The invention relates to the field of gas purification, in particular to a plasma catalytic purification gas treatment device. Including the plasma reaction chamber, which is characterized in that the plasma reaction chamber on the left side is distributed with a plurality of catalytic electrodes, a catalytic material room is located on the right side of the catalytic electrode plasma catalytic reaction chamber, the catalytic material interior filled with particle type catalyst material; the plasma reaction chamber provided with a gas inlet on the left side. Plasma reaction chamber is arranged on the right side of the exhaust port and the inlet and outlet are respectively provided with a sensing module. Compared with the prior art, can effectively reduce the energy consumption during operation, improve the reaction efficiency, making the overall gas purification cost is greatly reduced, so that the gas purification, especially VOCs purification treatment can achieve practical and engineering application.
【技术实现步骤摘要】
一种等离子体催化净化气体处理装置
本专利技术涉及气体净化领域,具体的说是一种等离子体催化净化气体处理装置。
技术介绍
大气污染主要包括燃煤、燃油所排放的氧化硫、氧化氮等及可挥发性有机化合物VOCs等。其中氧化硫、氧化氮可通过催化氧化等技术可将其转换为硫酸盐和硝酸盐而去除。VOCs处理目前主要的处理方法有燃烧、吸附、吸收和冷凝等技术,此类技术存在运行费用高、处理效果不理想、易造成二次污染以及安全隐患等问题。如燃烧法适合高浓度的VOCs气体处理,易造成二次污染;活性炭吸附法主要是利用碳材料的大比表面的微孔对有机分子进行吸附,特点是吸附设备简单,但活性炭吸附饱和后需要更换,易造成二次污染,使用成本较高,一般适合浓度较低、流量较小的气体净化。目前新发展的去除VOCs的技术主要包括等光催化氧化和离子体氧化等技术。光催化法一般采用纳米结构二氧化钛作为催化剂,在紫外光照射下可氧化分解气体中的有机物,是一种新的有机物去除技术,适合浓度较低、流量较小的气体净化,特别是气体除臭。但对于较高浓废气,此法能耗较大、效率低、处理效果较差。而采用等离子体处理气体污染物是一种清洁、高效的工艺技术。低温等离子体处理VOCs是目前研究的一个热点,具有设备紧凑、处理效率高、应用范围广等许多潜在优势,但因等离子体产生的方法不同,其处理效果差异较大,发展实用化的等离子体净化处理VOCs的技术显得十分重要。物质有四种形态组成,即固、液、气和等离子态组成,其中宇宙间等离子态占整个物质形态的99.9%以上。等离子体按所产生的方式可分为高温和低温等离子体两类,等离子体中含有大量的活性电子、离子、激发态粒 ...
【技术保护点】
一种等离子体催化净化气体处理装置,包括等离子体催化反应室,其特征在于:所述等离子体催化反应室(2)内的左侧均布有若干催化电极(1),位于催化电极(1)右侧的等离子体催化反应室(2)内设有催化材料室(3),所述催化材料室(3)内填充有颗粒型催化材料;所述等离子体催化反应室(2)的左侧开设有进气口(4),等离子体催化反应室(2)的右侧开设有排气口(5),所述进气口(4)和排气口(5)分别设有一个传感检测模块。
【技术特征摘要】
1.一种等离子体催化净化气体处理装置,包括等离子体催化反应室,其特征在于:所述等离子体催化反应室(2)内的左侧均布有若干催化电极(1),位于催化电极(1)右侧的等离子体催化反应室(2)内设有催化材料室(3),所述催化材料室(3)内填充有颗粒型催化材料;所述等离子体催化反应室(2)的左侧开设有进气口(4),等离子体催化反应室(2)的右侧开设有排气口(5),所述进气口(4)和排气口(5)分别设有一个传感检测模块。2.如权利要求1所述的一种等离子体催化净化气体处理装置,其特征在于:所述等离子体催化反应室(1)由绝缘介质基片(10)、催化薄膜(11)、等离子体正极产生电极(12)、等离子体负极产生电极(13)和高频电源(14)组成,所述绝缘介质基片(10)呈平行板形状,绝缘介质基片(10)的上下表面分别设有一层催化薄膜(11),位于绝缘介质基片(10)上方的催化薄膜(11)的上表面设有等离子体正极产生电极(12),位于绝缘介质基片(10)下方的催化薄膜(11)的下表面设有等离子体负极产生电极(13),所述等离子体正极产生电极(12)和等离子体负极产生电极(13)之间通过高频电源(14)相连。3.如权利要求1所述的一种等离子体催化净化气体处理装置,其特征在于:所述等离子体催化反应室(1)由绝缘介质基片(10)、催化薄膜(11)、等离子体正极产生电极(12)、等离子体负极产生电极(13)和高频电源(14)组成,所述绝缘介质基片(10)呈空心圆筒形管状,绝缘介质基片(10)空心管状的内外侧面分别设有一层催化薄膜(11),位于绝缘介质基片(10)内的催化薄膜(11)内侧设有等离子体负极产生电极(13),位于绝缘介质基片(10)外的催化薄膜(11)外侧设有等离子体正极产生电极(12),所述等离子体正极产生电极(12)和等离子体负极产生电极(13)之间通过高频...
【专利技术属性】
技术研发人员:孙卓,孙新昊,刘素霞,
申请(专利权)人:上海纳晶科技有限公司,
类型:发明
国别省市:上海,31
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