一种天麻素的合成方法技术

本发明专利技术公开一种天麻素的合成方法，包括以下步骤：将4‑甲酰苯基‑2,3,4,6‑四‑0‑乙酰‑β‑D‑吡喃葡萄糖苷和还原剂投入溶剂中，在0至30摄氏度下反应0至3小时；反应完全后，加水淬灭反应；分取有机相，有机相在真空下浓缩后加入2至5倍甲醇；加入有机胺回流反应进行醇解；反应完全后加入活性碳进行脱色，过滤，浓缩，结晶，干燥。采用本发明专利技术的合成方法，减少了生产工艺过程，操作安全简便，成本低，污染小，适合于大规模生产，而且，所制备得到的天麻素产品质量稳定，纯度高于99.9%。

Synthesis method of gastrodin

The invention discloses a method for synthesis of gastrodin, which comprises the following steps: 4 formyl phenyl 2,3,4,6 four 0 acetyl beta D glucopyranoside and reducing agent into the solvent, in 0 to 30 degrees Celsius for 0 to 3 hours after the reaction; the reaction is complete, water quenching taking the reaction; organic phase, organic phase was concentrated under vacuum after adding 2 to 5 times methanol; adding organic amine reflux reaction alcoholysis; after the reaction with activated carbon decolorization, filtration, concentration, crystallization, drying. By using the synthesis method of the invention reduces the production process, safe and convenient operation, low cost, little pollution, suitable for mass production, and the prepared Gastrodia prime product quality is stable, the purity is higher than 99.9%.

