适用于纯水压元件的QPQ处理工艺制造技术

本发明专利技术提供了一种适用于纯水压元件的QPQ处理工艺。工艺步骤如下：1）清洗，在水基清洗剂的作用下，以100~150 A/dm2的电流密度清洗0.05‑0.1s；2）预热，在350‑400℃的温度下，在空气炉中对工件加热10‑20min；3）盐浴氮化，温度520~580℃，时间10~180min；4）盐浴氧化，温度380‑400℃，时间15~20min；5）冷却，在空气下冷却，机械抛光；6）再氧化，温度380‑400℃下，氧化15~20min，氧化完成后，浸油。本发明专利技术的加工工艺简单，经复合处理的水压元件的耐磨性和防腐蚀性能均大幅度提高。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
适用于纯水压元件的QPQ处理工艺，其特征在于：工艺步骤如下：清洗在水基清洗剂的作用下，以100~150 A/dm2的电流密度清洗0.05‑0.1s；2）预热在350‑400℃的温度下，在空气炉中对工件加热10‑20min；盐浴氮化温度520~580℃，时间120~180min;盐浴氧化温度380‑400℃，时间15~20min；冷却在空气下冷却，机械抛光；再氧化温度380‑400℃下，氧化15~20min，氧化完成后，浸油。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：郭军，
申请(专利权)人：德阳瑞泰科技有限公司，
类型：发明
国别省市：四川;51