微调系统以及空间光调制器微调系统技术方案

本实用新型专利技术提供了一种微调系统以及空间光调制器微调系统，涉及光刻技术领域，包括直线滑台装置、测角仪滑台装置与微调设备，直线滑台装置根据沿纵轴方向的运行幅度调节微调设备的位置，测角仪滑台装置根据相对于纵轴方向垂直的水平面，通过沿纵轴转动角度调节微调设备的位置；一种空间光调制器微调系统，包括直线滑台装置、测角仪滑台装置与空间光调制器，直线滑台装置根据沿纵轴方向的运行幅度调节空间光调制器的位置，测角仪滑台装置根据相对于纵轴方向垂直的水平面，通过沿纵轴转动角度调节空间光调制器的位置。能够使空间光调制器安装和设备的调试方便、简单，降低机加工的精度要求，减少机加工件费用。

Fine tuning system and spatial light modulator fine tuning system

The utility model provides a tuning system and spatial light modulator tuning system, relates to the technical field of lithography, including linear slide device, goniometer slide device and trimming device, linear slide device according to the regulation of trimming equipment operation amplitude along the longitudinal axis position of the goniometer slide device according to the longitudinal axis perpendicular to the direction of the horizontal plane, through along the longitudinal axis of rotation angle adjusting device adjustment position; a spatial light modulator tuning system, including linear slide device, goniometer slide device and spatial light modulator, linear slide device according to the regulation of the spatial light modulator operating range along the longitudinal axis position of the goniometer slide device according to the longitudinal axis perpendicular to the direction of the horizontal plane, through along the longitudinal axis of rotation angle adjusting the position of spatial light modulator. It can make the installation of space light modulator and the debugging of equipment easy and simple, reduce the precision requirement of machining, and reduce the cost of machining parts.

