垂直LED芯片结构及其制备方法技术

本发明专利技术提供一种垂直LED芯片结构及其制备方法，在制作完GaN发光外延结构之后，首先采用KOH对N-GaN层进行一次粗化，然后采用显影液（低碱性溶液）进行二次粗化，使得一次粗化形成的疏松的小金字塔逐渐变大，且不利于出光的平面区域出现密集的小金字塔形貌，这种大包小包共存的粗化形貌可使垂直芯片亮度大幅提升。本发明专利技术通过一种二次粗化工艺，可以明显改善现有垂直芯片N-GaN表面粗化效果不佳的状况，大幅提升垂直芯片的光提取效率。本发明专利技术的结构及方法简单，在半导体照明领域具有广泛的应用前景。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种发光二极管及其制备方法，特别是涉及一种垂直LED芯片结构及其制备方法。
技术介绍
相比于传统的GaN基LED正装结构，垂直结构具有散热好，能够承载大电流，发光强度高，耗电量小、寿命长等优点，被广泛应用于通用照明、景观照明、特种照明、汽车照明等领域，成为一代大功率GaN基LED极具潜力的解决方案，正受到业界越来越多的关注和研究。垂直结构剥离了蓝宝石衬底，可直接在外延P型层上布置反射层，器件内部有源区随机射向非出光面的光直接通过反射层反射，通常的反射层为金属反射层或者电介质材料构成的布拉格分布反射层等，避免了由于器件内部有源区随机射向非出光面而造成光抽取效率的降低。但是，反射层通常蒸镀在光滑的ΙΤ0透明接触层之上，呈现为镜面反射，这对LED光提取效率的提尚有很大的限制。GaN基LED的光抽取效率受制于GaN与空气之间巨大的折射率差，根据斯涅耳定律，只有入射角在临界角(约23° )以内的光可以出射到空气中，而临界角以外的光只能在GaN内部来回反射，直至被自吸收。为了提高LED的出光效率，图形化衬底在LED的制备中被广泛采用。而垂直结构LED剥离衬底后暴露的N面N-GaN层表面化学性质活泼，易于与Κ0Η或H3P04发生反应形成微小的金字塔形貌，能显著增大器件内部光的出射几率，而粗化效果的不同对垂直芯片的出光也有显著影响。因此与传统结构LED —样，垂直结构LED亦面临着如何提高光提取效率的问题。鉴于以上所述，本专利技术的目的在于提供一种高亮度垂直LED芯片结构及其制备方法，以明显改善现有垂直芯片N-GaN表面粗化效果不佳的状况，大幅提升垂直芯片光提取效率。
技术实现思路
鉴于以上所述现有技术的缺点，本专利技术的目的在于提供一种垂直LED芯片结构及其制备方法，用于解决现有技术中表面粗化效果不佳的问题。为实现上述目的及其他相关目的，本专利技术提供一种垂直LED芯片结构的制备方法，所述制备方法包括:步骤1)，提供一生长衬底，于所述生长衬底上依次生长UID-GaN层、N-GaN层、多量子阱层以及P-GaN层；步骤2)，于所述P-GaN层表面形成反射P电极；步骤3)，提供一导电基底，并将该导电基底键合于所述反射P电极上；步骤4)，剥离所述生长衬底；步骤5)，去除所述UID-GaN层，并去除切割道区域的GaN，形成台面图形；步骤6)，采用Κ0Η强碱溶液对所述N-GaN层进行第一次粗化，然后采用显影液弱碱溶液对所述N_GaN层进行第二次粗化，以于N-GaN层表面形成密集的金字塔形貌；以及步骤7)，于所述N-GaN层表面制作N电极。作为本专利技术的垂直LED芯片结构的制备方法的一种优选方案，步骤2)制作反射P电极包括以下步骤:步骤2-1)，于所述P-GaN层表面制备欧姆接触的ITO层或Ni层；步骤2-2)，于所述ITO层或Ni层表面制作Ag反射镜；步骤2-3)，于所述Ag反射镜表面制作Au/Sn金属键合层。作为本专利技术的垂直LED芯片结构的制备方法的一种优选方案，步骤3)所述的导电基底包括Si衬底、ff/Cu衬底及Mo/Cu衬底中的一种。作为本专利技术的垂直LED芯片结构的制备方法的一种优选方案，步骤4)采用激光剥离工艺剥离所述生长衬底。作为本专利技术的垂直LED芯片结构的制备方法的一种优选方案，步骤5)中，采用ICP刻蚀法去除所述UID-GaN层，并采用ICP刻蚀法去除切割道区域的GaN，所述ICP刻蚀法采用的刻蚀气体包括(:12及BC1 3的一种或其混合气体。作为本专利技术的垂直LED芯片结构的制备方法的一种优选方案，步骤6)包括:步骤6-1)，采用Κ0Η强碱溶液对所述N-GaN层进行第一次粗化，于所述N_GaN层表面形成初始金字塔，各初始金字塔之间具有N-GaN平面；步骤6-2)，采用显影液弱碱溶液对所述N_GaN层进行第二次粗化，使所述初始金字塔的尺寸逐渐增大形成第一尺寸的金字塔，并于所述N-GaN平面腐蚀出第二尺寸的金字塔，所述第一尺寸的金字塔与第二尺寸的金字塔紧密排布，其中，所述第一尺寸大于所述第二尺寸。