一种蒸镀设备制造技术

本实用新型专利技术提供一种蒸镀设备，包括蒸发源和设置于蒸发源上方、用于放置待蒸镀基板的基板承载机构，其中，所述蒸镀设备还包括：基片固定机构，至少一膜厚监控基片设置于所述基片固定机构上，与所述待蒸镀基板同平面设置，且与所述待蒸镀基板贴合；其中在所述待蒸镀基板的镀膜过程中，所述待蒸镀基板和所述膜厚监控基片均位于所述蒸发源的有效蒸镀区域内。所述蒸镀设备通过设置基片固定机构，使膜厚监控基片与待蒸镀基板均位于蒸发源的有效蒸镀区域内，当完成待蒸镀基板的一次镀膜时，监测膜厚监控基片上的膜厚，即能够达到监控蒸镀过程中的膜层厚度的目的。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及显示器制造
，尤其是指一种蒸镀设备。
技术介绍
有机发光二极管又称为有机电激光显示(Organic Light-Emitting Diode，OLED)器件中，膜层膜厚对器件的性能有着重要影响，因此在OLED器件的必不可少制造工艺—蒸镀过程中，需要及时掌控膜层厚度变化，以便了解OLED器件性能的波动。尤其对于大尺寸OLED器件的蒸镀设备来说，分析器件膜层厚度分布是分析显示器件的特性变化的重要手段。传统OLED器件膜厚分布监控方法是在蒸镀工艺前后，利用对蒸发源的膜厚进行测量来了解蒸镀所形成膜层的膜厚，但该方法具有耗时长且无法实时监控蒸镀过程中膜厚变化的缺点。此外，线性蒸镀设备连续蒸镀的特点也决定了很难对蒸镀过程中单层OLED器件的膜层厚度进行监控，但往往正是单层膜层膜厚的波动对OLED器件性能产生巨大的影响。
技术实现思路
本技术技术方案的目的是提供一种蒸镀设备，能够及时监控蒸镀过程中的膜层厚度。本技术提供一种蒸镀设备，包括蒸发源和设置于蒸发源上方、用于放置待蒸镀基板的基板承载机构，其中，所述蒸镀设备还包括：基片固定机构，至少一膜厚监控基片设置于所述基片固定机构上，与所述待蒸镀基板同平面设置，且与所述待蒸镀基板贴合；其中在所述待蒸镀基板的镀膜过程中，所述待蒸镀基板和所述膜厚监控基片均位于所述蒸发源的有效蒸镀区域内。优选地，上述所述的蒸镀设备，其中，所述基板承载机构包括一传送结构，
所述待蒸镀基板设置于所述传送结构上，在所述蒸发源的蒸发材料对所述待蒸镀基板进行镀膜时，通过所述传送结构，所述待蒸镀基板从第一位置移动至第二位置；其中，所述基片固定机构设置于所述第一位置远离所述第二位置的一侧，和/或设置于所述第二位置远离所述第一位置的一侧。优选地，上述所述的蒸镀设备，其中，所述蒸镀设备还包括：移动机构，所述基片固定机构与所述移动机构连接，通过所述移动机构，所述基片固定机构在第三位置和第四位置之间动作，其中在所述第三位置，所述膜厚监控基片位于所述蒸发源的有效蒸镀区域之内；在所述第四位置，所述膜厚监控基片位于所述蒸发源的有效蒸镀区域之外；第一驱动机构，与所述移动机构连接，通过所述第一驱动机构，所述移动机构驱动所述基片固定机构在第三位置和第四位置之间动作。优选地，上述所述的蒸镀设备，其中，所述蒸镀设备还包括：遮挡结构，包括能够在第五位置和第六位置之间动作的遮挡挡板，其中所述遮挡挡板在所述第五位置时，设置于所述基片固定机构与所述蒸发源之间，遮挡所述蒸发源到所述膜厚监控基片的有效蒸镀区域；所述遮挡挡板在所述第六位置时，移离所述蒸发源到所述膜厚监控基片的有效蒸镀区域；第二驱动机构，与所述遮挡结构连接，驱动所述遮挡挡板在所述第五位置和所述第六位置之间动作。