蚀刻装置制造方法及图纸

本发明专利技术涉及电子工业领域，公开了一种电子工业领域中的蚀刻装置，该蚀刻装置包括：多个蚀刻槽，该多个蚀刻槽允许待蚀刻物品依次经过而得以蚀刻处理；和化学品供应装置，该化学品供应装置包括：第一罐，该第一罐接收全新的化学品并向最后一个蚀刻槽供应化学品；和第二罐，该第二罐接收除第一蚀刻槽之外的所有蚀刻槽内经过蚀刻处理后的化学品，并至少向除最后一个蚀刻槽之外的所有蚀刻槽供应经过蚀刻处理后的化学品。本发明专利技术所提供的蚀刻装置能够获得较好一致性或均匀性的蚀刻效果。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及电子工业领域，具体地，涉及一种用于蚀刻处理的蚀刻装置。
技术介绍
在电子工业中，例如印刷线路板领域，蚀刻是一种常用的工艺方法。其通常的操作为:在基板表面铺设菲林，然后根据预先设定的图形对菲林进行曝光;然后再将曝光后的基板浸入通常为液态的化学品中进行蚀刻处理，由于菲林包括得到光线照射而发生反应的区域和没有得到光线照射的其他区域，从而在蚀刻时对应于上述图形将菲林有选择地蚀刻掉。在蚀刻过程中，化学品的使用必不可少。为了适应于连续的工业生产，在蚀刻工艺中通常需要多个蚀刻槽，每个蚀刻槽内注入预定的化学品，并使待蚀刻产品在依次在各个蚀刻槽内经过蚀刻处理，最后再进行水洗以除去待蚀刻产品上的残留化学品，从而最终完成整个蚀刻工艺步骤。例如在LCD领域，如图1所示为制造彩色滤光片过程中蚀刻光阻时化学品的循环工艺过程。如图1所示，蚀刻装置包括连续设置的多个蚀刻槽(图中为蚀刻槽1-3)和一个水洗槽。当进行蚀刻处理时，待蚀刻物品按照顺序依次在蚀刻槽1-3内与化学品进行接触，以将需要蚀刻去除的光阻去除掉，最后经过水洗槽5将化学品冲洗干净，从而便于后续工艺的进行。在图1的方案中，化学品循环本文档来自技高网...

【技术保护点】
蚀刻装置，该蚀刻装置包括：多个蚀刻槽，该多个蚀刻槽允许待蚀刻物品依次经过而得以蚀刻处理；和化学品供应装置，该化学品供应装置包括：第一罐(11)，该第一罐(11)接收全新的化学品并向最后一个蚀刻槽供应化学品；和第二罐(12)，该第二罐(12)接收除第一蚀刻槽之外的所有蚀刻槽内经过蚀刻处理后的化学品，并至少向除最后一个蚀刻槽之外的所有蚀刻槽供应经过蚀刻处理后的化学品。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：詹舒嘉，
申请(专利权)人：东旭昆山显示材料有限公司，东旭集团有限公司，东旭科技集团有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏;32