成膜掩膜的制造方法技术

本发明专利技术提供成膜掩膜的制造方法，向树脂制的膜片(20)照射激光(L)而形成俯视下呈多边形的开口图案(4)，通过将使用光束整形用掩膜(10)进行整形的激光(L)向上述膜片(20)照射，来形成具有以开口从上述膜片(20)的与上述激光(L)的照射面相反的一侧朝向上述照射面侧扩大的方式倾斜的至少一对对置侧壁(4a)的开口图案(4)，其中光束整形用掩膜(10)具有供上述激光透过的透光窗(18)，且在该透光窗(18)的外侧使该透光窗(18)的至少一对边的侧方区域的透光率，随着从上述透光窗的边缘部朝向侧方逐渐减小。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及向树脂制的膜片照射激光来形成开口图案的成膜掩膜的制造方法，特别是涉及能够使开口图案的侧壁的倾斜角度的控制变得容易的成膜掩膜的制造方法以及成膜掩膜。
技术介绍
以往的成膜掩膜具有与制作成膜的图案对应的至少具有一个开口图案的厚度为1μm以上且50μm以下的掩膜层，在该掩膜层上不堵塞该掩膜层所具有的开口图案地具有磁性体(例如，参照专利文献1)。而且，上述掩膜层所具有的开口图案，优选为开口随着朝向磁性体侧的表面而变大的锥形状。专利文献1：日本特开2009-249706号公报但是，在这样的以往的成膜掩膜中，开口图案的形成例如是将剖面形状被整形为与开口图案相似的形状的激光照射到膜片来进行，所以难以控制开口图案的侧壁的倾斜角度。特别是，在俯视下呈矩形状的开口图案的两对对置侧壁，难以使一方的对置侧壁与另一方的对置侧壁的倾斜角度不同。因此，若使用通过以往的方法制造的成膜掩膜，而一边将基板向一个方向搬运一边成膜，则所形成的薄膜的与搬运方向交叉的方向的膜厚分布，由于该方向的开口图案的边缘部所引起的阴影区(shadow)的影响而变得不均匀这一问题。
技术实现思路
因此，本专利技术处理这样的问题点，目的在于提供能够容易地进行开口图案的侧壁的倾斜角度的控制的成膜掩膜的制造方法以及成膜掩膜。为了实现上述目的，本专利技术的成膜掩膜的制造方法向树脂制的膜片照射激光而形成俯视下呈多边形的开口图案，通过将使用光束整形用掩膜进行整形的激光照射于上述膜片，来形成具有以开口从上述膜片的与上述激光的照射面相反的一侧朝向上述照射面侧扩大的方式倾斜的至少一对对置侧壁的开口图案，其中，上述光束整形用掩膜具有供上述激光透过的透光窗，且在该透光窗的外侧使该透光窗的至少一对边的侧方区域的透光率随着从上述透光窗的边缘部朝向侧方逐渐减少。另外，本专利技术的成膜掩膜是用于经由形成在片状的基材的开口图案在基板上成膜的成膜掩膜，上述开口图案具有开口从上述基材与成膜源相反的一侧朝向上述成膜源侧扩大的多对对置侧壁，这些多对对置侧壁的倾斜角度至少在上述成膜源侧不同。根据本专利技术，能够容易地控制膜片被激光加工的开口图案的以开口朝激光的照射侧扩大的方式倾斜的对置侧壁的倾斜角度。因此，也能够容易地制造开口图案的开口具有朝向成膜源侧扩大的多对对置侧壁，这些多对对置侧壁的倾斜角度至少在成膜源侧不同的成膜掩膜。因此，能够抑制开口图案的侧壁成为成膜的阴影区，能够形成膜厚均匀的薄膜。附图说明图1是表示本专利技术的成膜掩膜的一实施方式的图，(a)是俯视图，(b)是(a)的O-O线剖面向视图，(c)是(a)的P-P线剖面向视图。图2是表示用于形成本专利技术的成膜掩膜的开口图案的激光加工装置的一个构成例的主视图。图3是表示上述激光加工装置所使用的光束整形用掩膜的一个构成例的图，(a)是俯视图，(b)是(a)的局部放大俯视图，(c)是表示与(b)对应的部分的透光率的说明图，(d)是对被透过(a)的透光窗的激光加工的开口图案的对置侧壁的倾斜角度进行说明的剖视图。图4是表示以往的光束整形用掩膜的构成例的图，(a)是俯视图，(b)是对被透过(a)的透光窗的激光加工的开口图案的对置侧壁的倾斜角度进行说明的剖视图。图5是表示使用以往的金属掩膜的蒸镀的说明图，(a)表示蒸镀源的相对移动方向上的蒸镀膜的膜厚分布，(b)表示与蒸镀源的相对移动方向交叉的方向上的蒸镀膜的膜厚分布。图6是表示使用由图4所示的光束整形用掩膜来激光加工开口图案的成膜掩膜的蒸镀的说明图，(a)表示蒸镀源的相对移动方向上的蒸镀膜的膜厚分布，(b)表示与蒸镀源的相对移动方向交叉的方向上的蒸镀膜的膜厚分布。图7是表示使用了本专利技术的成膜掩膜的蒸镀的说明图，(a)表示蒸镀源的相对移动方向上的蒸镀膜的膜厚分布，(b)表示与蒸镀源的相对移动方向交叉的方向上的蒸镀膜的膜厚分布。图8是表示在本专利技术的成膜掩膜的制造方法中，开口图案的激光加工的变形例的工序图。具体实施方式以下，基于附图对本专利技术的实施方式详细进行说明。