【技术实现步骤摘要】
一种天麻素的合成方法
本专利技术涉及药物合成领域，主要涉及一种天麻素的合成方法。
技术介绍
化学合成法制备天麻素现大多生产厂家采用4-甲酰苯基-2,3,4,6-四-0-乙酰-β-D-吡喃葡萄糖苷为重要中间体通过还原、乙酰化、脱保护制得。目前主要的制备方法有以下3种：方法一：4-甲酰苯基-2,3,4,6-四-0-乙酰-β-D-吡喃葡萄糖苷在醇类溶剂中用硼氢化钾或硼氢化钠回流反应后用醋酐进行乙酰化，然后在醇溶液中用甲醇钠中脱保护后，脱色重结晶得天麻素成品，合成路线如下式所示：上述方法采用硼氢化钾或硼氢化钠在高温回流下进行还原，再经过乙酰化后脱保护制得天麻素，此制备方法的操作过程复杂且在高温下还原会产生大量杂质，还原选择性不高，在反应过程中会有大量的氢气产生，有一定的安全隐患，后处理过程复杂。方法二：4-甲酰苯基-2,3,4,6-四-0-乙酰-β-D-吡喃葡萄糖苷用雷尼镍或钯碳下在通入氢气后在高压下进行还原，然后进行脱保护制得天麻素或进行乙酰化再脱保护制得天麻素，合成路线如下式所示：此方法在生产过程中需进行加氢还原，在高压下进行对设备要求较高，用的催化剂高度易燃，操作上有一定的危险性，在生产过程中使用重金属催化剂，有将重金属引入产品会对便用者带来风险。方流三：4-甲酰苯基-2,3,4,6-四-0-乙酰-β-D-吡喃葡萄糖苷在醇类溶剂中用硼氢化钾或硼氢化钠回流反应后还原和脱保护一步完成，合成路线如下式所示：此方法采用硼氢化钾或硼氢化钠在高温回流下进行还原条件剧烈、在反应过程中会有大量的氢气产生，有一定的安全隐患，在高温下还原会产生大量杂质，还原选择性不高。因此，现有技术还有待于改进和发展。
技术实现思路
鉴于上述现有技术的不足，本专利技术的目的在于提供一种天麻素的合成方法，旨在解决现有天麻素的合成过程中存在安全隐患的问题。本专利技术的技术方案如下：一种天麻素的合成方法，其中，包括以下步骤：将4-甲酰苯基-2,3,4,6-四-0-乙酰-β-D-吡喃葡萄糖苷和还原剂投入溶剂中，在0至30摄氏度下反应0至3小时；反应完全后，加水淬灭反应；分取有机相，有机相在真空下浓缩后加入2至5倍甲醇；加入有机胺回流反应进行醇解；反应完全后加入活性碳进行脱色，过滤，浓缩，结晶，干燥。所述的天麻素的合成方法，其中，所述还原剂为三乙酰氧基硼氢化钾或三乙酰氧基硼氢化钠，还原剂的用量为底物重量的0.4~0.6倍。所述的天麻素的合成方法，其中，所述溶剂的用量为底物重量的1至10倍；所述溶剂为酯类溶剂、卤代烃或芳香烃中的一种。所述的天麻素的合成方法，其中，所述酯类溶剂的用量为底物重量的2至5倍；所述溶剂为乙酸乙酯。所述的天麻素的合成方法，其中，有机胺的加入量为底物重量的0.20~0.24倍。所述的天麻素的合成方法，其中，所述有机胺为二乙胺。所述的天麻素的合成方法，其中，结晶过程是采用溶剂法结晶。所述的天麻素的合成方法，其中，加入底物重量的3至5倍的丙酮进行结晶。所述的天麻素的合成方法，其中，加水淬灭反应是在反应物加入底物重量3至5倍的水进行淬灭反应。所述的天麻素的合成方法，其中，还原反应过程是在20至30摄氏度下反应0.5至1小时。有益效果：本专利技术的天麻素的合成方法，与现有技术不同，采用三乙酰氧基硼氢化钾或三乙酰氧基硼氢化钠作为还原剂，使得规模化制备天麻素工艺由原有的三步（还原、乙酰化、脱保护）减少为两步反应（还原、脱保护）减少了生产工艺过程，操作安全简便，成本低，污染小，适合于大规模生产。而且，通过本专利技术所提供的天麻素的合成方法，所制备得到的天麻素产品质量稳定，各项质量指标都高于国家标准，纯度高于99.9%。附图说明图1为本专利技术实施例1中所得产品的HPLC的检测结果图。图2为本专利技术实施例2中所得产品的HPLC的检测结果图。图3为本专利技术实施例3中所得产品的HPLC的检测结果图。图4为本专利技术实施例5中所得产品的HPLC的检测结果图。具体实施方式本专利技术提供一种天麻素的合成方法，为使本专利技术的目的、技术方案及效果更加清楚、明确，以下对本专利技术进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本专利技术，并不用于限定本专利技术。