可有效减缓贾凡尼效应的刻蚀液制造技术

本发明专利技术是有关于一种可有效减缓贾凡尼效应的刻蚀液，其主要是借由将特定比例的刻蚀剂与含氮五元杂环化合物溶于水而制成的刻蚀液；如此，当使用者应用此刻蚀液对包含至少一个第一金属(例如金)与至少一个第二金属(例如铜)的基板进行湿式刻蚀时，该含氮五元杂环化合物会在具有较高还原电位的第一金属上形成有机护膜，进而有效避免第二金属因受到贾凡尼效应(galvanic effect)的影响而导致过度刻蚀的现象。其中该含氮五元杂环化合物的化学结构是如下列化学式1所示：化学式1

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种可有效减缓贾凡尼效应的刻蚀液，其特征在于是应用于对至少包含第一金属与第二金属的基板进行湿式刻蚀制造过程，该刻蚀液是包括：刻蚀剂，是溶于一溶剂之中，以形成刻蚀液；以及含氮五元杂环化合物，是溶于该刻蚀剂之中以作为该湿式刻蚀制造过程之中的有机护膜，其中该刻蚀剂在该溶剂之中的含量是介于5g/L至250g/L之间，且该含氮五元杂环化合物在该溶剂之中的含量是介于0.01g/L至50g/L之间。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：蔡政颖，廖程楷，徐素斐，
申请(专利权)人：芝普企业股份有限公司，
类型：发明
国别省市：中国台湾;71