本发明专利技术提供耐候性高的信息记录媒体基板用玻璃。所述信息记录媒体基板用玻璃以基于下述氧化物的摩尔％表示，含有６１～６６％的ＳｉＯ↓［２］、１１．５～１７％的Ａｌ↓［２］Ｏ↓［３］、８～１６％的Ｌｉ↓［２］Ｏ、２～８％的Ｎａ↓［２］Ｏ、２．５～８％的Ｋ↓［２］Ｏ、０～６％的ＭｇＯ、０～４％的ＴｉＯ↓［２］和０～３％的ＺｒＯ↓［２］，Ａｌ↓［２］Ｏ↓［３］＋ＭｇＯ＋ＴｉＯ↓［２］为１２％以上，Ｌｉ↓［２］Ｏ＋Ｎａ↓［２］Ｏ＋Ｋ↓［２］Ｏ为１６～２３％，含有Ｂ↓［２］Ｏ↓［３］时其含量不足１％。所述信息记录媒体基板用玻璃在１２０℃、０．２ＭＰａ的水蒸气气氛中保持了２０小时后，从该玻璃表面析出的Ｌｉ量、Ｎａ量、Ｋ量分别被记为Ｃ↓［Ｌｉ］、Ｃ↓［Ｎａ］、Ｃ↓［Ｋ］时，Ｃ↓［Ｎａ］小于等于０．７ｎｍｏｌ／ｃｍ↑［２］，Ｃ↓［Ｌｉ］＋Ｃ↓［Ｎａ］＋Ｃ↓［Ｋ］小于等于３．５ｎｍｏｌ／ｃｍ↑［２］。
Glass for recording media substrate, glass substrate for magnetic disk, and disk
The invention provides an information recording medium with high weather resistance, wherein glass is used for recording a substrate. The information recording media based on the substrate by mol% oxide represented by glass, containing 61 to 66% SiO: 2, 11.5 ~ 17% Al: 2 O: 3, 8 ~ 16% Li: 2 O, 2 ~ 8% Na: 2 O from 2.5 to 8%, K: 2 O, 0 ~ 6% MgO and 0 ~ 4% TiO: 2 and 0 ~ 3% ZrO: 2, Al: 2 O: 3 MgOTiO: 2 for more than 12%, down 2 ONa down Li 2 OK: 2 O 16 ~ 23%, the content of B containing 2 O: 3: 1%. The information recording media using glass substrate at 120 DEG C, 0.2MPa water vapor atmosphere maintained after 20 hours, from Li, from the surface of the glass Na and K were recorded as C: Li, C: Na, C: K, C: \Na is less than or equal to 0.7nmol / cm = 2, C: Li C: Na C: K is less than or equal to 3.5nmol / cm = 2.
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及被用于磁盘(硬盘)等信息记录媒体的基板的玻璃、磁盘用玻 璃基板及磁盘。
技术介绍
作为信息记录媒体用基板，特别是作为磁盘用基板，玻璃基板被广泛使用，已知以摩尔％表示的组成含有65.4°%的Si02、 8.6%的八1203、 12.5 %的1^20、 10.5X的Na20、 3.0%的Zr02的市售玻璃。该市售玻璃经化学 强化处理后使用。另一方面，在专利文献1中揭示了未进行化学强化处理的磁盘用基板 玻璃。日本专利特开2002-358626公报(表1 14)
技术实现思路
