光刻机环境监测系统及其远程监控系统技术方案

本实用新型专利技术提供了一种光刻机环境监测系统及其远程监控系统，属于光刻机技术领域。本实用新型专利技术公开的一种光刻机环境监测系统，包括光源模块、聚焦模块、数字微镜模块、平台模块，以及信号采集模块、显示模块和环境模块，其中，光源模块、聚焦模块、数字微镜模块、平台模块分别环境模块相连接，环境模块与信号采集模块相连接，信号采集模块与显示模块相连接。通过环境模块直接采集存储的各模块的环境参数，由信号采集模块处理环境参数，显示在显示模块上，是用户可以直观的监测设备的运行状态，实现实时动态的监测光刻机各部件的运行状态，保证设备的运行和及时维修。

Photoetching machine environment monitoring system and remote monitoring system thereof

The utility model provides an environmental monitoring system of a photoetching machine and a remote monitoring system thereof, belonging to the technical field of photoetching machine. The utility model discloses a photoetching machine environmental monitoring system, which comprises a light source module, focusing module, digital micro mirror module, and platform module, signal acquisition module, display module and environment module, wherein the light source module, focusing module, digital micro mirror module and environment module connected platform module respectively, module and signal environment the acquisition module is connected with the signal acquisition module is connected with the display module. The environmental parameters of each module through direct acquisition and storage environment module, the environment parameter signal acquisition module, displayed on the display module, running state monitoring equipment users can directly, the running state of each component to achieve real-time dynamic monitoring of lithography machine, ensure the equipment running and maintenance in time.

