一种小型磁控溅射镀镆机制造技术

一种小型磁控溅射镀镆机，涉及一种镀镆机，所述镀镆机包括上开盖结构的圆柱型真空室、加热旋转样品台、磁力耦合器、磁控溅射靶、涡轮分子泵、挡板阀、隔膜泵、全量程规、冷却水循环系统、机箱；圆柱型真空室上部安有一个上盖，上盖由两根气压杆支撑，由旋纽锁紧，两只磁控靶倾斜安装，其中心延长线正对加热旋转样品台的中心；加热旋转样品台位于圆柱型真空室的底部，安装于磁力耦合器之上；挡板阀上面设有全量程规，并且连接在涡轮分子泵之上。本实用新型专利技术采用PLC+触摸屏控制，具有操作维护简单、装样、取样方便、组合灵活，体积小巧，所以搬运、安装方便，特别适合于学院教学、科研使用。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种镀镆机，特别是涉及一种小型磁控溅射镀镆机。
技术介绍
利用磁控溅射技术可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。现阶段国内同类设备体积庞大，操作流程复杂，自动化控制程度低，操作者需要接受专门培训才能使用，这对于人员流动性很强的学院来说，是不利的。本机与国内同类设备比，具有操作维护简单、装样、取样方便、组合灵活、外形美观。主机采用PLC+触摸屏控制。由于体积小巧，所以搬运、安装方便。特别适合于学院教学、科研使用。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种小型磁控溅射镀镆机，本技术采用PLC+触摸屏控制，具有操作维护简单、装样、取样方便、组合灵活，体积小巧，所以搬运、安装方便，特别适合于学院教学、科研使用。本技术的目的是通过以下技术方案实现的：一种小型磁控溅射镀镆机，所述镀镆机包括上开盖结构的圆柱型真空室、加热旋转样品台、磁力耦合器、磁控溅射靶、涡轮分子泵、挡板阀、隔膜泵、全量程规、冷却水循环系统、机箱；圆柱型真空室上部安有一个上盖，上盖由两根气压杆支撑，由旋纽锁紧，两只磁控靶倾斜安装，其中心延长线正对加热旋转样品台的中心；加热旋转样品台位于圆柱型真空室的底部，安装于磁力耦合器之上；挡板阀上面设有全量程规，并且连接在涡轮分子泵之上。所述的一种小型磁控溅射镀镆机，所述上盖与圆柱型真空室之间采用O型圈密封。所述的一种小型磁控溅射镀镆机，所述上盖上设有两组接磁控靶的接口。所述的一种小型磁控溅射镀镆机，所述圆柱型真空室的底面分布有法兰，后面设有法兰，前面设有观察窗。所述的一种小型磁控溅射镀镆机，所述圆柱型真空室用螺栓固定在机箱上，机箱的前面板上设有总电源开关、温度控制仪、分子泵控制器、主控触屏。所述的一种小型磁控溅射镀镆机，所述主机的后面板上设有冷却水分配器、冷却水收集器、充气接口辅助设备。本技术的优点与效果是：本技术具有操作维护简单、装样、取样方便、组合灵活、外形美观。主机采用PLC+触摸屏控制。由于体积小巧，所以搬运、安装方便。特别适合于学院教学、科研使用。附图说明图1是本技术的主视图；图2是本技术的左视图；图3是本技术的剖视图；图4是本技术的俯视图。图中标号：1是全量程规、2是磁控溅射靶、3是旋纽、4是上盖、5是气压杆、6是圆柱形真空室、7是机箱、8是主触摸屏、9是温度控制仪、10是尼龙软管、11是分子泵控制器、12是总电源开关、13是隔膜泵、14是挡板阀、15是涡轮分子泵、16是冷却水分配器、17是冷却水收集器、18中观察窗、19是石英晶体膜厚检测仪、20是加热旋转样品台、21是电动挡板、22是磁力耦合器、23是KF16接口、24是卡套接头。具体实施方式下面结合实施例对本技术进行详细说明。本技术包括上开盖结构的圆柱型真空室、加热旋转样品台、磁控溅射靶、小型真空获得与测量系统、精密进气系统、冷却水循环系统、机箱所组成。所述圆柱型真空室的上盖与圆柱型真空室主体之间用O型圈密封，上盖开启时由气压杆支撑、上盖关闭时用锁紧螺母锁紧。圆柱型真空室的底面分布有CF50法兰、KF16法兰、1/4卡套式法兰。所述加热旋转样品台连接于磁力耦合密封装置的内芯，磁力耦合密封装置的内芯与外芯通过磁力吸合在一起做同步运动，磁力耦合密封装置外芯通过同步带连接到步进电机,由PLC控制。