瀑布式层流蚀刻切割方法技术

在本发明专利技术瀑布式层流蚀刻切割方法中，在光学玻璃上覆盖有保护膜，并使光学玻璃呈现倾斜状，以便在蚀刻溶液释放器溢出蚀刻溶液时，蚀刻溶液可自然流经光学玻璃，以便利用蚀刻溶液的蚀刻能力去除属于切除区域的部分光学玻璃，进而达到蚀刻切割光学玻璃成多个子玻璃的目的。如此，采用本发明专利技术瀑布式层流蚀刻切割方法，不但可以达到低成本切割的目的，而且成功切割薄玻璃的机率也较高。

Cascade laminar etching cutting method

In the method of the present invention waterfall type laminar flow etching and cutting of protective film is covered on optical glass, and optical glass has inclined to release overflow etching solution in the etching solution, etching solution can be naturally through the optical glass, to facilitate the use of etching capacity of etching solution to remove part of the optical glass belonging to the resection area. In order to cut into a plurality of sub optical glass etching glass to. Thus, the waterfall laminar etching cutting method of the invention not only can achieve the purpose of cutting at low cost, but also has a higher probability of cutting thin glass successfully.

【技术实现步骤摘要】

本专利技术是关于一种切割方法，特别是。
技术介绍
在液晶显示器轻量化、薄型化及广视角、高亮度的趋势下，液晶制造商纷 纷针对不同的零组件提出薄形化手段，特别是占用体积较大的玻璃基板，更是 厂商们主要采用的薄形化手段。为了薄化玻璃基板，已有厂商纷纷提出各种方法，这些方法大致分为Dip (多片直立式浸泡)、In-line horizontal (单片水平喷洒)、Spray (单片直立式 喷洒)。不论哪种方法，主要都以化学溶液(例如氟化氩溶液)对玻璃基板进 行等向性蚀刻，利用蚀刻时间等控制手段来逐渐薄化玻璃基板，再配合物理性 蚀刻进一步薄化玻璃基板。采用以上的技术，玻璃基板的厚度已从1995年的 1.2mm发展到目前的O.lmm。在完成薄化光学玻璃之后，通常还需要按照实际需求，将光学玻璃切割成 多个子玻璃。 一般来说，子玻璃的形状可能是矩形、圆形或多边形。在进行切 割时，先针对大片的光学玻璃定义出切除区域，以便利用雷射或钻石刀沿着切 除区域的边缘进行切除，而切割出上述形状的子玻璃。不过，不论是利用雷射 或钻石刀切割，在切割完成之后还需要研磨与修边，这使得雷射或钻石刀切割 的成本会增高，而且由于雷射或钻石刀切割所带来的冲击性太大，对于厚度较 薄的光学玻璃，很容易在切割过程中造成损坏，而导致切割失败。
技术实现思路
本专利技术的主要目的是提供一种，其让蚀刻溶液以 瀑布流下方式流经玻璃基板，使得蚀刻溶液随着重力均匀落至光学玻璃，并利 用保护膜遮蔽住部分光学玻璃，以达成选择性蚀刻切割。如此，本专利技术方法不 但能低成本进行切割，同时成功切割薄玻璃的机率也较高，但却不像传统雷射 切割或钻石刀切割那样冲击性过大且成本也偏高。3基于上述目的，在本专利技术中，在光学玻璃上覆盖 有保护膜，并使光学玻璃呈现倾斜状，以便在蚀刻溶液释放器溢出蚀刻溶液时， 蚀刻溶液可自然流经光学玻璃，以便利用蚀刻溶液的蚀刻能力去除属于切除区 域的部分光学玻璃，进而达到蚀刻切割光学玻璃成多个子玻璃的目的。如此， 采用本专利技术，不但可以达到低成本切割的目的，而且 成功切割薄玻璃的机率也较高。关于本专利技术的优点与精神可以通过以下的专利技术详述及附图得到进一步的 了解。 附图说明图1A 1D为本专利技术的实施示意图。 符号说明 10载台 12薄层 13切除区域 14光学玻璃 14a 14d子玻璃 16保护膜 18蚀刻溶液释放器 20蚀刻溶液 22标示处 具体实施例方式请参阅图1A 1D，图1A 1D为本专利技术的实施示 意图。如图1A所示，本专利技术主要利用到具有薄层12 的载台10、具有储存蚀刻溶液20的长条状凹槽的蚀刻溶液释放器18。这其中， 可利用固定治具(未描绘)固定住摆放在载台10上的光学玻璃14。蚀刻溶液 20的浓度可为20~28%，且每分钟使用量为l~1.5L/pc,以达到10pm/分钟的蚀 刻速度。