【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种磁传感器装置。此外,本专利技术涉及一种用于磁传感器装置的制造方法。
技术介绍
已知一种磁通门磁强计(Fluxgate-Magnetometer),该磁通门磁强计例如在数字罗盘中使用。该也可称为弗斯特探针(Foerster-Sonde)的磁通门磁强计具有驱动线圈和探测线圈,它们围绕磁芯导向。在数字罗盘中,例如三个磁通门磁强计这样相对于彼此取向,使得磁芯的三个中心纵轴线相互垂直地取向。
技术实现思路
本专利技术提出一种具有权利要求1特征的磁传感器装置和一种具有权利要求10特征的用于磁传感器装置制造方法。本专利技术能够实现,为此使用的线圈和磁芯结构布置在相对小的体积内的情况下,(几乎)无横向影响地测量一磁场的至少两个相互垂直取向的磁场分量。尤其,可以借助本专利技术来阻止被动测量元件磁化方向的不受控的翻转(Umklappens)或者说不受控制的定向对主动测量元件的测量值的干扰影响。基于借助本专利技术可减少/可消除的、测量元件相互的干扰影响,可以将测量元件的磁芯结构更靠近彼此地放置。这允许根据本专利技术的磁传感器装置的小型化,尽管它构造用于探测至少两个相互垂直取向的磁场分量。由于小型化可以将多个磁传感器装置制造在一个作为共同的初始材料使用的晶片上。本专利技术由此减少用于制造磁传感器装置的制造成本。此外,磁传感器装置的小型化允许它的更轻的构造。此外,借助磁传感器装置的小型化可以明 ...
【技术保护点】
磁传感器装置,其具有:沿第一中心纵轴线(10)取向的、具有至少一个第一线圈(18)的第一磁芯结构(12),其中,所述至少一个第一线圈(18)的线匝围绕第一磁芯结构(12)的第一中心纵轴线(10)走向;和具有至少一个第二线圈(20)的第二磁芯结构(16),其中,所述第二磁芯结构(16)从该第二磁芯结构(16)的第一端部面(16a)沿第二中心纵轴线(14)延伸至该第二磁芯结构(16)的第二端部面(16b)并且所述至少一个第二线圈(20)的线匝围绕该第二磁芯结构(16)的第二中心纵轴线(14)走向;其中,所述第二中心纵轴线(14)位于与所述第一中心纵轴线(10)垂直地取向的平面内,其特征在于,所述第二磁芯结构(16)相对于所述第一磁芯结构(12)这样布置,使得该第二磁芯结构(16)的第一端部面(16a)相对于该第一磁芯结构(12)的第一重心(S1)的间距(a1,a2)小于所述第一磁芯结构(12)沿该第一中心纵轴线(10)的最大延伸(L1)的20%。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2013.11.06 DE 102013222538.51.磁传感器装置,其具有:
沿第一中心纵轴线(10)取向的、具有至少一个第一线圈(18)的第
一磁芯结构(12),其中,所述至少一个第一线圈(18)的线匝围绕第一磁
芯结构(12)的第一中心纵轴线(10)走向;和
具有至少一个第二线圈(20)的第二磁芯结构(16),其中,所述第二
磁芯结构(16)从该第二磁芯结构(16)的第一端部面(16a)沿第二中心
纵轴线(14)延伸至该第二磁芯结构(16)的第二端部面(16b)并且所述
至少一个第二线圈(20)的线匝围绕该第二磁芯结构(16)的第二中心纵
轴线(14)走向;
其中,所述第二中心纵轴线(14)位于与所述第一中心纵轴线(10)
垂直地取向的平面内,
其特征在于,
所述第二磁芯结构(16)相对于所述第一磁芯结构(12)这样布置,
使得该第二磁芯结构(16)的第一端部面(16a)相对于该第一磁芯结构(12)
的第一重心(S1)的间距(a1,a2)小于所述第一磁芯结构(12)沿该第
一中心纵轴线(10)的最大延伸(L1)的20%。
2.根据权利要求1所述的磁传感器装置,其中,第二磁芯结构(16)相
对于第一磁芯结构(12)这样布置,使得第二中心纵轴线(14)位于一与
第一中心纵轴线(10)垂直地取向并且包括第一磁芯结构(12)的第一重
心(S1)的平面内。
3.根据权利要求2所述的磁传感器装置,其中,所述第二磁芯结构(16)
相对于所述第一磁芯结构(12)这样布置,使得所述第二中心纵轴线(14)
穿过该第一磁芯结构(12)的第一重心(S1)地走向。
4.根据以上权利要求之一所述的磁传感器装置,其中,所述磁传感器装
置包括沿第三中心纵轴线(30)取向的、具有至少一个第三线圈(34)的
\t第三磁芯结构(32),其中,所述至少一个第三线圈(34)的线匝围绕第三
磁芯结构(32)的第三中心纵轴线(30)走向,其中,该第三中心纵轴线
(30)垂直于所述第一中心纵轴线(10)并且垂直于所述第二中心纵轴线
(14)地取向。
5.根据权利要求4所述的磁传感器装置,其中,所述第三磁芯结构(32)
相对于所述第一磁芯结构(12)和所述第二磁芯结构(16)这样布置,使
得该第三磁芯结构(32)相对于该第一磁芯结构(12)的第一重心(S1)
的间距小于该第一磁芯结构(12)沿所述第一中心纵轴线(10)的最大延
伸(L1)的20%和/或所述第三磁芯结构(30)相对于该第二磁芯结构(16)
的第二重心的间距小于该第二磁芯结构(16)沿所述第二中心纵轴线(14)
的最大延伸的2...
【专利技术属性】
技术研发人员:T·锡南奥卢,S·真科尔,C·保陶克,A·布赖特林,A·丹嫩贝格,V·森兹,
申请(专利权)人:罗伯特·博世有限公司,
类型:发明
国别省市:德国;DE
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