本专利技术所提供的一种天麻素的合成方法，合成路线如下式所示，包括以下步骤：将4-甲酰苯基-2,3,4,6-四-0-乙酰-β-D-吡喃葡萄糖苷投入酯类溶剂中，投入还原剂，在0至30摄氏度下反应0至3小时，反应过程中用TLC进行监控；反应完全后，加水淬灭反应；分取有机相，有机相在真空下浓缩后加入2至5倍甲醇；加入有机胺回流反应进行醇解，反应过程中用TLC进行监控；反应完全后加入活性碳进行脱色，过滤，浓缩至原体积的三分之一，采用溶剂结晶法进行结晶，干燥，得成品。其中，所述酯类溶剂的用量为底物重量的1至10倍，优选地为2至5倍。所述酯类溶剂可以为乙酸乙酯、乙酸丁酯。在本专利技术实施例方案中，所述酯类溶剂采用乙酸乙酯作为具体实施例。另外，所述溶剂还可以为卤代烃、芳香烃。还原剂为三乙酰氧基硼氢化钾或三乙酰氧基硼氢化钠，还原剂的用量为底物重量的0.4~0.6倍左右。这两种还原剂在还原醛、酮中广范使用，反应条件温和，能在常温下能够将底物快速还原，且还原具有很高的选择性，在反应过程中不易产生其它杂质，还原收率高，不会还原4-甲酰苯基-2,3,4,6-四-0-乙酰-β-D-吡喃葡萄糖苷其它基团且在反应过程中不会产生大量氢气安全性大大提高。然而如果直接使用硼氢化钠或硼氢化钾作为还原剂，则在醇类溶剂还原4-甲酰苯基-2,3,4,6-四-0-乙酰-β-D-吡喃葡萄糖苷时，乙酰基团会被部分还原，需再进行一次乙酰化然后进行脱保护，制得中间体后需进行纯化结晶，最后通过醇解制得天麻素；而用硼氢化钠或硼氢化钾在酯类溶剂中对4-甲酰苯基-2,3,4,6-四-0-乙酰-β-D-吡喃葡萄糖苷还原时反应不能进行。优选地，还原反应过程中，是在20至30摄氏度下反应0.5至1小时。加水淬灭反应可以是将反应物加入到底物重量3至5倍的水中淬灭反应。醇解过程中所采用的有机胺，可以为脂肪胺，如二乙胺、异丙胺、丁二胺、己二胺等等。在本专利技术中采用的二乙胺作为实施例,有机胺的加入量为底物重量的0.20~0.24倍。所述溶剂法结晶可以是加入底物重量的3至5倍的丙酮进行结晶，所采用的溶剂除了丙酮以外，还可以是酯类溶剂、卤代烃溶剂以及醇类溶剂。本专利技术所提供的合成方法，将规模化制备天麻素工艺由原有的三步（还原、乙酰化、脱保护）减少为两步反应（还原、脱保护）减少了生产工艺过程，操作安全简便，成本低，污染小，适合于大规模生产。而且，通过本专利技术所提供的天麻素的合成方法，所制备得到的天麻素产品质量稳定，各项质量指标都高于国家标准，纯度高于99.9%。以下通过实施例对本专利技术做进一步说明。实施例1向反应器中投入300g乙酸乙酯后投入50g三乙酰氧基硼氢化钾，然后投入100g4-甲酰苯基-2,3,4,6-四-0-乙酰-β-D-吡喃葡萄糖苷，温度控制在20至30℃保温反应，取样用TLC监控反应，反应1小时反应完全，将反应液加入到300ml水中淬灭，然后分取上层有机相，有机相在真空下浓缩至固体，然后加入300g甲醇和22g二乙胺回流反应2小时，取样用TLC监控反应，反应完全后加入10g活性碳脱色10分钟，过滤，将滤液浓缩至原本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种天麻素的合成方法，其特征在于，包括以下步骤：将4‑甲酰苯基‑2,3,4,6‑四‑0‑乙酰‑β‑D‑吡喃葡萄糖苷和还原剂投入溶剂中，在0至30摄氏度下反应0至3小时；反应完全后，加水淬灭反应；分取有机相，有机相在真空下浓缩后加入2至5倍甲醇；加入有机胺回流反应进行醇解；反应完全后加入活性碳进行脱色，过滤，浓缩，结晶，干燥。

【技术特征摘要】
1.一种天麻素的合成方法，其特征在于，包括以下步骤：将4-甲酰苯基-2,3,4,6-四-0-乙酰-β-D-吡喃葡萄糖苷和还原剂投入溶剂中，在0至30摄氏度下反应0至3小时；反应完全后，加水淬灭反应；分取有机相，有机相在真空下浓缩后加入2至5倍甲醇；加入有机胺回流反应进行醇解；反应完全后加入活性碳进行脱色，过滤，浓缩，结晶，干燥。2.根据权利要求1所述的天麻素的合成方法，其特征在于，所述还原剂为三乙酰氧基硼氢化钾或三乙酰氧基硼氢化钠，还原剂的用量为底物重量的0.4~0.6倍。3.根据权利要求1所述的天麻素的合成方法，其特征在于，所述溶剂的用量为底物重量的1至10倍；所述溶剂为酯类溶剂、卤代烃或芳香烃中的一种。4.根据权利要求3所述的天麻素的合成方法...

【专利技术属性】
技术研发人员：王兴明，
申请(专利权)人：重庆西南制药二厂有限责任公司，
类型：发明
国别省市：重庆,50