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本发明提供了一种适用于纯水压元件的QPQ处理工艺。工艺步骤如下：1）清洗，在水基清洗剂的作用下，以100~150 A/dm2的电流密度清洗0.05‑0.1s；2）预热，在350‑400℃的温度下，在空气炉中对工件加热10‑20min；3）盐...
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