作为磁盘用玻璃基板，要求其在库存中表面性状不发生显著变化，在 所述基板上形成的底膜、磁性膜、保护膜等膜不易剥离，S卩，要求其具备 耐候性。Li、 Na、 K等碱金属成分作为玻璃的熔融促进剂被广泛使用，但 这些成分被空气中的水分选择性地从玻璃提取，最终与空气中的二氧化碳 或二氧化硫等成分反应，作为碱金属碳酸盐或碱金属硫酸盐附着在玻璃表 面(白色痕迹)，因此必须防止该反应的发生。此外，如果碱金属成分扩散至磁性膜，则易引起记录的信息消失等现 象，因此存在作为记录媒体的可靠性明显下降的问题，其中Na被认为最容 易扩散至磁性膜。这是因为Na与Li相比，其电场强度(相对于离子半径的 电荷强度)小，与K相比，其离子半径小，因此它是相对容易移动的离子。本专利技术者认为在耐候性试验中Na的析出多的玻璃引发所述问题，因此以解决该问题为目的完成了本专利技术。本专利技术提供信息记录媒体基板用玻璃，该玻璃以基于下述氧化物的摩尔％表示，含有61 66%的Si02、 11.5 17%的A1203、 8 16%的Li20、 2 8%的Na20、 2.5 8%的K20、 0 6%的MgO、 0 4%的Ti02和0 3%的 Zr02， Al203 + MgO + Ti02为12%以上，Li20+Na20 + K20为16 23%， 含有B203时其含量不足1%。例如含有0 6%的MgO是指MgO并不是必须成分，但可在不超过6% 的范围内含有该成分。此外，还提供如下的所述信息记录媒体基板用玻璃含有l种以上选 自CaO、 SrO及BaO的碱土类金属氧化物时，这些碱土类金属氧化物的合 计含量为1%以下。此外，还提供不含B203的所述信息记录媒体基板用玻璃。 另外，还提供由所述信息记录媒体基板用玻璃形成的磁盘用玻璃基板。 另外，还提供在所述磁盘用玻璃基板上形成有磁记录层的磁盘。 本专利技术者对所述市售的化学强化玻璃进行了后述的耐候性试验后发 现，Na析出量C^为0.84nmol/cm2， Li、 Na、 K的析出量合计CLi + CNa+ CK为3.5nmol/cm、后述的例32)，未实施化学强化的玻璃的CNa为 3.2nmol/cm2， 0^ + (3^ + (^为18.3nmol/cm2(后述的例33)，明确未实施化 学强化的玻璃的耐候性并不高，通过化学强化处理改善了耐候性。S卩，该 玻璃被认为通过化学强化处理才可作为磁盘用玻璃基板使用，其理由是随 着化学强化处理的进行在玻璃表面离子半径大的碱金属成分增加，移动度 下降。但是，化学强化处理存在因工序增加而导致成本提高、因化学强化 处理而污垢易附着于基板表面等问题。此外，该化学强化玻璃的Na析出量 并不少，因此向磁性膜的扩散增加，可能会导致可靠性的下降。另一方面，专利文献1例示的组成中除了碱金属成分以外，大部分含 1摩尔％以上的8203。 8203是以降低玻璃的脆性和比重、促进玻璃的熔融 性等为目的而添加的，但如果与碱金属成分共存，则形成蒸气压非常低的 碱金属硼酸盐化合物，因此该成分会从玻璃熔液中急剧地挥散。这样就会 出现玻璃表面的波筋等不均匀，导致玻璃品质下降，同时存在挥散物凝縮于在玻璃熔融窑中使用的砖物质而使砖的强度显著下降、挥散物的回收处 理需要巨大的成本等问题。另外，专利文献1中揭示了 4种不含B203的组成，但任一种玻璃的Na含量都较高，因此CNa达到0.7nmol/cn^以上。实际上后述的例34就是 专利文献1的例63的玻璃，其Cw为0.74nmol/cm2。因此，Na向磁性膜的 扩散增加，可能会导致可靠性下降。本专利技术可获得未经化学强化处理但耐候性试验后的Na析出量、碱金属析出总量低的信息记录媒体基板用玻璃。藉此可使形成于所述基板上的底 膜、磁性膜、保护膜等膜不易剥离。此外，可获得能够抑制Na向磁性膜的扩散、可靠性高的信息记录媒体。