一种曝光装置制造方法及图纸

技术编号:15274576 阅读:152 留言:0更新日期:2017-05-04 16:51
本实用新型专利技术公开了一种曝光装置,包括位于掩膜板的出光侧的图像采集单元和与图像采集单元连接的处理单元;图像采集单元用于采集曝光过程中由掩膜板的出射光呈现的掩膜板图像,将采集的掩膜板图像发送给处理单元;处理单元用于接收图像采集单元发送的掩膜板图像,将接收的掩膜板图像与预存的参考图像进行比较,在掩膜板图像与参考图像一致时确定掩膜板使用正确且掩膜板的表面无异物,在掩膜板图像与参考图像不一致时确定掩膜板使用错误和/或掩膜板的表面存在异物;这样,利用上述曝光装置进行曝光工艺的过程中,可以及时发现掩膜板使用错误和掩膜板表面存在异物的问题,从而可以及时停止曝光工艺并采取有效措施,进而可以提高显示面板的制作良率。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及显示
,尤其涉及一种曝光装置
技术介绍
在显示面板的制作过程中,曝光工艺是较为常见的制作工艺。曝光工艺一般通过曝光装置来实现。现有的曝光装置,如图1所示,包括:光源101、掩膜板102、用于承载掩膜板102的第一载台103、光学结构104以及用于承载待曝光基板的第二载台105;其中,光学结构104一般采用由梯形镜106、凹面镜107和凸面镜108组成的UM(UltraMirror)结构,光源101则采用圆弧光源,从光学结构104出射的光为圆弧光。在曝光工艺开始之前,曝光装置通常会对掩膜板进行检查,确认掩膜板的表面无异物,以避免由于掩膜板的表面存在异物导致显示面板出现短路或断路的问题,然而,整个曝光过程无法保证无尘操作,且曝光装置无法在曝光过程中对掩膜板进行检查,从而无法及时发现掩膜板的表面存在异物进而及时停止曝光工艺并采取有效措施,只有在批量制作的显示面板出现不良之后才发现掩膜板的表面存在异物,这势必会影响显示面板的制作良率。并且,曝光装置是通过读取人工放置的标签来选取相应的掩膜板进行曝光工艺,一旦标签放置错误,就会出现掩膜板使用错误的问题,而现有的曝光装置无法自动检测使用的掩膜板是否正确,从而无法及时发现掩膜板使用错误进而及时停止曝光工艺并采取有效措施,这同样会影响显示面板的制作良率。因此,如何及时发现掩膜板使用错误和掩膜板表面存在异物的问题,是本领域技术人员亟需解决的技术问题。
技术实现思路
有鉴于此,本技术实施例提供了一种曝光装置,用以及时发现掩膜板使用错误和掩膜板表面存在异物的问题。因此,本技术实施例提供了一种曝光装置,包括:位于掩膜板的出光侧的图像采集单元和与所述图像采集单元连接的处理单元;其中,所述图像采集单元,用于采集曝光过程中由所述掩膜板的出射光所呈现的掩膜板图像,将采集的所述掩膜板图像发送给所述处理单元;所述处理单元,用于接收所述图像采集单元发送的所述掩膜板图像,将接收的所述掩膜板图像与预存的参考图像进行比较;在所述掩膜板图像与所述参考图像一致时,确定所述掩膜板使用正确且所述掩膜板的表面无异物;在所述掩膜板图像与所述参考图像不一致时,确定所述掩膜板使用错误和/或所述掩膜板的表面存在异物。在一种可能的实现方式中,在本技术实施例提供的上述曝光装置中,还包括:位于所述掩膜板的出光侧且位于待曝光基板的入光侧的分光单元;所述分光单元,用于将所述掩膜板的出射光中的一部分透射至所述待曝光基板,另一部分反射至所述图像采集单元;所述图像采集单元,位于所述分光单元的反射光的出光侧,用于实时采集曝光过程中由所述掩膜板的出射光被所述分光单元反射后所呈现的所述掩膜板图像。在一种可能的实现方式中,在本技术实施例提供的上述曝光装置中,所述图像采集单元,用于在一个曝光扫描时间内采集由所述掩膜板的出射光被所述分光单元反射后所呈现的所述掩膜板图像。在一种可能的实现方式中,在本技术实施例提供的上述曝光装置中,还包括:用于承载待曝光基板的载台;所述图像采集单元,位于所述载台内,用于在所述待曝光基板与下一基板的曝光间隙采集由所述掩膜板的出射光所呈现的所述掩膜板图像。在一种可能的实现方式中,在本技术实施例提供的上述曝光装置中,所述图像采集单元为照相机。在一种可能的实现方式中,在本技术实施例提供的上述曝光装置中,所述处理单元为计算机。在一种可能的实现方式中,在本技术实施例提供的上述曝光装置中,所述分光单元为分光镜。在一种可能的实现方式中,在本技术实施例提供的上述曝光装置中,所述分光镜的透射光的光强与反射光的光强的比值大于1。在一种可能的实现方式中,在本技术实施例提供的上述曝光装置中,还包括:与所述处理单元连接的报警单元;所述报警单元,用于在所述处理单元确定所述掩膜板使用错误和/或所述掩膜板的表面存在异物时,发出警报。在一种可能的实现方式中,在本技术实施例提供的上述曝光装置中,所述报警单元为报警器。本技术实施例提供的上述曝光装置,包括位于掩膜板的出光侧的图像采集单元和与图像采集单元连接的处理单元;图像采集单元用于采集曝光过程中由掩膜板的出射光所呈现的掩膜板图像,将采集的掩膜板图像发送给处理单元;处理单元用于接收图像采集单元发送的掩膜板图像,将接收的掩膜板图像与预存的参考图像进行比较,在掩膜板图像与参考图像一致时确定掩膜板使用正确且掩膜板的表面无异物,在掩膜板图像与参考图像不一致时确定掩膜板使用错误和/或掩膜板的表面存在异物;这样,利用上述曝光装置进行曝光工艺的过程中,可以及时发现掩膜板使用错误和掩膜板表面存在异物的问题,从而可以及时停止曝光工艺并采取有效措施,进而可以提高显示面板的制作良率。附图说明图1为现有的曝光装置的结构示意图;图2为本技术实施例提供的曝光装置的结构示意图之一;图3为本技术实施例提供的曝光装置的结构示意图之二;图4为本技术实施例提供的曝光装置的结构示意图之三;图5为本技术实施例提供的曝光装置的结构示意图之四;图6为本技术实施例提供的曝光装置采集的掩膜板图像;图7为本技术实施例提供的曝光装置预存的参考图像;图8为本技术实施例提供的曝光装置的具体结构示意图之一;图9为本技术实施例提供的曝光装置的具体结构示意图之二;图10为本技术实施例提供的曝光装置的具体结构示意图之三;图11为本技术实施例提供的曝光装置的具体结构示意图之四。具体实施方式下面结合附图,对本技术实施例提供的曝光装置的具体实施方式进行详细地说明。附图中各部件的形状和尺寸不反映其真实比例,目的只是示意说明本
技术实现思路
。本技术实施例提供的一种曝光装置,如图2-图5所示,包括:位于掩膜板1的出光侧的图像采集单元2和与图像采集单元2连接的处理单元3;其中,图像采集单元2,用于采集曝光过程中由掩膜板1的出射光所呈现的掩膜板图像,将采集的掩膜板图像发送给处理单元3;处理单元3,用于接收图像采集单元2发送的掩膜板图像,将接收的掩膜板图像与预存的参考图像(即正确的掩膜板图像)进行比较;在掩膜板图像与参考图像一致时,确定掩膜板1使用正确且掩膜板1的表面无异物;在掩膜板图像与参考图像不一致时,确定掩膜板1使用错误和/或掩膜板1的表面存在异物。例如,以利用正性光刻胶进行曝光工艺为例,图6和图7分别为采集的掩膜板图像和预存的参考图像,将图6和图7进行比较可知,采集的掩膜板图像比预存的参考图像多一个黑点,可以初步判断该黑点为落在掩膜板的透光区域的异物。本技术实施例提供的上述曝光装置,利用图像采集单元采集曝光过程中的掩膜板图像,利用处理单元将采集的掩膜板图像与预存的参考图像进行比较,并根据比较结果确定掩膜板是否使用正确和掩膜板的表面是否存在异物,这样,可以在曝光过程中及时发现掩膜板使用错误和掩膜板表面存在异物的问题,从而可以及时停止曝光工艺并采取有效措施,例如,针对掩膜板使用错误的问题可以及时更换正确的掩膜板以避免批量曝光之后再发现问题,针对掩膜板表面存在异物的问题可以及时清理掩膜板表面的异物以避免对后续基板的曝光工艺产生影响,进而可以提高显示面板的制作良率。需要说明的是,在本技术实施例提供的上述曝光装置中,处理单元将接收的掩膜板图本文档来自技高网
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一种曝光装置

