凹球面基底胶体涂覆装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种凹球面基底胶体涂覆装置，包括：基台；载物台，设于基台上，所述载物台用于装载待喷涂凹球面基底，并可带动凹球面基底旋转，旋转中心轴与凹球面对称轴重合；可移动式光刻胶喷头，所述可移动式光刻胶喷头沿凹球面的半径喷射，所述可移动式光刻胶喷头可在凹球面内部移动以调整喷射角度，且喷涂距离不变，所述喷射角度为喷射方向与曲面对称轴之间的角度；加热单元，其加热面与凹球面基底的外表面相适配，对基底进行加热，加热单元置于所述载物台上。本实用新型专利技术可对半球凹曲面进行胶体涂覆，并且涂覆的胶层均匀性高。

Concave spherical substrate colloid coating device

The utility model discloses a concave spherical colloidal substrate coating apparatus includes: a base station; carrier in the base station, the carrier for loading to be coated on concave spherical substrate, and can drive the concave spherical substrate rotation, the rotation axis and the concave spherical symmetric axis of movable type; the photoresist nozzle, the spray nozzle moving type photoresist along the concave spherical radius, the removable photoresist nozzle can be moved inside the concave spherical to adjust the spray angle, and spray distance is constant, the spray angle is between jet direction and surface symmetry axis angle; the outer surface of the heating unit. The heating surface and the concave spherical substrate adapter, heating the substrate, a heating unit is arranged on the stage. The utility model can be used for colloid coating of the hemispherical concave surface, and the coating layer has high uniformity.

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及曲面涂覆
，尤其涉及一种凹球面基底胶体涂覆装置。
技术介绍
为了提高对抗和突防能力，具有良好的电磁屏蔽和隐身性能成为现代武器与装备的发展趋势。作为红外透过窗口的材料，需要在保证透过性能基础上实现电磁屏蔽或隐身功能，在红外材料表面制作微纳米级的金属网栅是可行的技术方案。其制作步骤通常包括：基底涂布光学胶－光刻(刻蚀)－镀膜－去胶等。其中，基底涂布光学胶是重要步骤之一，为保证金属线条的精度，要求基底表面涂布的光刻胶具有良好的均匀性。传统的光刻胶涂布，多用于半导体行业，衬底为硅片，尺寸一般不超过8寸。方法主要有离心式旋涂法、喷涂法、滚涂法和提拉法。上述方法，一般针对平面衬底，且要求衬底具有良好的平整度。与半导体行业需求不同，对于窗口材料而言，由于尺寸一般较大，且多为异性结构，传统的涂覆方法，此时难以满足要求。本领域部分研究人员针对凹球面的涂覆，进行了相关研究。有人针对凹球面的涂胶，通过建立数理模型，分析了凹球面受力情况，通过离心式旋涂方式，在口径为45mm×40mm,曲率半径R为224.36mm的凹球面上进行了涂覆。但该曲面的拱高比很小，并且需要转速很大。因此，对于拱高比本文档来自技高网...

【技术保护点】
凹球面基底胶体涂覆装置，其特征在于，包括：基台；载物台，设于基台上，所述载物台用于装载待喷涂凹球面基底，并可带动凹球面基底旋转，旋转中心轴与凹球面对称轴重合；可移动式光刻胶喷头，所述可移动式光刻胶喷头沿凹球面的半径喷射，所述可移动式光刻胶喷头可在凹球面内部移动以调整喷射角度，且喷涂距离不变，所述喷射角度为喷射方向与曲面对称轴之间的角度；加热单元，其加热面与凹球面基底的外表面相适配，对基底进行加热，所述加热单元置于所述载物台上。

【技术特征摘要】
1.凹球面基底胶体涂覆装置，其特征在于，包括：基台；载物台，设于基台上，所述载物台用于装载待喷涂凹球面基底，并可带动凹球面基底旋转，旋转中心轴与凹球面对称轴重合；可移动式光刻胶喷头，所述可移动式光刻胶喷头沿凹球面的半径喷射，所述可移动式光刻胶喷头可在凹球面内部移动以调整喷射角度，且喷涂距离不变，所述喷射角度为喷射方向与曲面对称轴之间的角度；加热单元，其加热面与凹球面基底的外表面相适配，对基底进行加热，所述加热单元置于所述载物台上。2.根据权利要求1所述的凹球面基底胶体涂覆装置，其特征在于，所述可移动式光刻胶喷头以凹球面的球心为旋转中心在垂直方向上转动，以调整喷射角度。3.根据权利要求1所述的凹球面基底胶体涂覆装置，其特征在于，所述基台上还设有喷头调节机构，所述可移动式光刻胶喷头设于喷头调节机构上，所述喷头调节机构调节可移动式光刻胶喷头的喷射方向及喷涂距离。4.根据权利要求3所述的凹球面基底胶体涂覆装置，其特征在于，所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：金扬利，祖成奎，徐博，赵慧峰，韩滨，刘永华，赵华，王衍行，陈江，
申请(专利权)人：中国建筑材料科学研究总院，
类型：新型
国别省市：北京;11