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本发明涉及电子工业领域，公开了一种电子工业领域中的蚀刻装置，该蚀刻装置包括：多个蚀刻槽，该多个蚀刻槽允许待蚀刻物品依次经过而得以蚀刻处理；和化学品供应装置，该化学品供应装置包括：第一罐，该第一罐接收全新的化学品并向最后一个蚀刻槽供应化学品；...该专利属于东旭（昆山）显示材料有限公司;东旭集团有限公司;东旭科技集团有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过东旭（昆山）显示材料有限公司;东旭集团有限公司;东旭科技集团有限公司授权不得商用。