【技术保护点】
一种曝光装置,其特征在于,包括:位于掩膜板的出光侧的图像采集单元和与所述图像采集单元连接的处理单元;其中,所述图像采集单元,用于采集曝光过程中由所述掩膜板的出射光所呈现的掩膜板图像,将采集的所述掩膜板图像发送给所述处理单元;所述处理单元,用于接收所述图像采集单元发送的所述掩膜板图像,将接收的所述掩膜板图像与预存的参考图像进行比较;在所述掩膜板图像与所述参考图像一致时,确定所述掩膜板使用正确且所述掩膜板的表面无异物;在所述掩膜板图像与所述参考图像不一致时,确定所述掩膜板使用错误和/或所述掩膜板的表面存在异物。

【技术特征摘要】
1.一种曝光装置,其特征在于,包括:位于掩膜板的出光侧的图像采集单元和与所述图像采集单元连接的处理单元;其中,所述图像采集单元,用于采集曝光过程中由所述掩膜板的出射光所呈现的掩膜板图像,将采集的所述掩膜板图像发送给所述处理单元;所述处理单元,用于接收所述图像采集单元发送的所述掩膜板图像,将接收的所述掩膜板图像与预存的参考图像进行比较;在所述掩膜板图像与所述参考图像一致时,确定所述掩膜板使用正确且所述掩膜板的表面无异物;在所述掩膜板图像与所述参考图像不一致时,确定所述掩膜板使用错误和/或所述掩膜板的表面存在异物。2.如权利要求1所述的曝光装置,其特征在于,还包括:位于所述掩膜板的出光侧且位于待曝光基板的入光侧的分光单元;所述分光单元,用于将所述掩膜板的出射光中的一部分透射至所述待曝光基板,另一部分反射至所述图像采集单元;所述图像采集单元,位于所述分光单元的反射光的出光侧,用于实时采集曝光过程中由所述掩膜板的出射光被所述分光单元反射后所呈现的所述掩膜板图像。3.如权利要求2所述的曝光装置,其...

【专利技术属性】
技术研发人员:曹中林黄炜赟陈中龙
申请(专利权)人:京东方科技集团股份有限公司成都京东方光电科技有限公司
类型:新型
国别省市:北京;11

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