电解槽下料系统及电解槽系统技术方案

本发明专利技术提供了一种电解槽下料系统，包括料箱、定容下料器、下料槽和打壳头，所述料箱收容氧化铝原料，所述定容下料器部分收容于所述料箱，所述定容下料器将所述料箱收容的氧化铝原料输出到所述下料槽，所述下料槽设于所述料箱的下方，所述下料槽包括进料口、下料口和导料斜壁，所述进料口位于所述定容下料器的下方，并接收通过所述定容下料器提供的氧化铝原料，所述导料斜壁的上端面与所述进料口平齐，所述导料斜壁的下端面与所述下料口平齐，所述打壳头位于所述导料斜壁的一侧且贯穿所述下料槽，所述电解槽下料系统还包括缓冲罩及下料装置。与相关技术相比，本发明专利技术有益效果在于，电解槽稳定性好、电流效率较高、能耗低、使用寿命较长及氧化铝下料效果较好。

【技术实现步骤摘要】
【专利说明】
本专利技术涉及电解
，尤其涉及一种电解槽下料系统及电解槽系统。【
技术介绍
】电解槽的加料方式通常为利用定时定容下料器进行间隔式下料。如图1所示，相关技术的电解槽的间隔式下料系统100中，料箱11内的氧化铝被打入定容下料器13的定容器133中，并按照定时定量的方式，间隔式投入下料槽15，随后沿下料槽15的导料斜壁151滑入铝电解槽(图未示)。其中，电解槽的打壳头17贯穿下料槽15。在设定时间内，通过定容器133在电解槽内间隔固定时间投入固定量的氧化铝。但是，采用间隔式下料，氧化铝浓度下料前低，下料后高，槽热平衡波动大，造成电解槽的稳定性变差，电流效率降低；由于目前采用低过热度工艺路线，如果点式下料方式单次快速下入大量氧化铝，这会使氧化铝的溶解过程更加困难，而且未溶解的氧化铝沉入铝液，造成下料口正下方铝液层中堆积大量氧化铝沉淀，沉淀随着铝液的流动覆盖炉底，造成炉底压降升高，增加能耗，严重者可导致畸形炉膛，影响电解槽使用寿命;单次下入的大量氧化铝在下料斜面上加速，在出口撞击打壳头后四处散开，这会导致实际进入电解槽的氧化铝原料减少，下料精准度差。因而，相关技术的电解槽间隔式下料系统存在铝电解槽稳定性差、电流效率较低、能耗较高、使用寿命降低及氧化铝下料效果较差的不足。因此，实有必要提供一种新的电解槽下料系统及电解槽系统来克服上述技术问题。【
技术实现思路
】本专利技术需要解决的技术问题是提供一种电解槽稳定性好、电流效率较高、能耗低、使用寿命较长及氧化铝下料效果较好的电解槽下料系统及电解槽系统。本专利技术一种电解槽下料系统，包括料箱、定容下料器、下料槽和打壳头，所述料箱收容氧化招原料，所述定容下料器部分收容于所述料箱内，所述定容下料器将所述料箱收容的氧化铝原料输出到所述下料槽，所述下料槽设于所述料箱的下方，所述下料槽包括进料口、下料口和导料斜壁，所述进料口位于所述定容下料器的下方，并接收通过所述定容下料器提供的氧化铝原料，所述导料斜壁的上端面与所述进料口平齐，所述导料斜壁的下端面与所述下料口平齐，所述打壳头位于所述导料斜壁的一侧且贯穿所述下料槽，所述电解槽下料系统还包括缓冲罩及下料装置，所述缓冲罩收容于所述下料槽内并固定于所述导料斜壁上，所述缓冲罩与所述导料斜壁围设形成两端开口缓冲腔，所述缓冲腔包括上端开口和下端开口，所述缓冲腔的横截面面积自所述上端开口朝下端开口逐渐减小；所述下料装置包括固定于所述导料斜壁上且与所述缓冲腔的下端开口相连通的下料管以及自所述下料管与导料斜壁的连接处朝所述下料槽外侧延伸形成的罩板，所述下料管包括平行于所述打壳头的导料管及自所述导料管的下端朝靠近所述打壳头的方向倾斜延伸形成的出料管。优选的，所述出料管与所述导料管的夹角为30-75°。优选的，所述电解槽下料系统还包括固定于所述导料斜壁上的两导流板，所述导流板的两端分别连接固定所述缓冲罩与下料管，两所述导流板与导料斜壁围设形成导流槽，所述缓冲腔的下端开口通过所述导流槽与所述下料管相连通。优选的，所述出料管的下端面到所述打壳头的下端面所在平面的距离为0-100mm。优选的，所述缓冲腔的容积等于所述定容下料器的容积。优选的，所述缓冲腔的下端开口面积为100-2000mm2。优选的，所述电解槽下料系统还包括加强筋板，所述加强筋板同时连接固定所述导料管与罩板，所述罩板垂直于所述导料管。优选的，所述导料管设有溢流孔，所述溢流孔的开口方向垂直于所述打壳头。优选的，所述缓冲腔的横截面形状呈三角形或等腰梯形。本专利技术还提供了一种电解槽系统，包括电解槽，所述电解槽系统还包括设置于所述电解槽上的上述电解槽下料系统。与相关技术相比，本专利技术的有益效果在于，通过设置于导料斜壁上缓冲罩，控制了氧化铝原料的下料量，通过缓冲腔的下端开口的设置，进一步控制氧化铝原料的下料量精度，突破了间隔式下料的量大、不均匀下料的局限，实现了连续下料。