图1是表示本专利技术的成膜掩膜的一实施方式的图，(a)是俯视图，(b)是(a)的O-O线剖面向视图，(c)是(a)的P-P线剖面向视图。该成膜掩膜是经由开口图案在基板上成膜的部件，构成为具备膜片掩膜1、金属掩膜2以及金属框架3。上述膜片掩膜1是与被成膜基板紧贴而使用的部件，是成为用于在被成膜基板上形成薄膜图案的主掩膜的部件，例如如图1(a)所示，在厚度为10μm～30μm左右的例如聚酰亚胺或聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)等树脂制的膜片上，与上述薄膜图案相对应地呈纵横矩阵状地配置俯视下呈多边形(在本实施方式中用矩形状表示)的多个开口图案4。优选，线膨胀系数与作为被成膜基板(以下，仅称为“基板”)的玻璃的线膨胀系数近似的3×10-6～5×10-6/℃左右的聚酰亚胺。详细而言，上述开口图案4具有以开口从上述基板侧朝向成膜源侧(金属掩膜2侧)扩大的方式倾斜的多对(例如两对)对置侧壁，上述多对对置侧壁的倾斜角度，如图1(b)、(c)所示，至少在上述成膜源侧(金属掩膜2侧)不同。更详细而言，在本专利技术的成膜掩膜应用于一边向一个方向搬运基板一边成膜的成膜装置的情况下，优选使上述基板的在与搬运方向(图1(a)的箭头A方向(与X轴方向相同))交叉的方向(Y轴方向)上的对置侧壁的倾斜角度，比其他对置侧壁的倾斜角度大。在上述膜片的一面层叠有金属掩膜2。该金属掩膜2形成有将上述开口图案4进行内包的大小的贯通孔5，例如是厚度为30μm～50μm左右的例如镍、镍合金、因瓦或者因瓦合金等磁性金属材料的薄片，为支撑膜片掩膜1的子掩膜。详细而言，如图1(a)所示，设置有多列将排列为一列的多个开口图案4内包的大小的狭缝状的贯通孔5，在本专利技术的成膜掩膜应用于一边向一个方向搬运基板一边成膜的成膜装置的情况下，配置为狭缝状的贯通孔5的长轴与基板搬运方向(箭头A方向)交叉。在该情况下，成膜掩膜以金属掩膜2成为成膜源侧的方式设置于基板上，金属掩膜2被内置于基板支架的磁铁吸引而使膜片掩膜1与基板的成膜面紧贴。在上述金属掩膜2的与上述膜片掩膜1相反的一侧的面，设置有金属框架3。该金属框架3是固定支撑上述金属掩膜2的周缘部的部件，例如用由因瓦或者因瓦合金等构成的磁性金属部件形成，为具有将上述金属掩膜2的多列贯通孔5进行内本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种成膜掩膜的制造方法，向树脂制的膜片照射激光而形成俯视下呈多边形的开口图案，其特征在于，通过将使用光束整形用掩膜进行整形的激光照射于上述膜片，来形成具有以开口从上述膜片的与上述激光的照射面相反的一侧朝向上述照射面侧扩大的方式倾斜的至少一对对置侧壁的开口图案，其中，上述光束整形用掩膜具有供上述激光透过的透光窗，且在该透光窗的外侧使该透光窗的至少一对边的侧方区域的透光率，随着从上述透光窗的边缘部朝向侧方逐渐减少。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2013.12.20 JP 2013-2643261.一种成膜掩膜的制造方法，向树脂制的膜片照射激光而形成俯
视下呈多边形的开口图案，其特征在于，
通过将使用光束整形用掩膜进行整形的激光照射于上述膜片，来形
成具有以开口从上述膜片的与上述激光的照射面相反的一侧朝向上述
照射面侧扩大的方式倾斜的至少一对对置侧壁的开口图案，其中，上述
光束整形用掩膜具有供上述激光透过的透光窗，且在该透光窗的外侧使
该透光窗的至少一对边的侧方区域的透光率，随着从上述透光窗的边缘
部朝向侧方逐渐减少。
2.根据权利要求1所述的成膜掩膜的制造方法，其特征在于，
对于上述开口图案而言，多对对置侧壁的倾斜角度至少在上述激光
的照射面侧不同。
3.根据权利要求1或者2所述的成膜掩膜的制造方法，其特征在于，
上述开口图案通过实施下述工序而形成：
照射被上述光束整形用掩膜整形的第一激光而在上述膜片的上述
开口图案形成部形成预定的深度的凹部的工序；以及
将使用具有形状与上述开口图案相似的透光窗并且该透光窗的外
侧被遮光的其它整形用掩膜进行整形的第二激光，照射上述凹部内的膜
片，来形成贯通该膜片的贯通开口的工序。
4.根据权利要求3所述的成膜掩膜的制造方法，其特征在于，
上述凹部的底面积比上述贯通开口的开口面积大。
5.根据权利要求1或2所述的成膜掩膜的制造方法，其特征在于，
在上述膜片的上述激光的照射面侧层叠有金属掩膜，该金属掩膜设
有对上述开口图案进行内包的大小的贯通孔。
6....

【专利技术属性】
技术研发人员：水村通伸，
申请(专利权)人：株式会社V技术，
类型：发明
国别省市：日本;JP