光直写成像设备以及系统技术方案

本发明专利技术提供了一种光直写成像设备以及系统，涉及光刻技术领域，包括精密位移平台、精密位移平台控制器、空间光调制器、空间光调制器控制模块、光源、光源控制器；精密位移平台每移动一个设定的触发距离，精密位移平台控制器分别向空间光调制器控制模块与光源控制器输出一个脉冲信号；空间光调制器控制模块根据每次接收到的脉冲信号的触发沿，控制空间光调制器的内部镜片装置运行一个固定时间的过渡过程；光源控制器根据每次接收到的脉冲信号的触发沿，控制光源发出脉冲光的占空比。实现了在镜片装置微镜翻转的过渡过程中，关闭光源输出，减少了成像系统杂散光，提高了印制电路板的曝光效果。

Optical direct writing imaging device and system

The present invention provides a direct writing optical imaging equipment and system, relates to the technical field of lithography, including precision displacement platform, precision displacement platform controller, spatial light modulator, spatial light modulator control module, light source, light source controller; precision displacement platform moving one set trigger distance precision displacement platform to spatial light controller modulator control module and light source controller outputs a pulse signal; spatial light modulator control module according to the pulse signal received by each trigger along the transition process, internal lens device control spatial light modulator operating a fixed time; the light source controller according to the pulse signal received by each of the trigger pulse light emitted from the light source control. The duty ratio. The utility model realizes the output of the light source in the transition process of the micro mirror turning of the lens device, reduces the stray light of the imaging system, and improves the exposure effect of the printed circuit board.

