四羧酸系化合物、该化合物的聚酰亚胺及其制造方法技术

技术编号:1582344 阅读:249 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术提供一种新颖的四羧酸系化合物,该化合物作为制造在保持高耐热性的同时兼具高透明性、低介电性、低吸水性、低热膨胀性、溶剂溶解性和蚀刻特性等优异特性的聚酯酰亚胺或聚酰胺酰亚胺的原料单体是有用的。所述四羧酸系化合物以下述通式(1)或(2)表示,其中,A表示2价基团,X↑[1]、X↑[2]、X↑[3]表示氢原子等,R↑[1]、R↑[2]、R↑[3]、R↑[4]表示羧基或者酸酐基,n为1或2,环B表示环状基团。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及降冰片烷等含有双环烷烃结构的新颖的四羧酸系化合 物,即四羧酸、其一酸酐或二酸酐,以及制造该新颖的四羧酸系化合物 的方法。本专利技术还涉及在制造该新颖的四羧酸系化合物的过程中作为中间体 的新颖的酰卤和将该新颖的四羧酸系化合物用于原料单体的至少一部分 而制造出的聚合物及其制造方法。
技术介绍
使四羧酸二酐和二胺聚合而得到的聚酰亚胺树脂显示出优异的耐热 性、耐化学性、机械强度、电特性,因而被用于各种用途。但是,全芳 香族系的聚酰亚胺通常为具有芳环与酰亚胺基连接的较长的共轭体系的 结构,因而在可见光区域具有光吸收,树脂着色成黄色到茶色。因此, 特别是在要求无色透明性的用途中例如在光学材料类用途中使用时受到 限制。作为光学材料用树脂, 一直以来使用聚甲基丙烯酸甲酯或聚碳酸酯, 这些树脂尽管具有优异的透明性,但是耐热性均较低,因而在以较高温 度进行使用的用途中不能得到应用。另外,聚碳酸酯比聚甲基丙烯酸甲 酯具有稍高的耐热性,但是,其双折射高,因而在应用到精度高的光学 用元件中时存在问题。此外, 一直以来也将聚酰亚胺树脂用于印刷电路基板和层间绝缘膜 等。用于这些用途的聚酰亚胺树脂为本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种树脂,该树脂的玻璃化转变温度为200℃以上,该树脂在膜厚为30μm的膜的状态下对400nm的光的透过率为70%以上,并且,将该膜厚为30μm的膜浸渍在25℃的水中24小时后,该膜的吸水率为2.0%以下。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员:日下晴彦大篭祐二山梨尚志
申请(专利权)人:三菱化学株式会社
类型:发明
国别省市:JP[日本]

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