一种垂直LED芯片制造技术

本实用新型专利技术提出一种垂直LED芯片，至少包括：外延层，以及所述外延层上由下至上依次形成的接触层、反射镜层、粘合层和喷涂基板；其中，所述外延层自下而上依次包含有N型氮化镓层、发光层和P型氮化镓层，所述N型氮化镓层上制作有N电极，所述喷涂基板上制作有P电极。本实用新型专利技术提供的垂直LED芯片，可以解决制作基板的过程中对外延层造成影响，缓解外延层受到的应力，以及避免大量使用贵金属，降低了垂直LED芯片制作成本。（*该技术在2022年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及半导体光电芯片制造领域，尤其涉及一种垂直LED芯片。
技术介绍
近年来,对于大功率照明发光二极管(light-emitting diode,LED)的研究已经成为趋势，然而传统的同侧结构LED存在电流拥挤、电压过高和散热难等缺点，很难满足大功率的需求，而垂直LED不仅可以有效地解决大电流注入下的拥挤效应，还可以缓解大电流注入所引起的内量子效率降低，改善垂直LED的光电性能。因此，制备垂直LED芯片首先需要解决大功率垂直LED芯片散热的问题，即将垂直LED芯片发光产生的热量转移到导电导热性能好的基板上。目前，将垂直LED芯片发光产生的热量转移到基板上的垂直LED芯片的制作方法中主要有键合路线和电镀基板路线。 以通过键合路线制备垂直LED芯片的制作工艺为例进行详细分析参见图1，传统的红光产品多数采用这种转移技术，在衬底上沉积外延层，在外延层上由下至上依次制作P型接触层、反射镜层、金属层、第一键合层，然后将其与带有P电极和第二键合层的基板在一定温度和压力下压焊在一起，再剥离掉衬底，完成后续垂直LED芯片制作，所述外延层由下至上依次沉积N型层、发光区和P型层。此键合路线中通常以金-金(Au-Au)或者金-锡(Au-Sn)为材料制成的所述第一键合层和所述第二键合层成本较高，且所述外延层的应力难于调控，第一键合层和第二键合层在键合过程中对外延层和衬底的平整度要求较高，工艺窗口窄。以通过电镀基板路线制备垂直LED芯片制作工艺为例进行详细分析参见图2，在衬底上沉积外延层，在外延层上由下至上依次制作P型接触层、反射镜层、金属层，然后在金属层表面通过电镀方式沉积一层较厚的电镀基板，使其具有支撑能力，再剥离掉衬底，完成后续垂直LED芯片制作，所述外延层由下至上依次沉积N型层、发光区和P型层。该类型的垂直LED芯片一般采用单层或多层电镀金属形成电镀基板作为转移基板，在电镀过程中，应力较难调控。为了解决上述问题，有必要设计一种垂直LED芯片，能将其产生的热量经外延层转移至基板上而不增加外延层上的应力以及节约垂直LED芯片的制作成本。
技术实现思路
本技术的目的是提供一种垂直LED芯片，以解决制作基板的过程中对外延层造成影响，缓解外延层的应力，以及避免大量使用贵金属制作基板，降低了垂直LED芯片制作成本。为解决上述问题，本技术提供了一种垂直LED芯片，至少包括外延层，以及所述外延层上由下至上依次形成的接触层、反射镜层、粘合层和喷涂基板；其中，所述外延层自下而上依次包含有N型氮化镓层、发光层和P型氮化镓层，所述N型氮化镓层上制作有N电极，所述喷涂基板上制作有P电极。进一步的，所述粘合层为与喷涂基板有很好粘附性。优选的，所述粘合层为具有表面粗糙度为I. 5 μ mRa-20 μ mRa的粘合层。进一步的，所述喷涂基板或粘合层为使用铝硅合金、钨铜合金、钥铜合金、碳化硅、氧化锌、砷化镓中的一种或其它材料组成的喷涂基板或粘合层。进一步的，所述的喷涂基板或粘合层为使用铬、镍、钨、钥、钛、铜、金、钼、银、钽、铌、钒中的一种或几种组成的合金的喷涂基板或粘合层。优选的，所述喷涂基板为膨胀系数大于所述外延层的膨胀系数，且小于衬底的膨胀系数的喷涂基板。优选的，所述喷涂基板为厚度为80 μ m-500 μ m的喷涂基板。 由上述技术方案可见，与现有的分别通过键合路线和电镀基板路线制备垂直LED芯片的工艺相比，本技术公开的垂直LED芯片的制作方法由于能够借助喷涂基板选择的多样性，容易选择膨胀系数大于外延层膨胀系数、且小于衬底膨胀系数的导电喷涂基板，以缓解外延层的应力；其次，由于在反射镜阻挡层与喷涂基板之间还存在所述的粘合层，增加了所述粘合层和喷涂基板之间的附着力，且在所述粘合层形成过程中，其受热温度低，对外延层的影响也小；同时，由于喷涂方式避免了大量贵金属的使用，降低了垂直LED芯片制作成本。