定位系统以及曝光定位系统技术方案

技术编号:15745007 阅读:326 留言:0更新日期:2017-07-02 21:13
本实用新型专利技术提供了一种定位系统以及曝光定位系统,涉及曝光技术领域,包括横向滑道机构、纵向滑道机构、转动滑道机构;横向滑道机构通过沿横向的运行幅度,调节与固定定位目的物的位置;纵向滑道机构通过沿纵向的运行幅度,调节与固定所述定位目的物的位置;转动滑道机构通过转动角度,调节与固定所述定位目的物的位置。解决了现有技术中板面孔位置整体相对板子平移旋转导致的对位失败问题,能够在曝光时提高放板的准度与精度,使对位的准确率与成功率提高,且从硬件上改善上料放板易放偏的问题,无需软件编写。

Positioning system and exposure positioning system

The utility model provides a positioning system and exposure positioning system, involving exposure technology, including horizontal slide mechanism, longitudinal slide mechanism, rotating slide mechanism; lateral slide mechanism by running along the transverse amplitude, adjusted and fixed to locate the position of the object; longitudinal slideway mechanism by running along the longitudinal amplitude, adjusting and fixing the location of object position; rotation slider mechanism through the rotation angle adjusting and fixing the positioning target position. To solve the problem in the prior art board failed para position relative to the whole face board caused by translation and rotation, can improve the accuracy and precision of the board at the time of exposure, the accuracy and success rate and improve the position, from the hardware to improve the feeding plate offset problems easily, without software.

【技术实现步骤摘要】
定位系统以及曝光定位系统
本技术涉及曝光
,尤其是涉及一种定位系统以及曝光定位系统。
技术介绍
在生产电脑主板上的电路板时,板面有很多线路与一些孔,这些线路和孔是对应好的,不能有太大的错位。钻孔站负责钻孔,之后由影像转移站负责抓取这些孔中的4个孔为对位点,然后对位曝光,成像线路图形。正常情况下,这些孔会钻在板子中央位置,影像转移站的操作员将板子放在曝光设备的平台的固定位置,曝光机会得到预设的对位点坐标,到相应的位置通过电荷耦合元件(Charge-coupledDevice,简写CCD)抓取实际孔坐标,然后进行对位曝光。但是,钻孔有时会出现些问题,如板面孔整体偏左或偏上等,或是板面孔相对板子有旋转。这时,如果还按照正常的板子来操作,则CCD到达对应位置,会找不到对位点,会对位失败。目前,现有技术的解决方案有两种:一是操作员粗略估计板面孔的平移量,从而将放板位置进行平移;二是通过软件编程,使机台的程序中多了横向和纵轴方向的平移输入界面,操作人员将合适的平移值输入后,每次上料放板,机台会自动对平台移动位置进行补偿,使CCD能抓到对位点。方案一的缺点是每次操作员只能根据经验操作,且每次上料放板的准确度不高,极容易放偏,出现对位失败,导致每次放板准度和精度都不够高,成功率低;方案二的缺点是软件编写需要有软件人员配合,如果公司没这样的人员,就不能改善这样的问题。
技术实现思路
有鉴于此,本技术的目的在于提供一种定位系统以及曝光定位系统,能够在曝光过程中提高放板的准度与精度,改善上料放板易放偏的问题,使对位的准确率与成功率提高,且无需软件编写。第一方面,本技术实施例提供了一种定位系统,包括横向滑道机构、纵向滑道机构、转动滑道机构;横向滑道机构通过沿横向的运行幅度,调节与固定定位目的物的位置;纵向滑道机构通过沿纵向的运行幅度,调节与固定定位目的物的位置;转动滑道机构通过转动角度,调节与固定定位目的物的位置。结合第一方面,本技术实施例提供了第一方面的第一种可能的实施方式,其中,转动滑道机构包括可转动的第一挡板与圆弧形滑道,圆弧形滑道固定设置,第一挡板的下端固定设置,第一挡板的上端与圆弧形滑道活动连接,且能沿圆弧形滑道转动。结合第一方面,本技术实施例提供了第一方面的第二种可能的实施方式,其中,横向滑道机构包括纵向设置的第二挡板,第二挡板与第一挡板活动连接,且能相对于第一挡板沿横向运行。结合第一方面,本技术实施例提供了第一方面的第三种可能的实施方式,其中,纵向滑道机构包括横向设置的第三挡板与设置于第三挡板右端的定位块,第三挡板左端与第一挡板活动连接,且能沿纵向运行,第三挡板右端与定位块通过齿轮带动方式连接,调节第三挡板沿纵向的运行幅度。结合第一方面,本技术实施例提供了第一方面的第四种可能的实施方式,其中,固定的方式为螺栓连接固定。第二方面,本技术实施例还提供一种曝光定位系统,包括横向滑道机构、纵向滑道机构、转动滑道机构与曝光平台;横向滑道机构通过沿横向的运行幅度,调节与固定曝光定位目的物的位置;纵向滑道机构通过沿纵向的运行幅度,调节与固定曝光定位目的物的位置;转动滑道机构通过转动角度,调节与固定曝光定位目的物的位置。结合第二方面,本技术实施例提供了第二方面的第一种可能的实施方式,其中,转动滑道机构包括可转动的第一挡板与圆弧形滑道,圆弧形滑道固定于曝光平台,第一挡板下端固定于曝光平台,第一挡板上端与圆弧形滑道活动连接,且能沿圆弧形滑道转动。结合第二方面,本技术实施例提供了第二方面的第二种可能的实施方式,其中,横向滑道机构包括纵向设置的第二挡板,第二挡板与第一挡板活动连接,且能相对于第一挡板沿横向运行。结合第二方面,本技术实施例提供了第二方面的第三种可能的实施方式,其中,纵向滑道机构包括横向设置的第三挡板与设置于第三挡板右端的定位块,第三挡板左端与第一挡板活动连接,且能沿纵向运行,第三挡板右端与定位块通过齿轮带动方式连接,调节第三挡板沿纵向的运行幅度。结合第二方面,本技术实施例提供了第二方面的第四种可能的实施方式,其中,固定的方式为螺栓连接固定。本技术实施例带来了以下有益效果:本技术提供的一种定位系统,包括转动滑道机构、横向滑道机构与纵向滑道机构,转动滑道机构根据转动角度来调节、固定定位目的物的位置,横向滑道机构根据沿横向的运行幅度来调节、固定定位目的物的位置,纵向滑道机构根据沿纵向的运行幅度来调节、固定定位目的物的位置。通过定位系统在横向和纵向上对定位点进行平移、旋转,解决板面孔位置整体相对板子平移旋转导致的对位失败问题,能够在曝光时提高放板的准度与精度,使对位的准确率与成功率提高,且从硬件上改善上料放板易放偏的问题,无需软件编写。本技术的其他特征和优点将在随后的说明书中阐述,并且,部分地从说明书中变得显而易见,或者通过实施本技术而了解。本技术的目的和其他优点在说明书、权利要求书以及附图中所特别指出的结构来实现和获得。为使本技术的上述目的、特征和优点能更明显易懂,下文特举较佳实施例,并配合所附附图,作详细说明如下。附图说明为了更清楚地说明本技术具体实施方式或现有技术中的技术方案,下面将对具体实施方式或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图是本技术的一些实施方式,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为本技术实施例提供的定位系统结构的俯视示意图;图2为本技术实施例中的定位系统结构的侧视示意图;图3为本技术实施例提供的曝光定位系统结构的俯视示意图;图4为本技术实施例中的曝光定位系统结构的侧视示意图。图标:1-定位系统;11-横向滑道机构;12-纵向滑道机构;13-转动滑道机构;131-第一挡板;132-圆弧形滑道;133-第一螺丝;111-第二挡板;121-第三挡板;122-定位块;123-第二螺丝;124-孔槽;2-曝光定位系统;21-横向滑道机构;22-纵向滑道机构;23-转动滑道机构;24-曝光平台;231-第一挡板;232-圆弧形滑道;233-第一螺丝;211-第二挡板;221-第三挡板;222-定位块;223-第二螺丝;224-孔槽。具体实施方式为使本技术实施例的目的、技术方案和优点更加清楚,下面将结合附图对本技术的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例是本技术一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本技术保护的范围。目前,在曝光过程中,操作员上料放板时容易放偏,出现对位失败的问题,放板准度和精度都不够高,成功率低,且运用软件编写方法还需要专业人员的配合,基于此,本技术实施例提供的一种定位系统以及曝光定位系统,可以在曝光时提高放板的准度与精度,使对位的准确率与成功率提高,且从硬件上改善上料放板易放偏的问题,无需软件编写。为便于对本实施例进行理解,首先对本技术实施例所公开的一种定位系统以及曝光定位系统进行详细介绍。实施例一:如图1和图2所示,本技术实施例提供的定位系统1,包括横向滑道机构本文档来自技高网...
定位系统以及曝光定位系统