上盖两侧倾斜安装有两只磁控溅射靶，每只磁控溅射靶旁边安装一只电动挡板。圆柱型真空室的前面安装有一个圆形观察窗，后面安装有一个ISO63法兰。ISO63法兰旁边安装有一个CF35法兰。圆柱型真空室安装在机箱上。机箱上面还安装有一台涡轮分子泵，涡轮分子泵通过一个手动挡板阀连接全量程规并连接于圆柱型真空室。机箱后边放置有一台隔膜泵。隔膜泵通过一根尼龙软管连接到涡轮分子泵。手动挡板阀、涡轮分子泵、隔膜泵、全量程规和尼龙软管共同组成小型真空获得与测量系统。所述的精密进气系统由两只按不同气体成份标定的质量流量计、两只电磁截止阀、通过若干不锈钢管和卡套连接进圆柱型真空室。冷却水系统由一只程序控温循环水冷机组，通过分水器件向磁控靶和测厚仪通冷却水，循环后的冷却水通过集水器流回循环冷水机。所述机箱内安装有质量流量计、电磁截止阀、涡轮分子泵的电源与控制器等零部件。实施例1：本技术圆柱型真空室6上部安有一个上盖4，上盖4开启时由两根气压杆5支撑，关闭时由旋纽3锁紧。上盖4与圆柱型真空室6之间采用O型圈密封。上盖4上设有两组密封接口，磁控溅射靶2就通过这两组接口安装在这里。磁控溅射靶2的前面设有电动挡板21，在溅射电源工作时，电动挡板21关上，溅射初期的物质被电动挡板21挡住，不会污染样品，同时，另一靶溅射出的物质也被电动挡板21挡住，防止交叉污染。当靶材露出新鲜表面时，电动挡板21打开，可以正常溅射镀镆。磁控溅射靶2倾斜安装，其中心延长线正对加热旋转样品台20的中心。加热旋转样品台20在磁力耦合器22的带动下以设定的速度做顺时针旋转，以保证成膜的均匀性。圆柱型真空室6后面的法兰口连接有挡板阀14、挡板阀14上面连接有全量程规1，全量程规1负责实时检测圆柱型真空室6的真空度，其数值在控制器11的面板上显示。挡板阀14下面连接有涡轮分子泵15、涡轮分子泵15通过一根尼龙软管10连接于隔膜泵13。隔膜泵13做为前级泵，与涡轮分子泵15共同负责获得真空。圆柱型真空室6上安有石英晶体膜厚检测仪19，用来检测镀镆厚度。圆柱型真空室6的底板上设有KF16接口23，用来连接电动充气阀负责破坏真空。圆柱型真空室6的底板上设有卡套接头24，用来连接质量流量计，通入反应气体。为了直观的了解圆柱型真空室6里面的情况，圆柱型真空室6前面设有观察窗18。所述的圆柱型真空室6用4颗螺栓固定在机箱7上，机箱7的前面板上设有总电源开关12，用来接通/断开总电源。温度控制仪9，用来设定/显示加热旋转样品台20的温度。分子泵控制器11用来启/停泵组、显示真空度。主控触屏8用来设定/显示质量流量计示数。电动挡板21的开/关等辅助功能。主机7的后面板上设有冷却水分配器16，负责向磁控溅射靶2、石英晶体膜厚检测仪19提供冷却水。冷却水收集器17负责集中回收冷却水。充气接口等辅助设备。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种小型磁控溅射镀镆机，其特征在于，所述镀镆机包括上开盖结构的圆柱型真空室、加热旋转样品台、磁力耦合器、磁控溅射靶、涡轮分子泵、挡板阀、隔膜泵、全量程规、冷却水循环系统、机箱；圆柱型真空室上部安有一个上盖，上盖由两根气压杆支撑，由旋纽锁紧，两只磁控靶倾斜安装，其中心延长线正对加热旋转样品台的中心；加热旋转样品台位于圆柱型真空室的底部，安装于磁力耦合器之上；挡板阀上面设有全量程规，并且连接在涡轮分子泵之上。

【技术特征摘要】
1.一种小型磁控溅射镀镆机，其特征在于，所述镀镆机包括上开盖结构的圆柱型真空室、加热旋转样品台、磁力耦合器、磁控溅射靶、涡轮分子泵、挡板阀、隔膜泵、全量程规、冷却水循环系统、机箱；圆柱型真空室上部安有一个上盖，上盖由两根气压杆支撑，由旋纽锁紧，两只磁控靶倾斜安装，其中心延长线正对加热旋转样品台的中心；加热旋转样品台位于圆柱型真空室的底部，安装于磁力耦合器之上；挡板阀上面设有全量程规，并且连接在涡轮分子泵之上。2.根据权利要求1所述的一种小型磁控溅射镀镆机，其特征在于，所述上盖与圆柱型真空室之间采用O型圈密...

【专利技术属性】
技术研发人员：李双江，张旭，赵闯，
申请(专利权)人：沈阳科晶自动化设备有限公司，
类型：新型
国别省市：辽宁;21