作为本专利技术的垂直LED芯片结构的制备方法的一种优选方案，步骤6)所述的显影液弱碱溶液为AZ300MIF型显影液。本专利技术还提供一种垂直LED芯片结构，包括:导电基底，依次层叠于所述导电基底之上的反射P电极、P-GaN层、多量子阱层、及N-GaN层，以及位于所述N_GaN层表面的N电极，所述N-GaN层表面形成有密集的金字塔形貌，所述金字塔形貌包括第一尺寸的金字塔以及与所述第一尺寸的金字塔紧密排布的第二尺寸的金字塔，其中，所述第一尺寸大于所述第二尺寸。作为本专利技术的垂直LED芯片结构的一种优选方案，所述导电基底包括Si衬底、W/Cu衬底及Mo/Cu衬底中的一种。作为本专利技术的垂直LED芯片结构的一种优选方案，所述反射P电极包括与P-GaN形成欧姆接触的ΙΤ0层或Ni层，位于所述ΙΤ0层或Ni层之上的Ag反射镜，以及位于所述Ag反射镜之上的Au/Sn键合层金属层。如上所述，本专利技术的垂直LED芯片结构及其制备方法，具有以下有益效果:本专利技术首先采用Κ0Η对N-GaN层进行一次粗化，然后采用显影液(低碱性溶液)进行二次粗化，使得一次粗化形成的疏松的小金字塔逐渐变大，且不利于出光的平面区域出现密集的小金字塔形貌，这种大包小包共存的粗化形貌可使垂直芯片亮度大幅提升。本专利技术通过一种二次粗化工艺，可以明显改善现有垂直芯片N-GaN表面粗化效果不佳的状况，大幅提升垂直芯片的光提取效率。本专利技术的结构及方法简单，在半导体照明领域具有广泛的应用前景。【附图说明】图1?图9显示为本专利技术的垂直LED芯片结构的制备方法各步骤所呈现的结构示意图，其中，图9显示为本专利技术的垂直LED芯片结构的结构示意图。图10?图11显示为传统的通过Κ0Η溶液一次粗化后的N-GaN层的扫描电镜图。图12?图13显示为本专利技术的通过Κ0Η溶液一次粗化后，再采用显影液进行二次粗化的N-GaN层的扫描电镜图。元件标号说明101生长衬底102UID-GaN 层103N-GaN 层104多量子阱层105P-GaN 层106反射P电极107导电基底108初始金字塔109第一尺寸的金字塔110第二尺寸的金字塔111N 电极【具体实施方式】以下通过特定的具体实例说明本专利技术的实施方式，本领域技术人员可由本说明书所揭露的内容轻易地了解本专利技术的其他优点与功效。本专利技术还可以通过另外不同的【具体实施方式】加以实施或应用，本说明书中的各项细节也可以基于不同观点与应用，在没有背离本专利技术的精神下进行各种修饰或改变。请参阅图1?图13。需要说明的是，本实施例中所提供的图示仅以示意方式说明本专利技术的基本构想，遂图示中仅显示与本专利技术中有关的组件而非按照实际实施时的组件数目、形状及尺寸绘制，其实际实施时各组件的型态、数量及比例可为一种随意的改变，且其组件布局型态也可能更为复杂。如图1?图13所示，本实施例提供一种垂直LED芯片结构的制备方法，所述制备方法包括以下步骤:如图1?图2所示，首先进行步骤1)，提供一生长衬底101，于所述生长衬底101上依次生长UID-GaN层102、N-GaN层103、多量子阱层104以及P_GaN层105。作为示例，所述生长衬底101为蓝宝石衬底。具体地，采用化学气相沉积工艺依本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种垂直LED芯片结构的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括：步骤1)，提供一生长衬底，于所述生长衬底上依次生长UID‑GaN层、N‑GaN层、多量子阱层以及P‑GaN层；步骤2)，于所述P‑GaN层表面形成反射P电极；步骤3)，提供一导电基底，并将该导电基底键合于所述反射P电极上；步骤4)，剥离所述生长衬底；步骤5)，去除所述UID‑GaN层，并去除切割道区域的GaN，形成台面图形；步骤6)，采用KOH强碱溶液对所述N‑GaN层进行第一次粗化，然后采用显影液弱碱溶液对所述N‑GaN层进行第二次粗化，以于N‑GaN层表面形成密集的金字塔形貌；步骤7)，于所述N‑GaN层表面制作N电极。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：童玲，徐慧文，张宇，李起鸣，
申请(专利权)人：映瑞光电科技上海有限公司，
类型：发明
国别省市：上海;31