附图说明图I是现有技术通过键合路线制备垂直LED芯片的过程示意图；图2是现有技术通过电镀路线制备垂直LED芯片的过程示意图；图3是本技术一种垂直LED芯片制作方法流程；图4A至图4H是本技术一种垂直LED芯片制作方法；图5是本技术一种垂直LED芯片结构示意图。具体实施方式为使本技术的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，以下结合附图对本技术的具体实施方式做详细的说明。在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本技术。但是本技术能够以很多不同于在此描述的其它方式来实施，本领域技术人员可以在不违背本技术内涵的情况下做类似推广，因此本技术不受下面公开的具体实施的限制。其次，本技术利用示意图进行详细描述，在详述本技术实施例时，为便于说明，表示器件结构的剖面图会不依一般比例作局部放大，而且所述示意图只是实例，其在此不应限制本技术保护的范围。此外，在实际制作中应包含长度、宽度及深度的三维空间尺寸。参见图3，本技术所提供的一种垂直LED芯片制作方法流程为SlOO :提供一衬底，在所述衬底的表面上由下至上依次沉积包含有N型氮化层、发光层和P型氮化层的外延层；SlOl :在所述外延层表面上自下而上依次形成接触层、反射镜层；S102 :在反射镜层的表面上形成粘合层；S103 :米用嗔涂方式在所述粘合层上形成嗔涂基板；S104 :制成垂直LED芯片。下面以图3所示的方法流程为例，结合附图4A至4H，对一种垂直LED芯片的制作工艺进行详细描述。实施例一SlOO :提供一衬底，在所述衬底的表面上由下至上依次沉积包含有N型氮化层、发光层和P型氮化层的外延层；参见图4A，提供一衬底100，在所述衬底100上生长外延层108，所述衬底100为蓝宝石衬底，所述外延层108由下至上依次包含生长的N型氮化镓102、发光层104和P型氮 化镓106。SlOl :在所述外延层表面上自下而上依次形成接触层、反射镜层。参见图4B，在所述外延层108的表面上依次采用电子束蒸发沉积接触层110和反射镜层112，其中，所述接触层使用的材料为镍(Ni)，其厚度为Inm;所述反射镜层112使用的材料为银(Ag)，其厚度为300nm。当然，在所述反射镜层112上还可以沉积反射镜阻挡层113，用以更好的防止所述反射镜层112的扩散和电迁移。S102 :在反射镜层的表面上形成粘合层。首先，参见图4C，在反射镜层112的表面上可采用蒸发、溅射或者喷涂方式形成粘合层114。优选的，采用溅射方式形成粘合层114。其中，所述粘合层114可以使用铝硅合金、钨铜合金、钥铜合金、碳化硅、氧化锌、砷化镓中的一种或其它材料组成的材料，也可以使用铬、镍、钨、钥、钛、铜、金、钼、银、钽、铌、钒中的一种或几种组成的合金。本实施例中经过周期为五数目的沉积过程后，再沉积厚度为2μπι的铝(Al)形成粘合层114。其中，每周期分别沉积厚度为IOOnm的钛(Ti)和厚度为IOOnm的钛-钨(Ti-W)合金。其次，参见图4D，优选的，可以采用表面图形粗化或喷砂粗化使所述粘合层的表面粗化。优选的，采用表面图形粗化工艺，在所述粘合层的表面做光刻刻蚀出深度为2μπι的图形，使其表面具有较大的粗糙度，便于和后续工艺形成喷涂基板(图中未示)更牢固的结合，所述粘合层114的表本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种垂直LED芯片，其特征在于，至少包括：外延层，以及所述外延层上由下至上依次形成的接触层、反射镜层、粘合层和喷涂基板；其中，所述外延层自下而上依次包含有N型氮化镓层、发光层和P型氮化镓层，所述N型氮化镓层上制作有N电极，所述喷涂基板上制作有P电极。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：封飞飞，张昊翔，万远涛，金豫浙，高耀辉，李东昇，江忠永，
申请(专利权)人：杭州士兰明芯科技有限公司，
类型：实用新型
国别省市：