【技术实现步骤摘要】
光刻机环境监测系统及其远程监控系统
本技术涉及光刻机
，尤其是涉及一种光刻机环境监测系统及其远程监控系统。
技术介绍
光刻技术是用于在基底表面上印刷具有特征构图的技术。这样的基底可用于制造半导体平台、多种集成电路、平面显示器(例如液晶显示器)、电路板、生物芯片、微机械电子芯片、光电子线路芯片等。随着科技的不断发展，直写式光刻机(LDI)因其高精度高效率而逐步投入到印制电路板行业，因此保证光刻机的设备运行状态正常具有重要的意义，光刻机的运行环境是直接影响光刻机的设备运行状态。光刻机的运行环境要求比较严格，而目前现有光刻机无法实现内部运行运行环境的监测，而且，常常是当设备出现问题时才能发现设备的内部运行环境不正常，导致设备故障，此外，需要由技术人员定期检查设备环境及运行状态，不仅浪费人力物力，而且无法实时了解设备的内部环境的运行情况。
技术实现思路
有鉴于此，本技术的目的在于提供一种光刻机环境监测系统及其远程监控系统。以解决现有技术的光刻机无法监测当前环境是否符合达到设备运行环境的技术问题，能够实现设备运行状态环境的实时监测。第一方面，本技术实施例提供了一种光刻机环境监测系统，包括光源模块、聚焦模块、数字微镜模块、平台模块，还包括：信号采集模块、显示模块、环境模块，其中，所述光源模块、聚焦模块、数字微镜模块、平台模块分别与所述环境模块相连接，所述环境模块与所述信号采集模块相连接，所述信号采集模块与所述显示模块相连接。光源模块、聚焦模块、数字微镜模块、平台模块分别与环境模块相连接，环境模块与信号采集模块相连接，环境模块直接采集光源模块、聚焦模块、数字微镜模块、平台模块的运行环境参数，并由信号采集模块处理环境参数，然后显示在与信号采集模块相连接的显示模块上，从而可以直观地监测光刻机各个模块的运行环境，实现了实时、直观的监测光刻机设备的运行环境状况，可以直观的了解当前环境是否符合设备运行环境的要求。结合第一方面，本技术实施例提供了第一方面的第一种可能的实施方式，其中，所述光源模块、聚焦模块、数字微镜模块、平台模块分别通过温湿度传感器与所述环境模块相连接。光源模块、聚焦模块、数字微镜模块、平台模块的下方均设置有相应的温湿度传感器，温湿度传感器可以将各模块的温湿度参数转化为电信号传递给环境模块，环境模块将存储和读取到的温湿度参数传递给信号采集模块进行预处理。结合第一方面的第一种可能的实施方式，本技术实施例提供了第一方面的第二种可能的实施方式，其中，所述信号采集模块包括信号调理器和模数转换器，其中，所述信号调理器对所述温湿度传感器采集的温湿度参数信号进行放大、滤波调理，输出模拟信号；所述模数转换器将所述模拟信号转换为数字信号。结合第一方面，本技术实施例提供了第一方面的第三种可能的实施方式，其中，还包括信号比较模块和报警模块，其中，所述信号采集模块与所述信号比较模块相连接，所述信号比较模块与所述报警模块相连接。信号比较模块可以将采集到的信号与预设参数进行比较，超出预设范围值时，通过与之相连接的报警模块发出警报，提醒相关人员设备故障，方便及时维修，从而可以实现实时的对环境进行监测，响应时间快，在提示相关操作人员环境异常的同时对设备进行保护及报警。结合第一方面，本技术实施例提供了第一方面的第四种可能的实施方式，其中，该光刻机环境监测系统还包括气路模块，其中，所述气路模块与所述环境模块相连，所述气路模块上设置有真空度模块，所述真空度模块用于监测所述气路模块的真空度。第二方面，本技术实施例还提供了一种远程监控系统，用于远程监控光刻机环境监测系统，包括信号接收模块以及第一方面及其可能的实施方式所述的光刻机环境监测系统，其中，所述光刻机环境监测系统中的信号采集模块与所述信号接收模块通信连接。为了进一步的实时监测光刻机设备的状态，在特殊情况下，例如当人员离开时，设备断电运行或者运输过程中，对设备环境进行监测，本实施例提供了一种远程监控系统可以实现远程监控光刻机环境监测系统，实时监测设备的运行环境状态。结合第二方面，本技术实施例提供了第二方面的第一种可能的实施方式，其中，所述光刻机环境监测系统还包括信号加密模块，其中，所述信号加密模块与所述信号采集模块相连接。信号加密模块对采集的数据信号进行加密，保证了数据的安全性。结合第二方面的第一种可能的实施方式，本技术实施例提供了第二方面的第二种可能的实施方式，其中，所述信号接收模块还包括信号解密模块。信号解密模块将加密的数据解密解析。结合第二方面的第二种可能的实施方式，本技术实施例提供了第二方面的第三种可能的实施方式，其中，所述信号加密模块为数据编码器，所述信号解密模块为数据解码器。结合第二方面，本技术实施例提供了第二方面的第四种可能的实施方式，其中，所述信号采集模块与所述信号接收模块通过无线通信相连接。无线通信方式不需要光缆的布线设置，可以有效地规避地形造成的麻烦，同时可以节省布线的成本。本技术实施例带来了以下有益效果：光源模块、聚焦模块、数字微镜模块、平台模块分别与环境模块相连，环境模块与信号采集模块相连接，环境模块直接采集光源模块、聚焦模块、数字微镜模块、平台模块的运行环境参数，并由信号采集模块采集处理环境参数，然后显示在与信号采集模块相连接的显示模块上，从而可以直观地监测光刻机各个模块的运行环境，实现了实时、直观的监测光刻机设备的运行环境状况，同时可以及时发现故障，节省维修的时间、人力和成本。本技术的其他特征和优点将在随后的说明书中阐述，并且，部分地从说明书中变得显而易见，或者通过实施本技术而了解。本技术的目的和其他优点在说明书、权利要求书以及附图中所特别指出的结构来实现和获得。为使本技术的上述目的、特征和优点能更明显易懂，下文特举较佳实施例，并配合所附附图，作详细说明如下。附图说明为了更清楚地说明本技术具体实施方式或现有技术中的技术方案，下面将对具体实施方式或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本技术的一些实施方式，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为本技术实施例所提供的光刻机环境监测系统的基本结构示意图；图2为本技术提供的光刻机环境监测系统的信号采集模块的结构示意图；图3为本技术优选实施例1提供的光刻机环境监测系统的结构示意图；图4为本技术优选实施例2提供的远程监控系统结构示意图。图标：1-光源模块；2-聚焦模块；3-数字微镜模块；4-平台模块；5-信号采集模块；51-信号调理器；52-模数转换器；6-显示模块；7-环境模块；8-信号比较模块；9-报警模块；10-气路模块；101-真空度模块；11-信号接收模块；12-信号加密模块；13-信号解密模块。具体实施方式为使本技术实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图对本技术的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。目前现有光刻机无法实本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光刻机环境监测系统，其特征在于，包括光源模块、聚焦模块、数字微镜模块、平台模块，还包括：信号采集模块、显示模块和环境模块，其中，所述光源模块、聚焦模块、数字微镜模块、平台模块分别与所述环境模块相连接，所述环境模块与所述信号采集模块相连接，所述信号采集模块与所述显示模块相连接。

【技术特征摘要】
1.一种光刻机环境监测系统，其特征在于，包括光源模块、聚焦模块、数字微镜模块、平台模块，还包括：信号采集模块、显示模块和环境模块，其中，所述光源模块、聚焦模块、数字微镜模块、平台模块分别与所述环境模块相连接，所述环境模块与所述信号采集模块相连接，所述信号采集模块与所述显示模块相连接。2.根据权利要求1所述的光刻机环境监测系统，其特征在于，所述光源模块、聚焦模块、数字微镜模块、平台模块分别通过温湿度传感器与所述环境模块相连接。3.根据权利要求2所述的光刻机环境监测系统，其特征在于，所述信号采集模块包括信号调理器和模数转换器，其中，所述信号调理器对所述温湿度传感器采集的温湿度参数信号进行放大、滤波调理，输出模拟信号；所述模数转换器将所述模拟信号转换为数字信号。4.根据权利要求1所述的光刻机环境监测系统，其特征在于，还包括信号比较模块和报警模块，其中，所述信号采集模块与所述信号比较模块相连接，所述信号比较模块与所述报警模块相连接...

【专利技术属性】
技术研发人员：付印凯，
申请(专利权)人：天津津芯微电子科技有限公司，
类型：新型
国别省市：天津,12