在印刷线路板上用干膜法制造选择性镍钯金的方法技术

本发明专利技术涉及通过在印刷线路板上用干膜法制造选择性镍钯金的方法。所述在印刷线路板上用干膜法制造选择性镍钯金的方法包括第一次贴干膜；对第一层干膜进行曝光处理；第一层干膜进行显影处理；将第二层干膜贴附在所述第一层干膜上；将第二层干膜进行曝光处理，且第二层干膜具有与第一层干膜相同的曝光区域；第二层干膜进行显影处理，以形成图形开窗；对经过上述步骤处理得到的线路板上镀镍钯金；最后，去除第一层干膜及第二层干膜。本发明专利技术采用两次干膜的方法，避免了湿膜法对钯缸的污染，增加了干膜成膜厚度、避免了干膜破裂而导致的渗金不良，且方法简单易行。

Method of manufacturing a selective nipdau dry film method on printed circuit board

The present invention relates to a method of manufacturing a selective nipdau dry film method on printed circuit board. The method on a printed circuit board using dry film manufacturing method of selective nickel palladium including the first paste dry film; the first layer of dry film exposure is carried out; the first layer of dry film developing process; the second layer of dry film attached to the first layer of dry film; the second layer of dry film exposure light treatment, and the second layer is the first layer of dry film and dry film the same exposure area; second layer of dry film developing process, to form a graphic window; on board after the above processing steps on the nickel palladium; finally, removing the first layer and two layer of dry film dry film. The invention adopts the method of two dry films, avoids the pollution of the wet membrane method to the palladium cylinder, increases the thickness of the dry film formation, avoids the seepage of the metal caused by the rupture of the dry film, and has simple and easy method.

