用于玻璃的回收处理系统技术方案

在本发明专利技术用于玻璃的回收处理系统中，主要包含储存槽、以及释放化学溶液至储存槽的化学溶液释放器。当化学溶液释放器的化学溶液自然溢出时，化学溶液会流入储存槽中，并从排放阀被排除，以便利用化学溶液的化学特性，去除光学玻璃上有瑕疵的薄膜层。被去除薄膜层的光学玻璃可直接再次被利用来形成没有瑕疵的薄膜层，而无须完全销毁光学玻璃。

Recovery and processing system for glass

The invention is used in a glass recovery processing system, mainly comprising a storage tank and a chemical solution releaser for releasing a chemical solution to a storage tank. When the chemical solution chemical solution release natural overflow, chemical solution flows into the storage tank, and is excluded from the discharge valve, in order to use the chemical properties of the chemical solution, removing thin layers has defects on optical glass. The optical glass removed by the film layer can be used again directly to form a film layer without defects, without having to destroy the optical glass completely.

【技术实现步骤摘要】

本专利技术是关于一种回收处理方法，特别是用于玻璃的回收处理系统。
技术介绍
薄膜电晶体液晶显示器(Thin Film Transistor Liquid Crystal Display, TFT-LCD )是在两片很薄的导电玻璃( 一 片是彩色滤光片，另 一 片是有电晶体 的玻璃基板)中间灌入液晶，两边再贴上偏光板，然后加上驱动电路、背光模 组及框架。其制程可概分为三大部分，即"TFT阵列基板(Array )"、"面板组 装(Cell)"、"模组组装(Module)"等。然而，在制造过程中，难免因为某些因素导致"面板组装(Cdl)"成为 废液晶玻璃。为了回收废液晶玻璃， 一般都经过"前处理"、"混料"、"制坯"、 "干燥"、"烧结"等步骤。具体来说，在"前处理"中，若废液晶玻璃片尺寸 过大时，需先以怪手进行破碎后，再送入破碎机破碎成玻璃粒。然后将含液晶 的玻璃粒送至蒸发炉，将液晶蒸出或成份破坏。"混料"则将已去除液晶的玻 璃粒，送至球磨机研磨成200mesh玻璃细粉。然后以适当比例掺配于原料土 中，进行挤压混拌，即可初步得到均匀混练的制砖原料土。再来，在"制坯" 中，由调节制砖原料土的供料机，将原料土导入螺旋搅拌机，并用自动加水系 统控制原料土的含水率，在导入射出成型机之前由机器抽真空，加强其密和度。 接着，"干燥"则是将前一单元完成的粗坯送入生坯预备线上，以自然阴干方 式静置至少36小时后导入砖坯烘干窑干燥。最后，在"烧结，，中，以渐进式 加温和连续进料方式烧结，烧成窑内分为渐进料预备常温段、加温段及高温烧 结段。相关专利，请参阅中国台湾专利公告号第1226315号"液晶显示面板玻 璃的回收方法"。然而，上述方法必须先破坏玻璃再重新烧结成玻璃，而导致必须损耗相当 大的能源才能完成回收，并不符合经济效益。再者，除了含液晶的玻璃可以轻 易地借着高温去除液晶，其他具有各种薄膜层的光学玻璃则无法利用此方法完本专利技术的主要目的是提供一种用于玻璃的回收处理系统，其利用化学溶 液的化学特性，去除光学玻璃上有瑕疯的薄膜层，而无须破坏光学玻璃就可达 到回收的目的，不但减少污染与能耗，同时也可以回收各类具有薄膜层的光学 玻璃。基于上述目的，在本专利技术用于玻璃的回收处理系统中，主要包含储存槽、 以及释放化学溶液至储存槽的化学溶液释放器。当化学溶液释放器的化学溶液 自然溢出时，化学溶液会流入储存槽中，并从排放阀被排除，以便利用化学溶 液的化学特性，去除光学玻璃上有瑕疵的薄膜层。被去除薄膜层的光学玻璃可 直接再次被利用来形成没有瑕疵的薄膜层，而无须完全销毁光学玻璃。关于本专利技术的优点与精神可以通过以下的专利技术详述及附图得到进一步的了解。 附图说明图1为本专利技术用于玻璃的回收处理系统的示意图。 符号说明10储存槽 10a排放阀 12化学溶液释放器 14光学玻璃 16、 16a、 16b化学溶液 18载台 20薄膜层 具体实施例方式请参阅图1，图1为本专利技术用于玻璃的回收处理系统的示意图。