优选地，上述所述的蒸镀设备，其中，所述遮挡结构还包括设置于所述膜厚监控基片上方的转动轴和连接所述转动轴和所述遮挡挡板的传动杆；其中，通过所述传动杆带动所述遮挡挡板绕所述转动轴转动，所述遮挡挡板在所述第五位置和所述第六位置之间动作。优选地，上述所述的蒸镀设备，其中，所述第二驱动机构包括：移动支架，设置于所述膜厚监控基片的上方；电机，驱动所述移动支架朝远离或靠近所述膜厚监控基片的方向移动；其中所述移动支架朝靠近所述膜厚监控基片的方向移动，所述移动支架与所述传动杆连接，所述传动杆带动所述遮挡挡板向所述第六位置动作；所述移动支架朝远离所述膜厚监控基片的方向移动，所述移动支架与所述传动杆连接，
所述传动杆带动所述遮挡挡板向所述第五位置动作。优选地，上述所述的蒸镀设备，其中，所述蒸镀设备包括一壳体，其中所述蒸发源、所述基板承载机构、所述基片固定机构、所述遮挡结构和所述第二驱动机构均设置于所述壳体的内部。优选地，上述所述的蒸镀设备，其中，所述基片固定机构包括一承载台，所述膜厚监控基片固定于所述承载台上。优选地，上述所述的蒸镀设备，其中，所述基片固定机构包括一贴附结构，通过所述贴附结构，所述膜厚监控基片与所述待蒸镀基板贴合连接。优选地，上述所述的蒸镀设备，其中，所述膜厚监控基片为硅晶圆或者玻璃材料制成。本技术具体实施例上述技术方案中的至少一个具有以下有益效果：所述蒸镀设备通过设置基片固定机构，使膜厚监控基片与待蒸镀基板均位于蒸发源的有效蒸镀区域内，当完成待蒸镀基板的一次镀膜时，监测膜厚监控基片上的膜厚，即能够达到监控蒸镀过程中的膜层厚度的目的。附图说明图1表示本技术第一实施例所述蒸镀设备的结构示意图；图2表示本技术第二实施例所述蒸镀设备的结构示意图。具体实施方式为使本技术要解决的技术问题、技术方案和优点更加清楚，下面将结合具体实施例及附图进行详细描述。本技术具体实施例所述蒸镀设备，包括蒸发源和设置于蒸发源上方、用于放置待蒸镀基板的基板承载机构，其中，所述蒸镀设备还包括：基片固定机构，至少一膜厚监控基片设置于所述基片固定机构上，与所述待蒸镀基板同平面设置，且与所述待蒸镀基板贴合；其中在所述待蒸镀基板的镀膜过程中，所述待蒸镀基板和所述膜厚监控基片均位于所述蒸发源的有效蒸镀区域内。本技术上述结构的蒸镀设备，通过设置用于固定膜厚监控基片的基片固定机构，使膜厚监控基片与待蒸镀基板均位于蒸发源的有效蒸镀区域内，当完成待蒸镀基板的一次镀膜时，监测膜厚监控基片上的膜厚，即能够达到监控蒸镀过程中的膜层厚度的目的。具体地，上述所提及的蒸发源的有效蒸镀区域是指蒸发源在对待蒸镀基板进行镀膜时，蒸发材料在所述蒸发源中被加热为蒸发气体时，蒸发气体在到达待蒸镀基板所在平面时所分布区域，也即采用本技术实施例所述蒸镀设备，膜厚监控基片与待蒸镀基板同时位于从蒸发源所蒸发气体的分布区域内。另外，所述蒸镀设备中的膜厚监控基片为硅晶圆或者玻璃材料制成。上述材料制成的膜厚监控基片与待蒸镀基板一起设置于蒸镀设备的内部，在对待蒸镀基板进行镀膜时，膜厚监控基片与待蒸镀基板同时位于蒸发源的有效蒸镀区域内，这样一次镀膜时，膜厚监控基片上的膜层厚度与待蒸镀基板上的膜层厚度相同。