【技术保护点】
一种定位系统,其特征在于,包括:横向滑道机构、纵向滑道机构、转动滑道机构;所述横向滑道机构通过沿横向的运行幅度,调节与固定定位目的物的位置;所述纵向滑道机构通过沿纵向的运行幅度,调节与固定所述定位目的物的位置;所述转动滑道机构通过转动角度,调节与固定所述定位目的物的位置。

【技术特征摘要】
1.一种定位系统,其特征在于,包括:横向滑道机构、纵向滑道机构、转动滑道机构;所述横向滑道机构通过沿横向的运行幅度,调节与固定定位目的物的位置;所述纵向滑道机构通过沿纵向的运行幅度,调节与固定所述定位目的物的位置;所述转动滑道机构通过转动角度,调节与固定所述定位目的物的位置。2.根据权利要求1所述的定位系统,其特征在于,所述转动滑道机构包括可转动的第一挡板与圆弧形滑道;所述圆弧形滑道固定设置;所述第一挡板的下端固定设置;所述第一挡板的上端与所述圆弧形滑道活动连接,且能沿所述圆弧形滑道转动。3.根据权利要求2所述的定位系统,其特征在于,所述横向滑道机构包括纵向设置的第二挡板;所述第二挡板与所述第一挡板活动连接,且能相对于所述第一挡板沿横向运行。4.根据权利要求2所述的定位系统,其特征在于,所述纵向滑道机构包括横向设置的第三挡板与设置于所述第三挡板右端的定位块;所述第三挡板左端与所述第一挡板活动连接,且能沿纵向运行;所述第三挡板右端与所述定位块通过齿轮带动方式连接,调节所述第三挡板沿纵向的运行幅度。5.根据权利要求1所述的定位系统,其特征在于,所述固定的方式为螺栓连接固定。6.一种曝光定位系统,其特征在...

【专利技术属性】
技术研发人员:张秀颖
申请(专利权)人:天津津芯微电子科技有限公司
类型:新型
国别省市:天津,12

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