本发明专利技术提供了一种纯水压元件的QPQ盐浴处理工艺。工艺步骤如下：1）清洗，在水基清洗剂的作用下，超声波清洗将工件表面的污垢剥离脱落；2）预热，在350-400℃的温度下，在空气炉中对工件加热10-20min；3）盐浴氮化，温度520~580℃，时间10~180min，氮化盐按质量计，配方组成为：尿素30-50%、Na2CO3 4-8%、K2CO3 6-10%、Li2CO3 5-10%、KCNO 12-25%、NaCNO 8-15%、NaCl 5-8%、Na2S 4-8%、K2S 6-10%、LiOH 2-5%；4）盐浴氧化，氧化盐按质量计，配方组成为：Na2CO3 30-40%、Na2NO3 20-30%、NaSO4 20-30%、NaNO2 20-30%；5）冷却，在空气下冷却，机械抛光；6）采用步骤3）的氧化盐，氧化完成后，浸油。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于金属元件制造加工业
，具体涉及一种纯水压元件的QPQ盐浴处理工艺。
技术介绍
水压传动具有无污染、安全、清洁卫生、结构简单、效率高等突出优越性，符合清洁生产及可持续发展的要求。但是，水压技术需要解决诸如密封与润滑、磨损与腐蚀等关键问题。磨损、腐蚀和断裂是机械零件材料失效的三种主要形式，其中磨损失效是材料失效的主要原因。在水压元件中，磨损与腐蚀并存，且相互促进。为了解决水压元件的磨损与腐蚀问题，目前，大多用耐蚀合金、工程陶瓷、高分子及其复合材料、以及表面工程材料等作为水压元件材料，为水压元件的生产与使用奠定了基础。但是，随着水压传动技术的不断发展，其应用范围越来越广泛，对水压元件材料提出了新的要求。例如，在水压冲击器中，冲击机构的工作条件比较复杂，不仅要求材料具有较好的耐磨性、抗蚀性，而且要求有较高的强度和韧性。
技术实现思路
为了解决纯水压元件的强度和韧性问题，本专利技术提供了一种纯水压元件的QPQ盐浴处理工艺。加工工艺简单，经复合处理的水压元件的耐磨性和防腐蚀性能均大幅度提高。为了实现上述专利技术目的，本专利技术采用如下的技术方案: 纯水压元件的QPQ盐浴处理工艺，其特征在于:工艺步骤如下: 1)清洗 在水基清洗剂的作用下，超声波清洗将工件表面的污垢剥离脱落； 2)预热 在350-400°C的温度下，在空气炉中对工件加热10-20min; 3)盐浴氮化 温度400-450°C，时间120?180min，目的是形成氮化层和扩散层； 所述的氮化盐按质量计，配方组成为:尿素30-50%、Na2C03 4-8%,K2C03 6-10%,Li2C035-10%、KCN0 12-25%、NaCN0 8_15%、NaCl 5-8%^Na2S 4-8%^K2S 6_10%、Li0H 2-5%； 优选地，所述的氮化盐按质量计，配方组成为:尿素30-40%、Na2C03 4-5%,K2C03 6-7%,L12CO3 8-10%、KCN0 15-20%^NaCNO 8_10%、NaCl 5-6%^Na2S 4-5%^K2S 6_8%、Li0H 2-3%04)盐浴氧化 所述的氧化盐按质量计，配方组成为:Na2C03 30-40%,Na2N03 20-30%,NaS04 20-30%、NaN02 20-30%; 目的是形成氧化层。优选地，所述的氧化盐按质量计，配方组成为:Na2C03 30-35%,Na2N03 25-30%,NaS04 22-25%、NaN02 20-23%。5)冷却 在空气下冷却，机械抛光； 冷却使渗层均匀致密并增加扩散层深度;同时分解粘附在工件上的C N。6)再氧化 采用步骤3)的氧化盐，氧化完成后浸油。浸油的目的是密封渗层孔隙，以获得更佳的抗蚀能力。在两个阶段中间增加一道抛光工序，去除表层较软的多孔性疏松层并使其表面光滑。本专利技术所述的盐浴需要连续通入压缩空气，通气量为400?450L/h，使盐浴适度翻腾。优选地，所述的盐要缓慢分批加入，一次性加入量过多会因反应剧烈而溢盐。本专利技术所述的氧化是指在温度380-400°C下，于氧化盐的作用下氧化15-20min，彻底分解工件从渗氮炉带出来的氰根，消除公害；同时在工件表面形成黑色氧化膜，增加防腐能力，对提高耐磨性也有一定好处。