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本实用新型提供一种蒸镀设备,包括蒸发源和设置于蒸发源上方、用于放置待蒸镀基板的基板承载机构,其中,所述蒸镀设备还包括:基片固定机构,至少一膜厚监控基片设置于所述基片固定机构上,与所述待蒸镀基板同平面设置,且与所述待蒸镀基板贴合;其中在所述待...该专利属于京东方科技集团股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过京东方科技集团股份有限公司授权不得商用。
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本实用新型提供一种蒸镀设备,包括蒸发源和设置于蒸发源上方、用于放置待蒸镀基板的基板承载机构,其中,所述蒸镀设备还包括:基片固定机构,至少一膜厚监控基片设置于所述基片固定机构上,与所述待蒸镀基板同平面设置,且与所述待蒸镀基板贴合;其中在所述待...