如图1 所示，在本专利技术用于玻璃的回收处理系统中，主要包含储存槽10、以及释放 化学溶液16至储存槽10的化学溶液释放器12。储存槽10具有储存空间与排 放阀10a。储存空间可储存化学溶液16,而排放阔10a可使已储存的化学溶液 16被排出。化学溶液释放器12具有储存化学溶液16的长条状凹槽，并被设4置在储存槽IO的上方。简单来说，在本专利技术用于玻璃的回收处理系统中，如图1所示，当化学溶液释放器12的化学溶液16自然溢出时，化学溶液16a会流入储存槽10中 的光学玻璃14上，以利用化学溶液16的化学特性，去除光学玻璃14上有瑕 疵的薄膜层20,而无须破坏光学玻璃14就可达到回收的目的，不但减少污染 与能耗，同时也可以回收各类具有薄膜层20的光学玻璃14。由于光学玻璃14上的薄膜层20通常会由数个薄膜材料所构成，因此在 以往必须针对不同薄膜材料用不同方法去除，甚至在去除不够彻底时还需研 磨。为了克服这样的问题，在本专利技术化学溶液16可采用低浓度的氢氟酸溶液， 以达到 一次性去除不同薄膜材料。具体来说，当化学溶液释放器12的化学溶液16自然溢出时，化学溶液 16a会流入储存槽10中，并从排放阀10a排除化学溶液16b (包含有反应生成 物)，以便利用化学溶液16的化学特性处理被浸入在储存槽10中的光学玻璃 14,但又不会在储存槽10中残留生成物。若处理光学玻璃14的化学溶液16 为氟化氬溶液，则处理光学玻璃14所产生的生成物为氟化硅。通常为了只处理单一面上的光学玻璃14,只对光学玻璃14的其中一面提 供自然溢出的化学溶液16a,而流经被倾斜摆设在储存槽10中的光学玻璃14， 并同样地从排放阀10a被排除，以便利用化学溶液16的化学特性处理被倾斜 摆设在储存槽10中的光学玻璃14的其中一面。上述系统中主要利用载台18的倾斜面(例如5。~10。)，使所承载的光学 玻璃14呈现倾斜状态。因此，若需要调整处理速率时，可通过调整倾斜角度， 来改变化学溶液停留在光学玻璃14之上的时间长短，从而控制处理速率。此 外，使用低浓度的氢氟酸溶液处理光学玻璃14时，会因化学反应所带来的温 度提升，在光学玻璃上14形成凹陷(dimple )，不过，利用上述自然溢出的化 学溶液16a与倾斜光学玻璃14的自然落下，可有效使温度维持在特定温度内， 避免在光学玻璃上14形成凹陷(dimple)。为了进一步提高化学溶液16流经光学玻璃14时的均匀性，利用特殊机 构使得载台18可左右移位，使得摆放在倾斜面上的光学玻璃14也随之左右移 位，并使得流经光学玻璃14上的化学溶液16更均匀地借着重力流下。此外，比起平面摆放光学玻璃14的做法(例如需要研磨等步骤)，由于 本专利技术是将光学玻璃14摆放在倾斜的载台18上，使得整体装置大小相对较小， 占用较小的厂房空间。通过以上较佳具体实施例的详述，希望能更加清楚描述本专利技术的特征与精 神，而并非以上述所揭露的较佳具体实施例来对本专利技术的范畴加以限制。相反 地，其权利要求1. 一种用于玻璃的回收处理系统，包含储存槽，其具有储存空间与排放阀，该储存空间可储存该化学溶液，该排放阀可使已储存的该化学溶液被排出；化学溶液释放器，其具有储存化学溶液的长条状凹槽，并被设置在该储存槽的上方；其中，当该化学溶液释放器的该化学溶液自然溢出时，该化学溶液会流入该储存槽中，并从该排放阀被排除，以便利用该化学溶液的化学特性，去除被倾斜摆设在该储存槽中的该光学玻璃上的薄膜层。2. 如权利要求1所述的用于玻璃的回收处理系统，其中，已去除该薄膜 层的该光学玻璃可再次被利用。3. 如权利要求1所述的用于玻璃的回收处理系统，其中，该薄膜层为具 有瑕疵的彩色膜(CF )或TFT光学薄膜。4. 如权利要求1所述的用于玻璃的回收处理系统，其中，基于倾斜状态 的该光学玻璃，处理该光学玻璃所产生的生成物，将随着剩余的化学溶液一起 顺着该光学玻璃的倾斜方向流下，使得该生成物不会残留在该光学玻璃上。5. 如权利要求4所述的用于玻璃的回收处理系统，其中，处理该光学玻 璃的化学溶液为氟化氬溶液，而处理该光学玻璃所产生的该生成物则为氟化 硅。6. 如权利要求1所述的用于玻璃的回收处理系统，其中，使该光学玻璃本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于玻璃的回收处理系统，包含：　储存槽，其具有储存空间与排放阀，该储存空间可储存该化学溶液，该排放阀可使已储存的该化学溶液被排出；　化学溶液释放器，其具有储存化学溶液的长条状凹槽，并被设置在该储存槽的上方；　其中，当该 化学溶液释放器的该化学溶液自然溢出时，该化学溶液会流入该储存槽中，并从该排放阀被排除，以便利用该化学溶液的化学特性，去除被倾斜摆设在该储存槽中的该光学玻璃上的薄膜层。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：严立巍，范国胜，
申请(专利权)人：光捷国际股份有限公司，
类型：发明
国别省市：71[中国|台湾]