本专利技术所述的超声波清洗的振动频率范围在60?120kHz，功率密度设定在0.6-lff/Co本专利技术的有益效果在于: 1、本专利技术采用新型氮化盐，不仅能在400_450°C的较低温度状态下保持一定的氮势，在较高的温度下稳定，还可有效提高处理层的厚度，提高工件的抗腐蚀性能。2、纯水压工件经本专利技术的QPQ盐浴复合处理后在金属表面形成一层铁氮化合物和致密的铁氧化膜，经抛光并再次氧化后，使化合层更致密，氧渗入到化合物厚度的一半以上，并且延伸到更深的孔隙处，吸氧的化合物层进一步钝化，从而使金属表面有更高的耐蚀性和耐磨性。3、本专利技术的氧化盐具有很强的氧化性，能彻底地清除氮化盐浴中带出来的氰根，环保无毒，同时在工件表面形成一层至密的四氧化三铁氧化膜，进一步增加了工作的耐蚀性和耐磨性。【具体实施方式】下面结合【具体实施方式】对本专利技术的实质性内容作进一步详细的描述。实施例1 纯水压元件的QPQ盐浴处理工艺，工艺步骤如下: 1)清洗 在水基清洗剂的作用下，超声波清洗将工件表面的污垢剥离脱落； 2)预热 在350°C的温度下，在空气炉中对工件加热20min; 3)盐浴氮化 温度400°C，时间 180min; 所述的氮化盐按质量计，配方组成为:尿素30%、Na2C03 4%、K2C03 6%、Li2C03 5%、KCN012%^NaCNO 8%、NaCl 5%、Na2S 4%、K2S 6%、Li0H 2%。 4)盐浴氧化 所述的氧化盐按质量计，配方组成为:Na2C03 30%、Na2N03 20%,NaS04 25%、NaN02 25%； 5)冷却 在空气下冷却，机械抛光； 6)再氧化 采用步骤3)的氧化盐，氧化完成后，浸油。实施例2 纯水压元件的QPQ盐浴处理工艺，工艺步骤如下: 1)清洗 在水基清洗剂的作用下，超声波清洗将工件表面的污垢剥离脱落； 2)预热 在400°C的温度下，在空气炉中对工件加热lOmin; 3)盐浴氮化 温度450°C，时间 120min; 所述的氮化盐按质量计，配方组成为:尿素30%、Na2C03 4%、K2C03 6%、Li2C03 8%、KCN015%^NaCNO 8%、NaCl 5%、Na2S 4%、K2S 6%、L1H 2%； 4)盐浴氧化 所述的氧化盐按质量计，配方组成为:Na2C03 30%、Na2N03 30%,NaS04 20%、NaN02 20%； 5)冷却 在空气下冷却，机械抛光； 6)再氧化 采用步骤3)的氧化盐，氧化完成后，浸油。实施例3 纯水压元件的QPQ盐浴处理工艺，工艺步骤如下: 1)清洗 在水基清洗剂的作用下，超声波清洗将工件表面的污垢剥离脱落； 2)预热 在360°C的温度下，在空气炉中对工件加热12min; 3)盐浴氮化 温度420°C，时间 160min; 所述的氮化盐按质量计，配方组成为:尿素50%、Na2C03 8%、K2C03 10%、Li2C0310%、KCN025%、NaCN0 15%、NaCl 8%、Na2S 8%、K2S 10%、Li0H 5%。4)盐浴氧化当前第1页1 2 本文档来自技高网...
【技术保护点】
纯水压元件的QPQ盐浴处理工艺，其特征在于：工艺步骤如下：1）清洗在水基清洗剂的作用下，超声波清洗将工件表面的污垢剥离脱落；2）预热在350‑400℃的温度下，在空气炉中对工件加热10‑20min；3）盐浴氮化温度400‑450℃，时间120~180min;所述的氮化盐按质量计，配方组成为：尿素30‑50%、Na2CO3 4‑8%、K2CO3 6‑10%、Li2CO3 5‑10%、KCNO 12‑25%、NaCNO 8‑15%、NaCl 5‑8%、Na2S 4‑8%、K2S 6‑10%、LiOH 2‑5%；4）盐浴氧化所述的氧化盐按质量计，配方组成为：Na2CO3 30‑40%、Na2NO3 20‑30%、NaSO4 20‑30%、NaNO2 20‑30%；5）冷却在空气下冷却，机械抛光；6）再氧化采用步骤3）的氧化盐，氧化完成后，浸油。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：郭军，
申请(专利权)人：德阳瑞泰科技有限公司，
类型：发明
国别省市：四川;51
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