简单来说，在本专利技术中，在完成光学玻璃14的 薄化工作之后，特别在光学玻璃14上覆盖有如图1A或1B所示的保护膜16,4并使光学玻璃14呈现倾斜状，以便在蚀刻溶液释放器18溢出蚀刻溶液20时， 蚀刻溶液20可自然流经未被覆盖到的光学玻璃14的切除区域13，以便利用 蚀刻溶液20的蚀刻能力去除属于切除区域13的部分光学玻璃14，进而达到 蚀刻切割光学玻璃14成如图1D所示的多个子玻璃14a 14d的目的。需注意的是，上述保护膜16的形状与大小，主要取决于所希望获得的多 个子玻璃14a 14d的形状与大小，而提供大约等同的形状与大小。由于未被保 护膜16所遮蔽到的光学玻璃14的部分，将遭到蚀刻溶液20的腐蚀，进而等 同于在每个子玻璃14a 14d之间定义有切除区域13。如此，釆用本专利技术瀑布 式层流蚀刻切割方法，不但可以达到低成本切割的目的，而且成功切割薄玻璃 的机率也较高。不过，如图1C所示的标示处22 (如图1A所示中的标示处22)，由于蚀 刻溶液20的蚀刻过程为等相性蚀刻，它会造成光学玻璃14的边缘被蚀刻进去， 所以还需进一 步做边缘研磨。在本专利技术中，主要利用载台IO的倾斜面(例如 5°~10。)，使所承载的光学玻璃14呈现倾斜状态。因此，若需要调整蚀刻速率 时，可通过调整倾斜角度，来改变蚀刻溶液停留在光学玻璃14上的时间长短， 从而控制蚀刻速率。同时，随着改变蚀刻溶液20的温度，也会影响对光学玻 璃14的蚀刻速率，所以若釆用高温及高浓度的蚀刻溶液时，可加速整个蚀刻 反应，以便加快蚀刻切割速度。除此之外，本专利技术可基于倾斜状态的光学玻璃 14，使得蚀刻光学玻璃14所产生的生成物，将随着剩余的蚀刻溶液一起顺着 光学玻璃14的倾斜方向流下，以避免生成物和蚀刻溶液混合在一起，进而降 低蚀刻溶液的浓度，而有较佳的回收使用条件，同时也解决了生成物附着在玻 璃基板上等问题。若蚀刻光学玻璃14的蚀刻溶液为氢氟酸溶液时，蚀刻光学 玻璃所产生的生成物则为氟化硅。为了进一步提高蚀刻溶液20流经光学玻璃14时的均匀性，利用特殊机构 使得载台IO可左右移位，使得摆放在倾斜面上的光学玻璃14也随之左右移位， 并使得流经光学玻璃14上的蚀刻溶液20更均匀地借着重力流下。通过以上较佳具体实施例的详述，希望能更加清楚描述本专利技术的特征与精神，而并非以上述所揭露的较佳具体实施例来对本专利技术的范畴加以限制。相反 地，其目的是希望能涵盖各种改变及具相等性的安排于本专利技术所希望申请的权 利要求的范畴内。权利要求1. 一种，是用以蚀刻切割光学玻璃成多个子玻璃，于每个子玻璃之间定义有切除区域，该蚀刻切割方法包含于该光学玻璃上覆盖有保护膜，并使该光学玻璃呈现倾斜状，未被该保护膜覆盖到的该光学玻璃的部分为该切除区域；以及提供具有储存蚀刻溶液的长条状凹槽的蚀刻溶液释放器，并由该蚀刻溶液释放器的凹槽溢出的蚀刻溶液可自然流下，而均匀地流经该光学玻璃，以便利用蚀刻溶液的蚀刻能力去除属于该切除区域的部分该光学玻璃。2. 如权利要求1所述的，其中，可左右移位该 光学玻璃，使得流经该光学玻璃上的蚀刻溶液更均匀地流下。3. 如权利要求1所述的，其中，基于倾斜状态 的该光学玻璃，蚀刻该光学玻璃所产生的生成物，将随着剩余的蚀刻溶液一起 顺着该光学玻璃的倾斜方向流下，使得该生成物不会残留在该光学玻璃上。4. 如权利要求3所述的，其中，蚀刻该光学玻 璃的蚀刻溶液为氟化氢溶液，而蚀刻该光学玻璃所产生的该生成物则为氟化 硅。5. 如权利要求1所述的，其中，该光学玻璃的 倾斜角度会影响蚀刻溶液停留在该光学玻璃上的时间长短，从而影响对该光学 玻璃的蚀刻速率。6. 如权利要求1所述的，其中，随着改变蚀刻 溶液的温度，而影响对该光学玻璃的蚀刻速率。全文摘要在本专利技术中，在光学玻璃上覆盖有保护膜，并使光学玻璃呈现倾斜状，以便在蚀刻溶液释放器溢出蚀刻溶液时，蚀刻溶液可自然流经光学玻璃，以便利用蚀刻溶液的蚀刻能力去除属于切除区域的部分光学玻璃，进而达到蚀刻切割光学玻璃成多个子玻璃的目的。如此，采用本专利技术，不但可以达到低成本切割的目的，而且成功切割薄玻璃的机率也较高。文档编号C03C15/00GK101445328SQ200710194619公开日2009年6月3日 申请日期2007年11月27日 优先权日2007年11月27日专利技术者严立巍, 范国胜 申请人:光捷国际股本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种瀑布式层流蚀刻切割方法，是用以蚀刻切割光学玻璃成多个子玻璃，于每个子玻璃之间定义有切除区域，该蚀刻切割方法包含：　于该光学玻璃上覆盖有保护膜，并使该光学玻璃呈现倾斜状，未被该保护膜覆盖到的该光学玻璃的部分为该切除区域；以及提供具有储存蚀刻溶液的长条状凹槽的蚀刻溶液释放器，并由该蚀刻溶液释放器的凹槽溢出的蚀刻溶液可自然流下，而均匀地流经该光学玻璃，以便利用蚀刻溶液的蚀刻能力去除属于该切除区域的部分该光学玻璃。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：严立巍，范国胜，
申请(专利权)人：光捷国际股份有限公司，
类型：发明
国别省市：71[中国|台湾]