降低I型和IV型超敏反应的致耐受性合成纳米载体的局部伴随施用制造技术

技术编号:12879089 阅读:68 留言:0更新日期:2016-02-17 13:40
公开了用于伴随地局部施用免疫抑制剂和一定剂量的治疗性大分子以降低I型和IV型超敏反应的方法及相关组合物。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

【技术保护点】
方法,其包括:提供治疗剂量的治疗性大分子,其中所述治疗性大分子不与合成纳米载体连接;提供包含与免疫抑制剂连接之合成纳米载体的组合物;以及将所述组合物和所述治疗剂量的所述治疗性大分子伴随地局部施用于对象,其中所述对象由于施用所述治疗剂量的所述治疗性大分子而处于局部炎性反应的风险中,并且其中所述组合物和所述治疗剂量的所述治疗性大分子的局部伴随施用在所述对象中降低1型超敏反应和IV型超敏反应两者。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员:罗伯托·A·马尔多纳多
申请(专利权)人:西莱克塔生物科技公司
类型:发明
国别省市:美国;US

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