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及光刻
，尤其是涉及一种光直写成像设备以及系统。
技术介绍
光刻技术是用于在衬底表面上印刷具有特征的构图，这样的衬底可包括用于制造半导体器件、多种集成电路、平面显示器(例如液晶显示器)、电路板、生物芯片、微机械电子芯片、光电子线路芯片等的芯片。目前，多数印制电路板(PrintedCircuitBoard，简称PCB板)光直接成像系统都是采用连续型光源，使用脉冲光源必须与空间光调制器的频率匹配。目前在印刷电路板无掩膜连续光直接成像系统中，空间光调制器多基于数字微镜器件(DigitalMicromirrorDevice，简称DMD)，待曝光基板在精密位移平台上，精密位移平台每移动一段固定的距离，通过同步脉冲信号触发空间光调制器的控制器，控制空间光调制器内部的DMD镜片复位并翻转一次，DMD在这一个周期的复位及翻转的过渡过程并不是我们需要的有效工作状态。但是，在这期间连续光的光源一直照射在DMD的微镜上，带来了其技术问题：在过渡过程光源一直在打开状态，被微镜反射的光会投射到成像镜筒中成为杂散光，杂散光投射到基板上的部分会影响曝光效果。
技术实现思路
有鉴于此，本专利技术的目的在于提供一种光直写成像设备以及系统，实现了在DMD微镜翻转的过渡过程中，关闭光源输出，减少了成像系统杂散光，提高了印制电路板的曝光效果。第一方面，本专利技术实施例提供了一种光直写成像设备，包括：精密位移平台、精密位移平台控制器、空间光调制器、空间光调制器控制模块、光源、光源控制器；精密位移平台每移动一个设定的触发距离，精密位移平台控制器分别向空间光调制器控制模块与光源控制器输出一个脉冲信号；空间光调制器控制模块根据每次接收到的脉冲信号的触发沿，控制空间光调制器的内部镜片装置运行一个固定时间的过渡过程；光源控制器根据每次接收到的脉冲信号的触发沿，控制光源发出脉冲光的占空比。结合第一方面，本专利技术实施例提供了第一方面的第一种可能的实施方式，其中，光源控制器在接收到脉冲信号的触发沿时，控制光源延迟固定时间后发出脉冲光，并在接收到下一个脉冲信号的触发沿时关闭光源。结合第一方面，本专利技术实施例提供了第一方面的第二种可能的实施方式，其中，过渡过程包括镜片装置复位与加载曝光数据。结合第一方面，本专利技术实施例提供了第一方面的第三种可能的实施方式，其中，光源为脉冲激光光源或脉冲LED光源。结合第一方面，本专利技术实施例提供了第一方面的第四种可能的实施方式，其中，镜片装置为数字微镜器件或液晶装置。结合第一方面，本专利技术实施例提供了第一方面的第五种可能的实施方式，其中，触发沿为上升沿或下降沿。结合第一方面，本专利技术实施例提供了第一方面的第六种可能的实施方式，其中，精密位移平台控制器用于控制精密位移平台的移动，移动方式为在横向做步进运动，以及在纵向做匀速直线运动。第二方面，本专利技术实施例还提供一种光直写成像系统，包括：主控计算机、收光模块、成像镜头，以及如第一方面的光直写成像设备；主控计算机用于将曝光数据发送到空间光调制器控制模块；脉冲光源控制器用于控制光源经过收光模块投射到空间光调制器的镜片装置上；精密位移平台用于承载曝光基板；空间光调制器用于将镜片装置上显示的图形经过成像镜头显示在精密位移平台上的曝光基板上。结合第二方面，本专利技术实施例提供了第二方面的第一种可能的实施方式，其中，主控计算机还用于将精密位移平台的运动指令发送到精密位移平台控制器。结合第二方面，本专利技术实施例提供了第二方面的第二种可能的实施方式，其中，由光源、收光模块、空间光调制器、空间光调制器控制模块、成像镜头以及光源控制器组成的结构为至少一组。本专利技术实施例带来了以下有益效果：本专利技术实施例提供的光直写成像设备，包括光源、光源控制器、精密位移平台、精密位移平台控制器、空间光调制器以及空间光调制器控制模块；精密位移平台控制器在精密位移平台每移动一个设定的触发距离时，分别向光源控制器以及空间光调制器控制模块发送一个脉冲信号；空间光调制器控制模块在每次接收到脉冲信号的触发沿时，控制空间光调制器内部的镜片装置运行一个固定时间的过渡过程；光源控制器在每次接收到脉冲信号的触发沿时，控制光源发出脉冲光的占空比。通过光源控制器控制光源发出脉冲光的占空比，以此来实现在空间光调制器内部的镜片装置运行微镜翻转的过渡过程中，关闭光源输出，在空间光调制器运行图形加载的过渡过程完成后再打开光源，减少了成像系统杂散光，提升了印制电路板的曝光效果，提高了曝光的可靠性。本专利技术的其他特征和优点将在随后的说明书中阐述，并且，部分地从说明书中变得显而易见，或者通过实施本专利技术而了解。本专利技术的目的和其他优点在说明书、权利要求书以及附图中所特别指出的结构来实现和获得。为使本专利技术的上述目的、特征和优点能更明显易懂，下文特举较佳实施例，并配合所附附图，作详细说明如下。附图说明为了更清楚地说明本专利技术具体实施方式或现有技术中的技术方案，下面将对具体实施方式或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本专利技术的一些实施方式，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为本专利技术实施例提供的光直写成像设备的结构示意图；图2为本专利技术实施例中脉冲信号的时间顺序图；图3为本专利技术实施例提供的光直写成像系统的结构示意图；图4为本专利技术实施例提供的光直写成像系统的具体实施过程流程图。图标：1-光直写成像设备；2-精密位移平台；3-精密位移平台控制器；4-空间光调制器；5-空间光调制器控制模块；6-光源；7-光源控制器；10-光直写成像系统；11-主控计算机；12-收光模块；13-成像镜头；14-曝光基板。具体实施方式为使本专利技术实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图对本专利技术的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。目前，空间光调制器内部的镜片装置在运行过渡过程时，连续光的光源一直照射在镜片装置上，被镜片装置反射的光会投射到成像镜筒中成为杂散光，杂散光投射到基板上的部分会影响曝光效果，基于此，本专利技术实施例提供的一种光直写成像设备以及系统，可以实现在镜片装置翻转的过渡过程中，关闭光源输出，减少了成像系统杂散光，提高了印制电路板的曝光效果。为便于对本实施例进行理解，首先对本专利技术实施例所公开的一种光直写成像设备以及系统进行详细介绍。实施例一：如图1所示，本专利技术实施例提供的光直写成像设备1，包括精密位移平台2、精密位移平台控制器3、空间光调制器4、空间光调制器控制模块5、光源6与光源控制器7。本实施例中，精密位移平台控制器3用于控制精密位移平台2的移动，移动方式为在横向X轴方向做步进运动，以及在纵向Y轴方向做匀速直线运动。精密位移平台2上承载待曝光基板，基板位于光直写成像设备1的最佳焦面上，精密位移平台2匀速运动进入设定触发信号窗口后，沿着Y轴方向每移动间隔一个设定的触发距离，精密位移平台控制器3同步输出一个脉冲信号，每一个脉冲信号分别被发送到空间光调制器控制模块5和光源控制器7。进一步的是，每一个脉冲信号触发空间光调制器控本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光直写成像设备，其特征在于，包括：精密位移平台、精密位移平台控制器、空间光调制器、空间光调制器控制模块、光源、光源控制器；所述精密位移平台每移动一个设定的触发距离，所述精密位移平台控制器分别向所述空间光调制器控制模块与所述光源控制器输出一个脉冲信号；所述空间光调制器控制模块根据每次接收到的所述脉冲信号的触发沿，控制所述空间光调制器的内部镜片装置运行一个固定时间的过渡过程；所述光源控制器根据每次接收到的所述脉冲信号的触发沿，控制所述光源发出脉冲光的占空比。

【技术特征摘要】
1.一种光直写成像设备，其特征在于，包括：精密位移平台、精密位移平台控制器、空间光调制器、空间光调制器控制模块、光源、光源控制器；所述精密位移平台每移动一个设定的触发距离，所述精密位移平台控制器分别向所述空间光调制器控制模块与所述光源控制器输出一个脉冲信号；所述空间光调制器控制模块根据每次接收到的所述脉冲信号的触发沿，控制所述空间光调制器的内部镜片装置运行一个固定时间的过渡过程；所述光源控制器根据每次接收到的所述脉冲信号的触发沿，控制所述光源发出脉冲光的占空比。2.根据权利要求1所述的光直写成像设备，其特征在于，所述光源控制器在接收到所述脉冲信号的触发沿时，控制所述光源延迟所述固定时间后发出脉冲光，并在接收到下一个脉冲信号的触发沿时关闭光源。3.根据权利要求1或2所述的光直写成像设备，其特征在于，所述过渡过程包括所述镜片装置复位与加载曝光数据。4.根据权利要求1或2所述的光直写成像设备，其特征在于，所述光源为脉冲激光光源或脉冲LED光源。5.根据权利要求1或2所述的光直写成像设备，其特征在于，所述镜片装置为数字微镜器件或液晶装置。6.根...

【专利技术属性】
技术研发人员：王喜宝，
申请(专利权)人：天津津芯微电子科技有限公司，
类型：发明
国别省市：天津;12