瀑布式层流蚀刻装置制造方法及图纸

在本发明专利技术提供一种瀑布式层流蚀刻装置，其主要包含载台、在载台表面上的凸状物、以及蚀刻溶液释放器。在操作时，主要先使光学玻璃呈现倾斜状态，且由蚀刻溶液释放器的凹槽溢出的蚀刻溶液，利用瀑布流下方式均匀地流经已摆放在载台上的光学玻璃，使光学玻璃被均匀地蚀刻薄化。这样，基于倾斜状态的光学玻璃，蚀刻光学玻璃所产生的生成物，将随着剩余的蚀刻溶液一起顺着光学玻璃的倾斜方向流下。

Cascade laminar flow etching device

A waterfall type laminar flow etching device provided in the invention, which mainly comprises a carrier, on the surface of the platform on the prominence, and the release of etching solution. In operation, the first major optical glass is inclined, the etching solution and etching solution by the overflow groove release, using the waterfall flow evenly through the way of optical glass have been placed on the loading station, the optical glass is uniformly of caustic corrosion. Thus, an optical glass based on an inclined state, produced by etching the optical glass, flows along the remaining glass of the etching solution along the inclined direction of the optical glass.

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种层流蚀刻装置，尤其涉及一种瀑布式层流蚀刻装置。
技术介绍
在液晶显示器轻量化、薄形化及广视角、高亮度的趋势下，液晶制造商 纷纷针对不同的零组件提出薄形化手段，特别是占用体积较大的玻璃基板， 更是厂商们主要采用的薄形化手段。为了薄化玻璃基板，已有厂商纷纷提出各种方法，这些方法大致分为Dip(多片直立式浸泡)、In-line horizontal(单片水平喷洒)、Spray(单片直立式 喷洒)。不论哪种方法，主要都以化学溶液(例如氟化氢溶液)对玻璃基板进行 等向性蚀刻，利用蚀刻时间等控制手段来逐渐薄化玻璃基板，再配合物理性 蚀刻进一步薄化玻璃基板。采用以上的技术，玻璃基板的厚度已从1995年 的1.2mm发展到目前的0.1mm。然而，上述手段本身的缺陷已导致在薄化过 程中产生出其它问题。采用Dip手段时，将多片玻璃基板同时浸泡到蚀刻溶液储槽中，利用蚀 刻溶液对玻璃基板所产生的化学反应，并带走蚀刻后所产生的氟化硅，而逐 渐蚀刻薄化玻璃基板。然而，为了带走氟化硅，必须使用Bubble (泡沫化) 装置，但Bubble装置不易控制，使得制造困难度提高不少。在制造过程中， 由于玻璃表面承受力道不均，很容易造成表面粗造。在此制造过程中，有原 来的蚀刻溶液和反应生成物都留在化学槽内，使得仍浸泡在蚀刻溶液中的玻 璃基板，其表面容易再次反应附着。若要加速反应，则须提高温度，但化学 槽体积大，导致化学液内无法有效温控，造成反应速度不一，因此在薄化完 成后，还需再次研磨，以得到均匀平坦的表面。在根据流体力学原理两端蚀 刻速度会加快使玻璃均匀性变差。原有的蚀刻溶液和反应生成物都留在化学 槽内，使得重复使用的化学液造成增生物过多，无法有效回收，使成本相对 提升。由于玻璃基板被浸泡在蚀刻溶液中，玻璃基板的两面会被相同效率蚀刻，使得若其两面有着不同蚀刻要求时，不易克服。当玻璃基板减薄，玻璃位于cassette (片盒)会形成弧度造成mura (瑕疵)。储液槽大小不变，所 以加工小尺寸成本无法下降。为降低成本必须重复使用化学液，但玻璃溶解 在化学液后密度已不相同，所以每一批蚀刻率不同，而需要在每一批调整程 序，以达到相同蚀刻率。研磨加工风险高及机械应力问题。诸如以上的缺失，目前业界大多采用非浸泡的In-line horizontal(单片水 平喷洒)、Spray(单片直立式喷洒)，但是这两种喷洒方式还是有其缺点存在。在In-line horizontal(单片水平喷洒)中，还是利用玻璃与化学液产生化学 反应，但是仅对水平摆放的玻璃基板上端喷洒蚀刻溶液，借着其喷洒的力道 来加速反应，并把玻璃基板表面上的化学反应生成物(例如氟化硅)带走，以 避免降低蚀刻溶液的浓度而有较佳的回收使用条件、生成物附着在玻璃基板 上等问题。