一种利用可重复使用的屏蔽进行玻璃蚀刻的方法技术

一种以可重复使用的屏蔽进行的玻璃的蚀刻方法，其包括下列步骤：　　　　（ａ）提供一玻璃，该玻璃具有第一表面及相对应的第二表面；　　　　（ｂ）提供可重复使用的屏蔽，该屏蔽为具有第一表面及相对应的第二表面的一种基材，且该基材具有穿透该第一表面及相对应的该第二表面的孔洞图案；　　　　（ｃ）将该玻璃的第一表面与该屏蔽的第一表面接合在一起；　　　　（ｄ）提供一夹持具，并将该玻璃及该屏蔽置入该夹持具内，且该夹持具与该玻璃及该屏蔽紧密配合；　　　　（ｅ）提供一蚀刻液，并将该玻璃、该屏蔽及该夹持具一起置入该蚀刻液中，且控制该蚀刻液的浓度及腐蚀时间，以完成玻璃的腐蚀；以及　　　　（ｆ）提供一激光机构，藉由该激光机构发射激光，而将该玻璃及该屏蔽分离。（*该技术在2023年保护过期，可自由使用*）

A method of glass etching using a reusable shield

A method for etching a reusable shielding glass, which comprises the following steps: (a) providing a glass, the glass has a first surface and a corresponding second surface; (b) provide shielding repeated use of the shield as a substrate having a first surface and a corresponding second surface the substrate and the penetrating hole pattern corresponding to the first surface and the second surface; (c) the first surface of the glass and the first surface of the shield are joined together; (d) provides a gripper, and the glass and the shield is placed into the holder, and the gripper closely with the glass and the shield; (E) provides an etching solution, and the glass, the shield and the holder together into the etching Liquid, concentration and control of the etching solution and etching time, to complete the glass corrosion; and (f) provide a mechanism by which laser, laser and laser emission mechanism, the glass and the shield separation.

【技术实现步骤摘要】

本专利技术是关于一种玻璃蚀刻方法，特别是关于一种利用屏蔽进行的玻璃蚀刻方法以及该屏蔽的制作方法。
技术介绍
光刻法(Photolithography)可以说是整个半导体工艺中，最举足轻重的步骤之一，凡是与MOS(Metal-Oxide Semiconductor)金属氧化半导体组件相关的结构，都是由光刻法这个步骤来决定。因此，我们通常以一个工艺所需要经过的光刻法次数，或是所需要的玻璃光罩数量，来表示这个工艺的难易程度。另外，近年来随着生化医学科技及光电组件相关产业的日益热络，玻璃和热塑性塑料材料由于具有与生物体液兼容的特性与良好的光穿透性，故使得玻璃相关的工艺技术发展也日益受到重视。图1为已知玻璃图案制作流程的示意图。请参考图1，为已知玻璃图案的制作流程，首先，提供一玻璃102，并在玻璃102表面上镀一层有机光刻胶104，接着，置于曝光机(未图示)下，使光源发射平行光106，平行光106穿过光罩108后，打在这层有机光刻胶104上，因为光罩108上面有图案110，这些图案110将把平行光106反射，因而使穿透光罩108的平行光106也具备与光罩108相同的图案110。且在曝光过程本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：潘正堂，沈圣智，陈鸿隆，王郁仁，蔡明杰，陈明丰，
申请(专利权)人：财团法人工业技术研究院，
类型：发明
国别省市：