置量，当温度高于设计要求时，减少废液进液量；（5）、后储罐中废液达到溢液口，废液排出,进入储罐储存即可。2.根据权利要求1所述的一种TFT用铜刻蚀液废液的安全储存方法，其特征在于：当面板厂Cu刻蚀液废液排放至储液池，液位计监测到废液时，系统启动。3.根据权利要求1所述的一种TFT用铜刻蚀液废液的安全储存方法，其特征在于，分解罐首次运行需加2m3左右纯水。4.根据权利要求1所述的一种TFT用铜刻蚀液废液的安全储存方法，其特征在于，所述的储液池中废液流量<1v、后储罐中稀释液流量为9-11v。5.根据权利要求1所述的一种TFT用铜刻蚀液废液的安全储存方法，其特征在于，步骤（3）中，分解后废液经H2O2在线监测，当H2O2含量<0.1%时，废液进入冷凝装置热交换；当H2O2含量>0.1%时，废液重新进入分解罐分解。6.根据权利要求1所述的一种TFT用铜刻蚀液废液的安全储存方法，其特征在于，步骤（4）中，废液完成热交换后，经在线监测温度：温度≤40℃时，废液排入后储罐；温度>40℃时，则以0.18-22倍循环体积为一次减量的体积，数次逐渐减少储液池原废液进液量；如果H2O2浓度<100ppm，且温度<40...

【专利技术属性】
技术研发人员：倪进娟，罗利，宋斌，
申请(专利权)人：合肥茂腾环保科技有限公司，
类型：发明
国别省市：安徽,34