由于能够不进行化学强化处理而获得信息记录媒体用玻璃基板，因此 可减少工序，且可解决化学强化处理后的基板表面的污垢附着问题。另外，由于可获得耐酸性高的玻璃，因此在低pH下的研磨工序和洗涤 工序中不会发生表面粗化，可获得高品质的信息记录媒体基板用玻璃。另外，可获得杨氏模量、比弹性率高的信息记录媒体基板用玻璃。藉 此在磁盘驱动装置(drive)旋转中不易发生翘曲或挠曲，可获得高记录密度的 信息记录媒体。另外，可获得密度小的信息记录媒体基板用玻璃。藉此，在磁盘驱动 装置旋转中电动机负荷可降低，能够实现低耗电。另外，可获得平均线膨胀系数大的信息记录媒体基板用玻璃。藉此， 与金属制的磁盘驱动装置等其它部件的热膨胀匹配提高，温度变化时所产 生的应力变小，不易发生基板破裂等情况。另外，可获得强度高的信息记录媒体基板用玻璃。藉此，媒体、磁盘 驱动装置制造时的破裂发生概率或磁盘驱动装置受到冲击时的基板破裂发 生概率降低。另外，可获得失透温度比高温粘性低的信息记录媒体基板用玻璃。藉 此，可实现浮法、熔融法、下拉法等的连续成形，可实现大规模生产。另外，可获得玻璃化温度高的信息记录媒体基板用玻璃。藉此，可提 高在基板上形成磁性膜后所实施的热处理温度，可获得记录密度高的信息记录媒体。具体实施例方式本专利技术的信息记录媒体基板用玻璃(以下称为本专利技术的玻璃)的密度(d) 较好为2.50g/cm3以下。如果超过2.50g/cm3，则可能磁盘驱动装置旋转时 电动机负荷大而耗电量增加，或者磁盘驱动装置旋转变得不稳定。优选 2.49g/cm3以下。较好的是本专利技术的玻璃的杨氏模量(E)为80GPa以上且比弹性率(E/d) 为32MNm/kg以上。如果E不足80GPa或者比弹性率不足32MNm/kg，则 磁盘驱动装置旋转中易发生翘曲或挠曲，可能很难获得高记录密度的信息 记录媒体。更好的是E为81GPa以上且E/d为32.5MNn/kg以上。较好的是本专利技术的玻璃的玻璃化温度(Tg)为520'C以上。如果不足520 °C，则无法充分提高磁性层形成热处理温度，可能很难实现磁性层的顽磁 力的增加。更好的是525。C以上。较好的是将本专利技术的玻璃在其液相温度记为Tl、粘度达到104dPa*s 时的温度记为丁4时，(TL — T4)<50°C。如果(Tl一T4)在50"C以上，则很难 浮法成形，更好的是小于4(TC，特好的是小于3(TC。较好的是本专利技术的玻璃的50 35(TC时的平均线膨胀系数(a)为85X 10力r以上。如果不足85X10力'C，则与金属制的磁盘驱动装置等其它部 件的热膨胀系数的差值变大，温度变化时所产生的应力可能容易引起基板 的破裂等。更好的是88X10力。C以上。a典型的是100X10力。C以下。本专利技术的玻璃的通本文档来自技高网...
【技术保护点】
信息记录媒体基板用玻璃，其特征在于，以基于下述氧化物的摩尔％表示，含有６１～６６％的ＳｉＯ↓［２］、１１．５～１７％的Ａｌ↓［２］Ｏ↓［３］、８～１６％的Ｌｉ↓［２］Ｏ、２～８％的Ｎａ↓［２］Ｏ、２．５～８％的Ｋ↓［２］Ｏ、０～６％的ＭｇＯ、０～４％的ＴｉＯ↓［２］和０～３％的ＺｒＯ↓［２］，Ａｌ↓［２］Ｏ↓［３］＋ＭｇＯ＋ＴｉＯ↓［２］为１２％以上，Ｌｉ↓［２］Ｏ＋Ｎａ↓［２］Ｏ＋Ｋ↓［２］Ｏ为１６～２３％，含有Ｂ↓［２］Ｏ↓［３］时其含量不足１％。
【技术特征摘要】
...
【专利技术属性】
技术研发人员：中岛哲也，前田敬，下平宪昭，竹中敦义，
申请(专利权)人：旭硝子株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]
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