半导体薄膜沉积设备用加热器监控系统技术方案

本实用新型专利技术公开了一种半导体薄膜沉积设备用加热器监控系统。以检测向加热器发热线圈及接地配线流入的RF信号为基准，在诊断部与正常信号范围进行比较，并判断加热器是否异常，选择性由RF滤波器传送来的累积误差数据和设定的误差范围信号进行比较，也可判断加热器是否异常。加热器驱动电压是由电源供应部通过RF滤波器，施加给加热器上可供应稳定的电压。

【技术实现步骤摘要】

：本技术属于加热器监控领域，特别涉及一种半导体薄膜沉积设备用加热器监控系统。
技术介绍
：随着半导体设备越来越精细化，在半导体薄膜的生产工艺上，要求高效率的同时也要保证高质量。半导体用沉积设备CVD(Chemical Vapor Deposition)时，对反应影响最大的参数是原料气、温度、RF电力、压力等，尤其是温度在薄膜沉积设备中，能左右分辨能力的核心要素。为此，在chamber下部安装加热器能调节温度。半导体用沉积设备，在chamber的上部施加13.56MHz和370KHz的RF电压。加热系统装在chamber下部，对与尺连接的加热器(发热)线圈施加电源。因为加热过程中产生副产物的高负荷，导致加热器开裂，或因反复受到热冲击而产生的热负荷导致开裂。对此利用RF滤波器，需要对加热器实际能承受的损害进行监控。公开于该
技术介绍
部分的信息仅仅旨在增加对本技术的总体背景的理解，而不应当被视为承认或以任何形式暗示该信息构成已为本领域一般技术人员所公知的现有技术。
技术实现思路
：本技术的目的在于提供一种半导体薄膜沉积设备用加热器监控系统，从而克服上述现有技术中的缺陷。为实现上述目的，本技术提供了半导体薄膜沉积设备用加热器监控系统，包括：RF供应部、工序室、RF滤波器、电源供应部、诊断部；所述工序室内设置有花洒、加热器，所述花洒与RF供应部连接，所述加热器内部设置有加热线圈，所述加热线圈与RF滤波器连接；所述RF滤波器与电源供应部连接，所述电源供应部通过RF滤波器为加热器供电；所述诊断部与RF滤波器连接，所述诊断部判断加热器是否正常。优选地，上述技术方案中，RF滤波器包括用于消除RF信号噪音的消音滤波器、用于将信号传递至诊断部的带通滤波器，所述消音滤波器分别与加热线圈、电源供应部连接，所述带通滤波器与诊断部连接，所述消音滤波器与带通滤波器连接。优选地，上述技术方案中，诊断部包括信号处理部、判断部、报警器；所述信号处理部与带通滤波器连接，用于将通过带通滤波器的RF信号与正常信号进行比较，或累积的误差数据和设定的容许误差范围进行比较；所述判断部与信号处理部连接，用于接收信号处理部的信号，则判断加热器是否异常；所述报警器与判断部连接，用于在加热器上发生异常时，运用听觉和视觉的手段将加热器上发生异常的信息向外界报警。优选地，上述技术方案中，加热器选用A1、AIN、BN材质中的一种。半导体薄膜沉积设备用加热器监控系统，包括：RF供应部、工序室、RF滤波器、感应电流传感器、电源供应部、诊断部；所述工序室内设置有花洒、加热器，所述花洒与RF供应部连接，所述加热器内部设置有加热线圈，所述加热线圈与RF滤波器连接；所述RF滤波器与电源供应部连接，所述电源供应 部通过RF滤波器为加热器供电；所述加热器本体与感应电流传感器连接，所述诊断部与感应电流传感器连接，所述感应电流传感器传输感应电流感知信号至判断部，所述诊断部判断加热器是否正常。优选地，上述技术方案中，诊断部包括信号处理部、判断部、报警器；所述信号处理部与感应电流传感器连接，用于将通过感应电流传感器的感应电流感知信号与正常信号进行比较；所述判断部与信号处理部连接，用于接收信号处理部的信号，则判断加热器是否异常；所述报警器与判断部连接，用于在加热器上发生异常时，运用听觉和视觉的手段将加热器上发生异常的信息向外界报警。优选地，上述技术方案中，加热器选用A1、AIN、BN材质中的一种。与现有技术相比，本技术具有如下有益效果：感知向加热器流入的电流，通过判断加热装置是否异常，可周期管理和更换加热器，进而提高设备的生产效率。利用积累的误差数据，可以判断加热器的更换时间，按更换加热器可以提前管理制造启动率，进而提高制造流程的管理。图1为本技术半导体薄膜沉积设备用加热器监控系统的结构示意图；附图说明：图2为图1中RF滤波器的结构示意图；图3为图1中诊断部的结构示意图；图4为本技术半导体薄膜沉积设备用加热器监控系统的动作流程图；图5为本技术半导体薄膜沉积设备用加热器监控系统的另一实施例结构示意图；图6为图5中诊断部的结构示意图。附图标记为：1-RF供应部、2-花洒、3-工序室、10-加热器、11-加热器本体、12-加热线圈、20-RF滤波器、21-消音滤波器、22-带通滤波器、30-电源供应部、40-诊断部、41-信号处理部、42-判断部、43-报警器、50-感应电流传感器。具体实施方式：下面对本技术的具体实施方式进行详细描述，但应当理解本技术的保护范围并不受具体实施方式的限制。除非另有其它明确表示，否则在整个说明书和权利要求书中，术语“包括”或其变换如“包含”或“包括有”等等将被理解为包括所陈述的元件或组成部分，而并未排除其它元件或其它组成部分。如图1所示，一种半导体薄膜沉积设备用加热器监控系统，包括：RF供应部1、工序室3、RF滤波器20、电源供应部30、诊断部40；所述工序室3内设置有花洒2、加热器10，所述花洒2与RF供应部1连接，加热器本体11用铝材质制造，所述加热器10内部设置有加热线圈12，所述加热线圈12与RF滤波器20连接；所述RF滤波器20与电源供应部30连接，所述电源供应30部通过RF滤波器20为加热器10供电；所述诊断部40与RF滤波器20连接，所述诊断部40判断加热器10是否正常。如图2所示，RF滤波器20包括用于消除RF信号噪音的消音滤波器21、用于将信号传递至诊断部40的带通滤波器22，所述消音滤波器21分别与加热线圈12、电源供应部30连接，所述带通滤波器22与诊断部40连接，所述消音滤波器21与带通滤波器22连接。如图3所示，诊断部40包括信号处理部41、判断部42、报警器43；所述信号处理部41与带通滤波器22连接，用于将通过带通滤波器22的RF信号与正常信号进行比较，或累积的误差数据和设定的容许误差范围进行比较；所述判断部42与信号处理部41连接，用于接收信号处理部41的信号，则判断加热器10是否异常；所述报警器43与判断部42连接，用于在加热器10上发生异常时，运用听觉和视觉的手段将该信息向外界报警。如图4所示，加热器10的加热线圈11和向接地配线流入的实时信号(RF信号)将通过RF滤波器20的带通滤波器22，传输到诊断部40的信号处理部。在信号处理部41中，由RF滤波器20传输来的实时信号，在比较器的判断部42中处理为容易判断，在信号处理部41中处理的实时信号是在判断部42与正常信号进行比较，该比较动作是累积的误差数据与设定的容许范围内误差数据进行比较的动作来可以代替。在判断部42中进行比较的结果，如果实时信号在正常信号范畴时，则判断为加热器10是在正常驱动中，如果实时信号未在正常信号范畴时，则判断为在加热器10上发生异常，并且从警报器43中发出报警，提示管理人员即可便知。如图5所示，半导体薄膜沉积设备用加热器监控系统，包括：RF供应部1、工序室3、RF滤波器20、电源供应部30、诊断部40、感应电流传感器50；所述工序室3内设置有花洒2、加热器10，所述花洒2与RF供应部1连接，加热器本体11用铝材质制造，所述加热器10内部设置有加热线圈12，所述加热线圈12与RF滤波器20连接；所述RF滤本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种半导体薄膜沉积设备用加热器监控系统，其特征在于：包括，RF供应部、工序室、RF滤波器、电源供应部、诊断部；所述工序室内设置有花洒、加热器，所述花洒与RF供应部连接，所述加热器内部设置有加热线圈，所述加热线圈与RF滤波器连接；所述RF滤波器与电源供应部连接，所述电源供应部通过RF滤波器为加热器供电；所述诊断部与RF滤波器连接。

