【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种处理设备，且特别涉及一种靶材处理设备。
技术介绍
溅镀是一种物理气相沉积技术，主要是利用高能量的离子束或原子束射入靶材中，而使靶材表面的原子获得额外动能以脱离靶材，进而使原子得以飞溅至待镀物上而沉积成薄膜。靶材包含正板与背板，正板使用的材质即为待镀物所欲沉积的材质。例如，待镀物上若是欲沉积铝薄膜，则正板的材质为铝。正板与背板相贴合，其中背板略大于正板，所以背板与正板相贴合的接触面上，背板会露出一部分的表面。由于靶材的正板与背板的材质不同，所以在制作靶材时，需要经过种种步骤将正板与背板黏合在一起，才能做为靶材使用。在一般的靶材制作过程中，通常是先分别提供正板以及背板，并分别清洗正板与背板。清洁干净后的正板与背板上涂布接着层，以使正板与背板得以黏合在一起。黏合后的正板与背板需要再经过研磨操作以及喷砂操作，才能做为靶材之使用。然而，上述靶材的制作过程中，研磨操作以及喷砂操作皆是以人工作业，不仅耗时耗力，也提高了靶材的制作成本。
技术实现思路
因此，本专利技术的一目的在于提供一种靶材处理设备，其可节省人力、时间以及靶材的制作成本。本专利技术的另...
【技术保护点】
一种靶材处理设备，适用于处理包含一正板与一背板的一靶材，其特征在于，该靶材处理设备包含：一背板研磨装置，用以研磨该背板；一喷砂装置，设于该背板研磨装置的一侧，用以粗糙化一部分的该背板；以及一正板研磨装置，设于该喷砂装置的一侧，用以研磨该正板。
【技术特征摘要】
...
【专利技术属性】
技术研发人员：杨清河，吴智稳，苏梦鹏，翁基祥，孙璿程，林俊宏，
申请(专利权)人：住华科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：中国台湾;71
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