【技术实现步骤摘要】
在印刷线路板上用干膜法制造选择性镍钯金的方法
本专利技术涉及一种电路板制造方法，特别是一种在印刷线路板上用干膜法制造选择性镍钯金的方法。
技术介绍
电路板，又可称之为线路板、PCB(PrintedCircuitBoard，印刷电路板)。电路板具有背对设置的焊接面及元件面。焊接面用于通过焊接实现电子器件的连接。元件面，又可称之为器件面，用于设置电子器件。电路板为了达到相应的承载、连接电子器件等功能需求，一般需要进行相应的工艺处理。特别是随着电子产品朝着轻、薄、高密度化、多功能化发展，电路板上集成电子器件的密度也越来越大，所需要采用的封装技术也越来越多样化。相应地，电路板加工技术要求也日益严格及多样化。
技术实现思路
本专利技术的目的之一是为了克服现有技术中的不足，提供一种污染小、膜厚度足的在印刷线路板上用干膜法制造选择性镍钯金的方法。为实现以上目的，本专利技术通过以下技术方案实现：一种在印刷线路板上用干膜法制造选择性镍钯金的方法，其特征在于，包括如下步骤：(1)第一次贴干膜，将第一层干膜贴附在线路板的导电层上；(2)第一次曝光，将第一层干膜进行曝光处理；(3)第一次显影，将第一层干膜进行显影处理，以形成图形开窗；(4)第二次贴干膜，将第二层干膜贴附在所述第一层干膜上；(5)第二次曝光，将第二层干膜进行曝光处理，且第二层干膜具有与第一层干膜相同的曝光区域；(6)第二次显影，将第二层干膜进行显影处理，以形成图形开窗；(7)对经过步骤(6)处理得到的线路板上镀镍钯金；(8)去除第一层干膜及第二层干膜。优选地，在步骤(1)之前，还包括步骤：在线路板上制造金手指。优选地，在步骤(8)之后，还包括步骤：对线路板进行打线键合。优选地，步骤(1)第一次贴干膜和/或步骤(2)第二次贴干膜采用真空贴膜。优选地，所述第一层干膜和/或第二层干膜具有抗镀金、抗酸性及抗碱性。优选地，所述第一层干膜与第二干膜的厚度相同。优选地，所述第一层干膜与第二层干膜的厚度均为40-50μm。优选地，步骤(7)镀镍钯金处理的镍缸、金缸的浸泡温度为80-90℃。与现有技术相比，本专利技术在印刷线路板上用干膜法制造选择性镍钯金的方法，通过两次干膜处理，替代了湿膜法，避免了湿膜析出物污染钯缸而导致的钯缸寿命损减，且提升了钯沉积质量。同时，本专利技术在印刷线路板上用干膜法制造选择性镍钯金的方法，能够避免因线路板的导电层铜线间隙中存在的气体使得干膜在高温时鼓泡而导致的干膜厚度变薄，进而避免在干膜厚度过薄时发生破裂而导致渗金不良的问题。因而，本专利技术采用两次干膜的方法，避免了湿膜法对钯缸的污染，增加了干膜成膜厚度，避免了因干膜破裂而导致的渗金不良，且方法简单易行。附图说明图1为本专利技术提供的一种在印刷线路板上用干膜法制造选择性镍钯金的方法的流程图。具体实施方式下面结合附图对本专利技术进行详细的描述：请参阅图1，其为本专利技术提供的在印刷线路板上用干膜法制造选择性镍钯金的方法步骤图。步骤S101：第一次贴干膜，将第一层干膜贴附在线路板的导电层上；步骤S102：第一次曝光，将第一层干膜进行曝光处理；步骤S103：第一次显影，将第一层干膜进行显影处理，以形成图形开窗；步骤S104：第二次贴干膜，将第二层干膜贴附在所述第一层干膜上；步骤105：第二次曝光，将第二层干膜进行曝光处理，且该第二层干膜具有与第一层干膜相同的曝光区域；步骤S106：第二次显影，将第二层干膜进行显影处理，以形成与第一层干膜上相同且正对重叠的图形开窗；步骤S107：对经过步骤S106处理得到的线路板上镀镍钯金；步骤S108：去除第一层干膜及第二层干膜。在本实施例中，为了提供更高的通用性能，以增强连接性能，在步骤1之前，还包括步骤：在线路板上制造金手指。为了保护金手指，避免污染，上述“选择性”也即是在只能在非金手指所在的区域进行镀镍钯金。为了提升表面封装性能，在本实施例中，通过步骤8得到的线路板进行打线键合(Wirebonding)处理。通过镍钯金表面处理的线路板具有优良的耐储时间、焊点更可靠，使得打线键合能够得到更广泛应用。为了提升干膜贴附在线路板的导电层上的结合力，步骤1中采用真空贴膜的方式将第一层干膜贴附在线路板的导电层上。当然，为了提升第二层干膜贴附在第一层干膜上的结合力，步骤4中采用真空贴膜的方式将第二层干膜贴附在第一层干膜上。为了适应不同的酸碱环境(譬如钯缸为碱性、镍金缸为酸性)且提升成膜质量，在本实施例中，所述第一层干膜、第二层干膜具有抗镀金、抗酸性及抗碱性。为了提高材料的可替换性及便于取放干膜，所述第一层干膜与第二层干膜的厚度相同。进一步地，在本实施例中，所述第一层干膜、第二层干膜的厚度均为40—50μm(微米)。因而，通过两次贴膜，最终得到的干膜总厚度为80-100μm，从而提高了厚度，避免了因干膜破裂导致的渗金不良的问题，从而能够获得较高质量的镍钯金镀层。为了提升镍钯金镀层的质量，在本实施例中，进行步骤7中的镍钯金的浸泡处理的镍缸、金缸的温度为80-90℃。需要说明的是，在本专利技术中所提及的镀镍钯金，也即是通过依次通过镍缸、钯缸、金缸进行镀镍、镀钯、镀金处理。另外，步骤4将第二层干膜可以选择与第一层干膜相同的形状及结构，且将第二层干膜对准覆盖在第一层干膜上。为了表述方便，在本专利技术中提及的“步骤1”、“(1)”、“步骤(1)”、“步骤S101”及“S101”均表示第一个步骤，其他步骤表述方式依次类推。以上仅为本专利技术较佳的实施例，并不用于局限本专利技术的保护范围，任何在本专利技术精神内的修改、等同替换或改进等，都涵盖在本专利技术的权利要求范围内。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种在印刷线路板上用干膜法制造选择性镍钯金的方法，其特征在于，包括如下步骤：(1)第一次贴干膜，将第一层干膜贴附在线路板的导电层上；(2)第一次曝光，将第一层干膜进行曝光处理；(3)第一次显影，将第一层干膜进行显影处理，以形成图形开窗；(4)第二次贴干膜，将第二层干膜贴附在所述第一层干膜上；(5)第二次曝光，将第二层干膜进行曝光处理，且第二层干膜具有与第一层干膜相同的曝光区域；(6)第二次显影，将第二层干膜进行显影处理，以形成图形开窗；(7)对经过步骤(6)处理得到的线路板上镀镍钯金；(8)去除第一层干膜及第二层干膜。

【技术特征摘要】
1.一种在印刷线路板上用干膜法制造选择性镍钯金的方法，其特征在于，包括如下步骤：(1)第一次贴干膜，将第一层干膜贴附在线路板的导电层上；(2)第一次曝光，将第一层干膜进行曝光处理；(3)第一次显影，将第一层干膜进行显影处理，以形成图形开窗；(4)第二次贴干膜，将第二层干膜贴附在所述第一层干膜上；(5)第二次曝光，将第二层干膜进行曝光处理，且第二层干膜具有与第一层干膜相同的曝光区域；(6)第二次显影，将第二层干膜进行显影处理，以形成图形开窗；(7)对经过步骤(6)处理得到的线路板上镀镍钯金；(8)去除第一层干膜及第二层干膜。2.根据权利要求1所述的在印刷线路板上用干膜法制造选择性镍钯金的方法，其特征在于：在步骤(1)之前，还包括步骤：在线路板上制造金手指。3.根据权利要求1所述的在印刷线路板上用干膜法制造选择性镍钯金的方法，其特征...

【专利技术属性】
技术研发人员：时睿智，黄伟，高群锋，罗人飞，
申请(专利权)人：上海美维电子有限公司，
类型：发明
国别省市：上海,31