【技术实现步骤摘要】
微调系统以及空间光调制器微调系统
本技术涉及光刻
，尤其是涉及一种微调系统以及空间光调制器微调系统。
技术介绍
光刻技术是指在光照作用下，借助光致抗蚀剂将掩膜版上的图形转移到基片上的技术。光刻技术用于在基底表面上印刷具有特征的构图的技术。这样的基底可包括用于制造半导体器件、多种集成电路、平面显示器(例如液晶显示器)、电路板、生物芯片、微机械电子芯片、光电子线路芯片等芯片。在直写式光刻机的光刻系统中，特征图形由空间光调制器微镜阵列产生，这些微小镜面可以独立寻址单独受控以不同的倾斜方向反射照射的光束，以产生空间光强调制，然后将特征图形通过相应成像光路投影到PCB板上。因此对空间光调制器相对于印刷电路板(PrintedCircuitBoard，简称PCB板)面的位置精度要求很高，尤其是在纵向上对成像质量影响很大，而且在水平面的角度对成像的拼接影响很大。目前，空间光调制器在纵向方面，主要是安装时调整不同厚度的垫片进行微调，在空间光调制器的水平方面，主要靠旋转镜筒进行调节。但是，样的调节方式使空间光调制器的安装和调试很不方便，由于设备对空间光调制器的位置精度要求较高，尤其是纵向方面和水平方面的内角度，单纯的靠机加工很难保证且费用较高。
技术实现思路
有鉴于此，本技术的目的在于提供一种微调系统以及空间光调制器微调系统，以使空间光调制器的安装和设备的调试方便、简单，同时对机加工的精度要求降低，减少机加工件的费用。第一方面，本技术实施例提供了一种微调系统，包括直线滑台装置、测角仪滑台装置与微调设备；直线滑台装置根据沿纵轴方向的运行幅度调节微调设备的位置；测角仪滑台装置根据相对于纵轴方向垂直的水平面，通过沿纵轴转动角度调节微调设备的位置。结合第一方面，本技术实施例提供了第一方面的第一种可能的实施方式，其中，直线滑台装置包括直线型轨道与第一螺旋测微器；直线型轨道通过固定直线轨迹控制微调设备的微调方向；第一螺旋测微器通过螺旋副传动测量微调设备沿直线的微调幅度。结合第一方面，本技术实施例提供了第一方面的第二种可能的实施方式，其中，直线滑台装置的微调幅度范围为正负15毫米。结合第一方面，本技术实施例提供了第一方面的第三种可能的实施方式，其中，测角仪滑台装置包括曲线型轨道与第二螺旋测微器；曲线型轨道通过固定圆弧轨迹控制微调设备的微调方向；第二螺旋测微器通过螺旋副传动测量微调设备沿圆弧的微调角度。结合第一方面，本技术实施例提供了第一方面的第四种可能的实施方式，其中，测角仪滑台装置的微调角度范围为正负5度。第二方面，本技术实施例还提供一种空间光调制器微调系统，包括：直线滑台装置、测角仪滑台装置与空间光调制器；直线滑台装置根据沿纵轴方向的运行幅度调节空间光调制器的位置；测角仪滑台装置根据相对于纵轴方向垂直的水平面，通过沿纵轴转动角度调节空间光调制器的位置。结合第二方面，本技术实施例提供了第二方面的第一种可能的实施方式，其中，直线滑台装置包括直线型轨道与第一螺旋测微器；直线型轨道通过固定直线轨迹控制空间光调制器的微调方向；第一螺旋测微器通过螺旋副传动测量空间光调制器沿直线的微调幅度。结合第二方面，本技术实施例提供了第二方面的第二种可能的实施方式，其中，直线滑台装置的微调幅度范围为正负15毫米。结合第二方面，本技术实施例提供了第二方面的第三种可能的实施方式，其中，测角仪滑台装置包括曲线型轨道与第二螺旋测微器；曲线型轨道通过固定圆弧轨迹控制空间光调制器的微调方向；第二螺旋测微器通过螺旋副传动测量空间光调制器沿圆弧的微调角度。结合第二方面，本技术实施例提供了第二方面的第四种可能的实施方式，其中，测角仪滑台装置的微调角度范围为正负1度。本技术实施例带来了以下有益效果：本技术实施例提供的一种微调系统，包括直线滑台装置、测角仪滑台装置与微调设备；直线滑台装置根据沿纵轴方向的运行幅度调节微调设备的位置；测角仪滑台装置根据相对于纵轴方向垂直的水平面，通过沿纵轴转动角度调节微调设备的位置。本技术实施例提供的一种空间光调制器微调系统，包括直线滑台装置、测角仪滑台装置与空间光调制器；直线滑台装置根据沿纵轴方向的运行幅度调节空间光调制器的位置；测角仪滑台装置根据相对于纵轴方向垂直的水平面，通过沿纵轴转动角度调节空间光调制器的位置。通过直线滑台对微调设备或空间光调制器的纵向进行微调，通过测角仪滑台对微调设备或空间光调制器的水平面角度进行微调，以使微调设备或空间光调制器的安装和设备的调试方便、简单，同时对机加工的精度要求降低，减少机加工件的费用。本技术的其他特征和优点将在随后的说明书中阐述，并且，部分地从说明书中变得显而易见，或者通过实施本技术而了解。本技术的目的和其他优点在说明书、权利要求书以及附图中所特别指出的结构来实现和获得。为使本技术的上述目的、特征和优点能更明显易懂，下文特举较佳实施例，并配合所附附图，作详细说明如下。附图说明为了更清楚地说明本技术具体实施方式或现有技术中的技术方案，下面将对具体实施方式或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本技术的一些实施方式，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为本技术实施例提供的微调系统的结构示意图；图2为本技术实施例中的直线滑台装置的结构示意图；图3为本技术实施例中的测角仪滑台装置的结构示意图；图4为本技术实施例提供的空间光调制器微调系统的结构示意图；图5为本技术实施例中的直写式光刻机的光刻系统的结构示意图。图标：1-微调系统；2-直线滑台装置；3-测角仪滑台装置；4-微调设备；21-直线型轨道；22-第一螺旋测微器；31-曲线型轨道；32-第二螺旋测微器；5-空间光调制器微调系统；6-直线滑台装置；7-测角仪滑台装置；8-空间光调制器；9-光调制器支撑座；10-空间光调制器安装座；11-遮光盖板。具体实施方式为使本技术实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图对本技术的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。目前，空间光调制器在纵向主要是安装时调整不同厚度的垫片进行微调，在水平方面主要靠旋转镜筒进行调节，这样的调节方式使空间光调制器的安装和调试很不方便，由于设备对空间光调制器的位置精度要求较高，尤其是纵向和水平方面的内角度，单纯的靠机加工很难保证且费用较高。基于此，本技术实施例提供的一种微调系统以及空间光调制器微调系统，可以使空间光调制器的安装和设备的调试方便、简单，同时对机加工的精度要求降低，减少机加工件的费用。为便于对本实施例进行理解，首先对本技术实施例所公开的一种微调系统以及空间光调制器微调系统进行详细介绍，实施例一：如图1所示，本技术提供的微调系统1，包括直线滑台装置2、测角仪滑台装置3与微调设备4，直线滑台装置2根据沿纵轴方向的运行幅度调节微调设备4的位置，测角仪滑台装置3根据相对于本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种微调系统，其特征在于，包括：直线滑台装置、测角仪滑台装置与微调设备；所述直线滑台装置根据沿纵轴方向的运行幅度调节所述微调设备的位置；所述测角仪滑台装置根据相对于所述纵轴方向垂直的水平面，通过沿所述纵轴转动角度调节所述微调设备的位置。

【技术特征摘要】
1.一种微调系统，其特征在于，包括：直线滑台装置、测角仪滑台装置与微调设备；所述直线滑台装置根据沿纵轴方向的运行幅度调节所述微调设备的位置；所述测角仪滑台装置根据相对于所述纵轴方向垂直的水平面，通过沿所述纵轴转动角度调节所述微调设备的位置。2.根据权利要求1所述的微调系统，其特征在于，所述直线滑台装置包括直线型轨道与第一螺旋测微器；所述直线型轨道通过固定直线轨迹控制所述微调设备的微调方向；所述第一螺旋测微器通过螺旋副传动测量所述微调设备沿直线的微调幅度。3.根据权利要求1所述的微调系统，其特征在于，所述直线滑台装置的微调幅度范围为正负15毫米。4.根据权利要求1-3任一项所述的微调系统，其特征在于，所述测角仪滑台装置包括曲线型轨道与第二螺旋测微器；所述曲线型轨道通过固定圆弧轨迹控制所述微调设备的微调方向；所述第二螺旋测微器通过螺旋副传动测量所述微调设备沿圆弧的微调角度。5.根据权利要求4所述的微调系统，其特征在于，所述测角仪滑台装置的所述微调角度范围为正负5度。6.一种空间光调制器微调系统，其特征在于，包...

【专利技术属性】
技术研发人员：曹宁飞，
申请(专利权)人：天津津芯微电子科技有限公司，
类型：新型
国别省市：天津,12