一种无氰镀Cu-Sn合金用焦磷酸盐的电镀液及电镀方法技术

技术编号:12836755 阅读:150 留言:0更新日期:2016-02-11 00:37
本发明专利技术公开了一种无氰镀Cu-Sn合金用焦磷酸盐的电镀液及电镀方法。其中,该电镀液由含量为0.4~6g/L的以铜计焦磷酸铜、含量为8~36g/L的以锡计焦磷酸亚锡、含量为72~189g/L的以焦磷酸根计碱金属焦磷酸盐、含量为0.36~0.72g/L的光亮剂和含量为40~60g/L的磺基水杨酸组成;所述光亮剂为由等摩尔量的哌嗪和环氧氯丙烷反应得到的反应产物。该电镀液以焦磷酸铜为铜主盐,焦磷酸锡为锡主盐,以碱金属的焦磷酸盐作为配位剂,以等摩尔量的哌嗪和环氧氯丙烷反应得到的反应产物作为光亮剂,以磺基水杨酸为镀液稳定剂,由此使获得的镀液具有较好的分散力和深镀能力,阴极电流效率高,镀液性能优异。采用在镀液在碱性条件下电镀获得的镀层的孔隙率低,光亮度高,镀层质量良好。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及电镀铜锡
,尤其涉及一种无氰镀Cu-Sn合金用焦磷酸盐的的 电镀液及电镀方法。
技术介绍
电镀铜锡合金是发展最早的合金镀种之一。由于镍资源短缺等原因,镍的价格持 续增长,代镍镀层越来越引起人们的注意。铜锡合金作为代镍用于防护、装饰性镀层,既可 以满足使用要求,也可以减少镍的使用,因此具有非常高的市场价值。80年代后期,研究发 现金属镍接触人的皮肤会引发镍敏感症状,因而在许多国家,例如,欧共体国家旱在90年 代就已立法限制首饰品中含镍量,要求金属镍的析出量每平方厘米不超过〇. 5微克。因此 研究代镍电镀工艺有很大的必要性。代镍镀层应具备以下性能:首先镀层的整平性、光亮度 要好,具有优良的装饰效果。其次,镀层应能阻止底层金属向而层的扩散,以防止贵金属镀 层的变色。再者,电镀成本不能太高。日前常用的代镍工艺主要有电镀铜合金、镀钯或钯镍 合金、镀钴。镀钴和镀钯均因其价格昂贵使得它们的工业化推广受到限制。电镀Cu-Sn合 金,可获得平整和光亮的镀层,铜锡合金的防扩散性能良好,较为重要的是,电镀成本较为 理想。不仅如此,电镀废液处理技术要求不高。基于此,电镀Cu-Sn合金在装饰防护性电镀 中获得了广泛的应用,是应用最广泛的代镍镀层之一。 由于氰化物有剧毒,在环保意识的逐步增强的大时代背景下,氰化电镀Cu-Sn合 金开始被各国政府通过立法进行限制。无氰电镀的开发凸显出巨大的市场前景。现有的氰 化电镀Cu-Sn合金普遍存在镀液的性能不佳,镀层质量不高的技术缺陷,这些严重制约了 无氰电镀铜锡在工业上的进一步推广。
技术实现思路
有鉴于此,本专利技术一方面提供一种无氰镀Cu-Sn合金合金用焦磷酸盐的电镀液, 该电镀液的镀液性能较好,使用该镀液得到的镀层质量较高。 -种无氰镀Cu-Sn合金合金用焦磷酸盐的电镀液,由含量为0. 4~6g/L的以铜计 焦磷酸铜、含量为8~36g/L的以锡计焦磷酸亚锡、含量为72~189g/L的以焦磷酸根计碱 金属焦磷酸盐、含量为〇. 36~0. 72g/L的光亮剂和含量为40~60g/L的磺基水杨酸组成; 所述光亮剂为由等摩尔量的哌嗪和环氧氯丙烷反应得到的反应产物。 其中,由含量为4g/L的以铜计焦磷酸铜、含量为18g/L的以锡计焦磷酸亚锡、含量 为134g/L的以焦磷酸根计碱金属焦磷酸盐、含量为0. 50g/L的光亮剂和含量为52g/L的磺 基水杨酸组成。 以上电镀液的技术方案中,选用焦磷酸铜为铜主盐。选用焦磷酸锡为锡主盐。。选 用焦磷酸盐为配位剂。焦磷酸盐优选为碱金属的焦磷酸盐,例如焦磷酸钠或钾。碱金属的 焦磷酸盐为可溶性盐。焦磷酸根可与铜离子和亚锡离子形成络合物,该络合物在阴极沉积 时的放电电位较简单的二价铜离子更负,即极化程度更大。因而,络合离子放电更为平稳, 使得镀层的更为细致平整。焦磷酸铜和焦磷酸锡所含的焦磷酸根作为配位剂阴离子,不会 导致镀液中引入其他的阴离子杂质。 光亮剂为由等摩尔量的哌嗪和环氧氯丙烷在50~70°C下通过缩合反应3~5h得 到的反应产物。该反应以水为反应溶剂。首先将哌嗪溶解于水中,待温度调节为40°C时,将 环氧氯丙烷在搅拌条件下加入至上述溶液,然后恒温于50~70°C反应若干时间后,自然冷 却至室温出料。值得说明的是,恒温反应时间由加料时间来决定。环氧氯丙烷的加料方式 可以为分批的间歇式,也可以为连续滴加式。