更进一步地，通过下料装置的设置，氧化铝原料下料的出料口最大限度的靠近打壳头，由于出料管自下料管的下端朝靠近打壳头的方向倾斜延伸形成，氧化铝原料自出料管放出后，呈抛物线下落。整个下落过程不撞击打壳头，无逸出，氧化铝原料无实质减少，下料精准度进一步提升。整个电解槽下料系统可根据具体应用需求延长氧化铝原料的下料时间至10-160S，使氧化铝原料有充足的时间溶解，从而达到减小氧化铝浓度、降低电解槽温度波动的目的。因而，整个电解槽下料系统电解槽稳定性好、电流效率较高、能耗低、使用寿命较长及氧化铝下料效果较好的，整个电解槽系统运行更为稳定、高效。【【附图说明】】图1为相关技术中铝电解槽的间隔式下料系统结构示意图；图2为本专利技术电解槽下料系统一种实施例的结构示意图；图3为本专利技术电解槽下料系统的缓冲罩结构展开示意图。【【具体实施方式】】为了便于理解本专利技术，下面将参照相关附图对本专利技术进行更全面的描述。附图中给出了本专利技术的较佳的实施例。但是，本专利技术可以以许多不同的形式来实现，并不限于本文所描述的实施例。相反地，提供这些实施例的目的是使对本专利技术的公开内容的理解更加透彻全面。参照图2-图3所示，本专利技术专利申请一种电解槽下料系统200，包括料箱21、定容下料器22、下料槽23和打壳头3。料箱21收容氧化铝原料，定容下料器22部分收容于料箱21内，定容下料器22将料箱21收容的氧化铝原料输出到下料槽23。下料槽23设于料箱21的下方，下料槽23包括进料口 232、下料口 233和导料斜壁231，进料口 232位于定容下料器22的下方，并接收通过定容下料器22提供的氧化铝原料。导料斜壁231的上端面与进料口 232平齐，导料斜壁231的下端面与下料口 233平齐。打壳头3位于导料斜壁231的一侧且贯穿下料槽23。所述电解槽下料系统200还包括缓冲罩25及下料装置26，缓冲罩25收容于下料槽23内并固定于导料斜壁231上，缓冲罩25与导料斜壁231围设形成两端开口缓冲腔(未图示)，缓冲腔包括上端开口 251和下端开口 252，缓冲腔的横截面面积自上端开口 251朝下端开口 252逐渐减小。下料装置26包括固定于导料斜壁231上且与缓冲腔的下端开口252相连通的下料管28以及自下料管28与导料斜壁231的连接处朝下料槽23外侧延伸形成的罩板261，下料管28包括平行于打壳头3的导料管281及自导料管281的下端朝靠近打壳头3的方向倾斜延伸形成的出料管282。通过设置于导料斜壁上缓冲罩，控制了氧化铝原料的下料量，通过缓冲腔的下端开口的设置，进一步控制氧化铝原料的下料量精度，突破了间隔式下料的量大、不均匀下料的局限，实现了连续下料。而实现连续下料后，氧化铝浓度无下料前后的变化，槽热平衡波动小，招电解槽的稳定性尚，电流效率显者提尚;氧化招的溶解均勾且稳定，氧化招沉淀大大减少，有效降低了炉底压降升高，减少了能源消耗，保证了铝电解槽的使用寿命;连续稳定下入的少量氧化铝沿导料斜壁上滑入缓冲腔，在缓冲罩的阻挡作用下无逸出，进入铝电解槽的氧化铝原料无实质减少，下料精准度明显提高，而且氧化铝的匀速稳定下料极大地降低了下料孔的堵料机率。更进一步地，通过下料装置的设置，氧化铝原料下料的出料口最大限度的靠近打壳头，打壳头通过上下击打，冲出供氧化铝原料下落的入料孔(未图示本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种电解槽下料系统，包括料箱、定容下料器、下料槽和打壳头，所述料箱收容氧化铝原料，所述定容下料器部分收容于所述料箱内，所述定容下料器将所述料箱收容的氧化铝原料输出到所述下料槽，所述下料槽设于所述料箱的下方，所述下料槽包括进料口、下料口和导料斜壁，所述进料口位于所述定容下料器的下方，并接收通过所述定容下料器提供的氧化铝原料，所述导料斜壁的上端面与所述进料口平齐，所述导料斜壁的下端面与所述下料口平齐，所述打壳头位于所述导料斜壁的一侧且贯穿所述下料槽，其特征在于：还包括缓冲罩及下料装置，所述缓冲罩收容于所述下料槽内并固定于所述导料斜壁上，所述缓冲罩与所述导料斜壁围设形成两端开口缓冲腔，所述缓冲腔包括上端开口和下端开口，所述缓冲腔的横截面面积自所述上端开口朝下端开口逐渐减小；所述下料装置包括固定于所述导料斜壁上且与所述缓冲腔的下端开口相连通的下料管以及自所述下料管与导料斜壁的连接处朝所述下料槽外侧延伸形成的罩板，所述下料管包括平行于所述打壳头的导料管及自所述导料管的下端朝靠近所述打壳头的方向倾斜延伸形成的出料管。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：章宣，洪波，敬叶灵，
申请(专利权)人：湖南创元铝业有限公司，
类型：发明
国别省市：湖南;43