The invention provides a nickel foam substrate direct growth of carbon nanotube preparing method of battery electrode, which comprises the following steps: catalytic and substrate material selection of nickel foam carbon nanotubes chemical vapor deposition, chemical and ultrasonic cleaning on nickel foam substrate; CVD reactor, gas and chemical growth in CVD the reaction device of nickel foam substrate directly by carbon nanotube deposition, growth temperature of 600 at 900 C, the hydrocarbon gas and carrier gas flow ratio (10 40sccm (100): 400sccm), growth pressure in 1 760Torr, 1 30min growth time. The advantages of this invention is to a significant role to enhance the performance of the battery device, CNT nickel foam substrate surface area and electrochemical activity increased significantly, the performance cycle life of Ni MH battery CNT nickel foam substrate based on improved.
【技术实现步骤摘要】
泡沫镍基底上直接生长碳纳米管来制备电池电极的方法
本专利技术属于碳纳米管应用领域,具体是指泡沫镍基底上直接生长碳纳米管来制备泡沫镍电池电极的方法。
技术介绍
泡沫镍具有优异的催化活性、呈多孔结构、表面积大,在镍氢电池、超级电容器等多种电池能源器件中,泡沫镍是制备电池电极的重要材料。提高泡沫镍的催化活性、多孔性、导电性等,对于增强电池器件的性能有重要意义。碳纳米管(CNTs)具有典型的层状中空结构特征、较高的长径比、高机械强度、稳定的化学性质,使得它在电池能源器件领域的应用得到广泛关注和研究。因此,将CNTs与泡沫镍相结合,是提高相关电池能源器件性能的一条有效途径。在现有技术中,泡沫镍上生长CNTs的工艺中,常用的手段是先沉积一层催化剂,再经CVD进行CNTs生长。受CNTs生长机制的制约,因而这种方法存在一些固有缺陷,包括:(1)在结构性能方面,CNT-催化金属薄膜-基底之间难以形成强烈有机的结合,在不同的应用条件冲击下,CNT薄膜易脱落,直接影响器件的性能和寿命;(2)CNT-催化金属薄膜-基底结构的导电性能不佳,影响电子、能源等器件的性能;(3)CNT-催化金属薄膜-基底结构的非紧密结合会造成较大的热耗散,不但会直接影响能源器件的效率等特性,还会加速器件的老化。
技术实现思路
本专利技术的目的是为了克服现有技术存在的缺点和不足,而提供一种泡沫镍基底上直接生长碳纳米管来制备泡沫镍电池电极的方法。通过该方法碳纳米管在泡沫镍基底上生长均匀、晶体性好、与基底结合力强且工艺步骤简单高效,从而提高了其作为泡沫镍电池电极的性能。为实现上述目的,本专利技术的技术方案包括以 ...
【技术保护点】
泡沫镍基底上直接生长碳纳米管来制备电池电极的方法,其特征在于,包括以下步骤:⑴选用泡沫镍做碳纳米管化学气相沉积反应的催化与基底材料,对泡沫镍基底进行化学和超声清洁;⑵设置CVD反应装置,并在CVD反应装置中对泡沫镍基底直接进行碳纳米管的化学气相沉积生长,所述CVD反应装置包括管式炉、设置于管式炉一侧的进气通道、以及设置于管式炉另一端的真空抽气泵,将泡沫镍基底用耐高温托盘承载、放置在管式炉中间,用真空抽气泵将管式炉抽至压强<1 Torr的真空状态,同时对管式炉进行加热,并向石英炉内通入载气,当管式炉加热温度达到600‑900°C时,向炉中通入适当流量比的碳氢气体,该碳氢气体与载气的流量比为(10‑40sccm) : (100‑400sccm),并控制反应炉内的压力在1‑760Torr, 开始1‑30min的碳纳米管生长,生长结束后,停止加热,关闭碳氢气源,维持载气通入,让反 应炉降温至室温,取出样品。
【技术特征摘要】
1.泡沫镍基底上直接生长碳纳米管来制备电池电极的方法,其特征在于,包括以下步骤:⑴选用泡沫镍做碳纳米管化学气相沉积反应的催化与基底材料,对泡沫镍基底进行化学和超声清洁;⑵设置CVD反应装置,并在CVD反应装置中对泡沫镍基底直接进行碳纳米管的化学气相沉积生长,所述CVD反应装置包括管式炉、设置于管式炉一侧的进气通道、以及设置于管式炉另一端的真空抽气泵,将泡沫镍基底用耐高温托盘承载、放置在管式炉中间,用真空抽气泵将管式炉抽至压强<1Torr的真空状态,同时对管式炉进行加热,并向石英炉内通入载气,当管式炉加热温度达到600-900°C时,向炉中通入适当流量比的碳氢气体,该碳氢气体与载气的流量比为(10-40sccm):(100-400sccm),并控制反应炉内的压力在1-760Torr,开始1-3...
【专利技术属性】
技术研发人员:余兴华,易秋珍,钟建夫,朱济群,
申请(专利权)人:常德力元新材料有限责任公司,
类型:发明
国别省市:湖南,43
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