【技术特征摘要】
1.一种半导体薄膜沉积设备用加热器监控系统，其特征在于：包括，RF供应部、工序室、RF滤波器、电源供应部、诊断部；所述工序室内设置有花洒、加热器，所述花洒与RF供应部连接，所述加热器内部设置有加热线圈，所述加热线圈与RF滤波器连接；所述RF滤波器与电源供应部连接，所述电源供应部通过RF滤波器为加热器供电；所述诊断部与RF滤波器连接。2.根据权利要求1所述的半导体薄膜沉积设备用加热器监控系统，其特征在于：所述RF滤波器包括用于消除RF信号噪音的消音滤波器、用于将信号传递至诊断部的带通滤波器，所述消音滤波器分别与加热线圈、电源供应部连接，所述带通滤波器与诊断部连接，所述消音滤波器与带通滤波器连接。3.根据权利要求2所述的半导体薄膜沉积设备用加热器监控系统，其特征在于：所述诊断部包括信号处理部、判断部、报警器；所述信号处理部与带通滤波器连接，用于将通过带通滤波器的RF信号与正常信号进行比较，或累积的误差数据和设定的容许误差范围进行比较；所述判断部与信号处理部连接，用于接收信号处理部的信号，则判断加热器是否异常；所述报警器与判断部连接，用于在加热器上发生异常时，运用听觉和视觉的手段将加热器上发生异常的信息向外界报警。4.根据权利要求1所...

【专利技术属性】
技术研发人员：尹胜永，
申请(专利权)人：无锡银星科技有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏;32