上述结构的蒸镀设备中，用于固定膜厚监控基片的基片固定机构可以包括一承载台，膜厚监控基片固定于承载台上，实现固定，且与待蒸镀基板相贴合；基片固定机构也可以包括一贴附结构，通过该贴附结构，膜厚监控基片与待蒸镀基板贴合连接，实现固定。当然，基片固定机构的具体结构并不仅限于为这两种，本领域技术人员在实施本技术的蒸镀设备时，也可以采用其他结构和方式固定膜厚监控基片。以下结合附图，对本技术具体实施例所述蒸镀设备的具体结构进行详细描述。参阅图1，本技术第一实施例所述蒸镀设备具体包括：蒸发源10；基板承载机构20，设置于蒸发源10的上方，其中在蒸镀过程中，待蒸镀基板1固定放置于该基板承载机构20上；其中蒸发源10和基板承载机构20可以依据现有技术通常蒸镀设备中的具体设置方式，在此不详细描述；基片固定机构30，至少一膜厚监控基片2设置于该基片固定机构30上；本技术实施例中，如图1所示，该基片固定机构30形成为一承载台；移动机构40，其中基片固定机构30与移动机构40连接，通过移动机构
40，基片固定机构30在位置A(第三位置)和位置B(第四位置)之间动作，其中在位置A时，本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种蒸镀设备，包括蒸发源和设置于蒸发源上方、用于放置待蒸镀基板的基板承载机构，其特征在于，所述蒸镀设备还包括：基片固定机构，至少一膜厚监控基片设置于所述基片固定机构上，与所述待蒸镀基板同平面设置，且与所述待蒸镀基板贴合；其中在所述待蒸镀基板的镀膜过程中，所述待蒸镀基板和所述膜厚监控基片均位于所述蒸发源的有效蒸镀区域内。

【技术特征摘要】
1.一种蒸镀设备，包括蒸发源和设置于蒸发源上方、用于放置待蒸镀基板的基板承载机构，其特征在于，所述蒸镀设备还包括：基片固定机构，至少一膜厚监控基片设置于所述基片固定机构上，与所述待蒸镀基板同平面设置，且与所述待蒸镀基板贴合；其中在所述待蒸镀基板的镀膜过程中，所述待蒸镀基板和所述膜厚监控基片均位于所述蒸发源的有效蒸镀区域内。2.如权利要求1所述的蒸镀设备，其特征在于，所述基板承载机构包括一传送结构，所述待蒸镀基板设置于所述传送结构上，在所述蒸发源的蒸发材料对所述待蒸镀基板进行镀膜时，通过所述传送结构，所述待蒸镀基板从第一位置移动至第二位置；其中，所述基片固定机构设置于所述第一位置远离所述第二位置的一侧，和/或设置于所述第二位置远离所述第一位置的一侧。3.如权利要求1所述的蒸镀设备，其特征在于，所述蒸镀设备还包括：移动机构，所述基片固定机构与所述移动机构连接，通过所述移动机构，所述基片固定机构在第三位置和第四位置之间动作，其中在所述第三位置，所述膜厚监控基片位于所述蒸发源的有效蒸镀区域之内；在所述第四位置，所述膜厚监控基片位于所述蒸发源的有效蒸镀区域之外；第一驱动机构，与所述移动机构连接，通过所述第一驱动机构，所述移动机构驱动所述基片固定机构在第三位置和第四位置之间动作。4.如权利要求1所述的蒸镀设备，其特征在于，所述蒸镀设备还包括：遮挡结构，包括能够在第五位置和第六位置之间动作的遮挡挡板，其中所述遮挡挡板在所述第五位置时，设置于所述基片固定机构与所述蒸发源之间，遮挡所述蒸发源到所述膜厚监控基片的有效蒸镀区域；所述遮...

【专利技术属性】
技术研发人员：高昕伟，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：新型
国别省市：北京;11