同时，因为每次蚀刻玻璃基板时，仅针对单一面作蚀刻处理，所 以可以满足两面不同蚀刻要求。然而，In-line horizontal(单片水平喷洒)在带走玻璃基板表面反应物时， 其喷洒面积及力道不易控制，使得玻璃基板表面的承受力道不均，容易产生 Dimple (窝)。因为外围喷洒下来的化学液，也会往玻璃内部延伸，玻璃中 心的化学液不易流动，使得中心面积造成反应速度不一，使玻璃均匀性变差。 Throughput (传输率)慢，且当薄化完，还是需要再次研磨。为了解决化学液不易流动的问题，在Spmy(单片直立式喷洒)中，仍利用 蚀刻溶液对玻璃基板产生化学反应，但是仅对垂直摆放的玻璃基板喷洒蚀刻 溶液，使得蚀刻溶液以及生成物自然落下，而没有不流动的问题，并由其喷 洒力道来加速反应，而把玻璃基板表面上的化学反应生成物(例如氟化硅)带 走，并且喷洒后的氢氟酸及反应后的氟化硅可直接过滤回收，而有较佳的回 收使用条件。不像Dip方式会在反应后的生成物与氢氟酸在长时间反应后， 因化学键结合会更固定，不易过滤分解，而In-line horizontal or Spmy则没有 生成物附着在玻璃基板上等等问题。同时，因为每次蚀刻玻璃基板时，仅针 对单一面作蚀刻处理，所以可以满足两面不同蚀刻要求。然而，采用Spray(单片直立式喷洒)方法，虽然能够让蚀刻溶液和生成物 自然落下，但是在带走玻璃基板表面反应物时，仅在玻璃基板左右两侧装有 喷洒装置，使得玻璃基板表面的承受力道不均，容易产生Dimple。当薄化后玻璃不易完全直立固定，且若玻璃没完全直立型成弧度容易摔片及蚀 刻不均。
技术实现思路
本专利技术的主要目的是提供一种瀑布式层流蚀刻装置，其让蚀刻溶液以瀑 布流下方式流经玻璃基板，使得蚀刻溶液随着重力均匀落下，又因蚀刻溶液 在倾斜的光学玻璃有较佳的流动性，能够获得较平均的蚀刻表面。本专利技术的次要目的是提供一种瀑布式层流蚀刻装置，其借着凸状物撑起 光学玻璃，使得光学玻璃与载台的接触面积极小，并使得以瀑布流下方式流 下的蚀刻溶液等也不会吸附住光学玻璃，而避免在取出时剥离破坏。基于上述目的，本专利技术瀑布式层流蚀刻装置主要包含一载台，该载台可调整成倾斜状，且所摆放的该光学玻璃也随该载台呈 现倾斜状；以及一蚀刻溶液释放器，设置在该载台的上方，并具有储存蚀刻溶液的长条状凹槽；其中，由蚀刻溶液释放器的凹槽溢出的蚀刻溶液可自然流下，而均匀地 流经摆放在该载台上的该光学玻璃。在操作时，主要先使光学玻璃呈现倾斜状态，且由蚀刻溶液释放器的凹 槽溢出的蚀刻溶液，可用瀑布流下方式均匀地流经已摆放在载台上的光学玻 璃，使光学玻璃被均匀地蚀刻薄化。如此，基于倾斜状态的光学玻璃，蚀刻 光学玻璃所产生的生成物，将随着剩余的蚀刻溶液一起顺着光学玻璃的倾斜 方向流下。其中，在该载台上具有多个凸状物，使得摆放在该载台上的该光学玻璃 未接触到该载台的平板状表面。所述载台可左右移位，使得摆放在倾斜面上的该光学玻璃也左右移位， 并使得流经该光学玻璃上的蚀刻溶液更均匀地流下。基于倾斜状态的该光学玻璃，蚀刻该光学玻璃所产生的一生成物，将随 着剩余的蚀刻溶液一起顺着该光学玻璃的倾斜方向流下，使得该生成物不会 残留在该光学玻璃上。蚀刻该光学玻璃的蚀刻溶液为氟化氢溶液，而蚀刻该光学玻璃所产生的该生成物则为氟化硅。该瀑布式层流蚀刻装置进一步包含一固定治具，固定住摆放在该载台上的该光学玻璃。该倾斜面的倾斜角度会影响蚀刻溶液停留在该光学玻璃上的时间长短， 而影响对该光学玻璃的蚀刻速率。本专利技术的有益效果是当薄化玻璃基板的时候，针对现有技术中的诸多 手段，本专利技术巧妙地运用蚀刻溶液自身的重力本质，使其均匀地以瀑布流下 的方式从光学玻璃的表面里流下，而不会吸附在光学玻璃上，进而光学玻璃 可以均匀地被蚀刻；另一方面光学玻璃与载台的接触依靠凸状物，使其在蚀 刻过程中产生出的生成物也容易随着蚀刻溶液流下。附图说明图1为本专利技术实施例中瀑布式层流蚀刻装置的示意图。图2A 2B为本专利技术另一实施例中瀑布式层流蚀刻装置的示意图。 其中，附图标记说明如下 10载台12蚀刻溶液释放器 14蚀刻溶液 16光学玻璃 18固定治具 20凸状物具体实施例方式参考图1，图1为本专利技术瀑布式层流蚀刻装置的示意图。如图1所示， 本专利技术瀑布式层流蚀刻装置主要包含载台10、具有储存蚀刻溶液14的长条 状凹槽的蚀刻溶液释放器12。这其中，固定治具本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种瀑布式层流蚀刻装置，用以蚀刻一光学玻璃，其特征在于，该蚀刻装置包含：　一载台，该载台可调整成倾斜状，且所摆放的该光学玻璃也随该载台呈现倾斜状；以及　一蚀刻溶液释放器，设置在该载台的上方，并具有储存蚀刻溶液的长条状凹槽；　 　其中，由蚀刻溶液释放器的凹槽溢出的蚀刻溶液可自然流下，而均匀地流经摆放在该载台上的该光学玻璃。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：严立魏，李景贤，冯庆国，范国胜，
申请(专利权)人：光捷国际股份有限公司，
类型：发明
国别省市：71[中国|台湾]