但不管何种加料方式,对加料的速率应当根据 反应热的释放带来反应体系的温度的上升程度来控制。具体而言,以lmol的环氧氯丙烷为 例,在分批的间歇式的加料过程中,每批环氧氯丙烷投料的时间间隔为10~15min ;在连续 滴加式的过程中,滴加的总体时间以30~60min为宜。 选用磺基水杨酸作为镀液稳定剂。它能阻止镀液中因二价铜被亚锡离子还原产生 的铜单质从镀液中沉淀出来。 除了上述添加剂外,本专利技术在还可选用合适用量的其它在本领域所常用的添加 剂,这些都不会损害镀层的特性。 本专利技术另一方面提供一种无氰镀Cu-Sn合金用焦磷酸盐的电镀方法,该方法所适 用的电镀液的性能较好,根据该方法制备的镀层质量较高。 -种使用上述的电镀液电镀的方法,包括以下步骤: (1)配制电镀液:在水中溶解各原料组分形成电镀液,所述每升电镀液含有0. 4~ 6g以铜计焦磷酸铜、8~36g以锡计焦磷酸亚锡、72~189g以焦磷酸根计碱金属焦磷酸盐、 0. 36~0. 72g光亮剂和40~60g磺基水杨酸组成;所述光亮剂为由等摩尔量的哌嗪和环 氧氯丙烷反应得到的反应产物; (2)以预处理过的阴极和阳极置入所述电镀液中通入电流进行电镀。 其中,所述电流为单脉冲方波电流;所述单脉冲方波电流的脉宽为0. 5~1ms,占 空比为5~30%,平均电流密度为1~2A/dm2。 其中,所述步骤(2)中电镀液的pH为8~10。 其中,电镀液的温度为30~50°C。 其中,电镀的时间为25~50min。 其中,所述步骤(2)中阴极与阳极的面积比为(1/2~2) :1。 以上电镀方法的技术方案中,单脉冲方波电流定义为在h时间内通入电流密度为 Jp的电流,在t2时间内无通入电流,是一种间歇脉冲电流。占空比定义为ty (1^+1:2),频率 为1八〖#2),平均电流定义为jp 。同直流电沉积相比,双电层的厚度和离子浓度 分布均有改变;在增加了电化学极化的同时,降低了浓差极化,产生的直接作用是,脉冲电 镀获得的镀层比直流电沉积镀层更均匀、结晶更细密。不仅如此,脉冲电镀还具有:(1)镀 层的硬度和耐磨性均高;(2)镀液分散能力和深镀能力好;(3)减少了零件边角处的超镀, 镀层分布均匀性好,可节约镀液用量。 以低碳的钢板作为阴极。对阴极的预处理由先之后依次包括对阴极用砂纸打磨、 除油、浸酸、预浸铜。该用砂纸打磨可以打磨两次,第一次可以用粗砂纸例如200目的砂纸 打磨,第二次可以用细砂纸,例如可以用WC28金相砂纸。该除油可以先采用化学碱液除 油而后采用95%的无水乙醇除油。其中,化学碱液组成为:50~80g/L Na0H、15~20g/L Na3P04、15~20g/L Na2C03和5g/LNa2Si03和1~2g/L ΟΡ-ΙΟ。化学除油具体过程为经待除 油阴极在化学碱液中15~40°C浸渍30s。浸酸时间为1~2min,浸酸的目的是活化,具体 地说是,去除被镀件表层的氧化物膜,使基体的晶格完全裸露,处于活化状态。浸酸所用的 溶液组成为:l〇〇g/L硫酸和0. 15~0. 20g/L硫脲。预浸铜时间为1~2min,所用的溶液组 成为:100g/L硫酸、50g/L无水硫酸铜和0. 20g/L硫脲。 步骤(2)中阴极与阳极的面积比优选为1 :1. 5。阴阳极面积比过大会使得其较易 发生钝化,甚至会产生铜盐或亚铜氧化物;反之,则会导致阴极铜沉积速率过小,从而降低 电流效率。 本专利技术的电镀液为微碱性。若pH过低,焦磷酸转变为正磷酸,从而产生不利的影 响,例如损坏电沉积的均匀性,也可使获得表面粗糙的镀层,这些都不会影响镀层出现异 常。反之,电流密度变窄,电沉积的均匀性和电流效率降低。温度对镀液也有一定的影响, 例如若温度过高,焦磷酸转变为正磷酸,从而导致镀层出现上述的异常。 本专利技术以焦磷本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种无氰镀Cu‑Sn合金用焦磷酸盐的电镀液,其特征在于,由含量为0.4~6g/L的以铜计焦磷酸铜、含量为8~36g/L的以锡计焦磷酸亚锡、含量为72~189g/L的以焦磷酸根计碱金属焦磷酸盐、含量为0.36~0.72g/L的光亮剂和含量为40~60g/L的磺基水杨酸组成;所述光亮剂为由等摩尔量的哌嗪和环氧氯丙烷反应得到的反应产物。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:石明
申请(专利权)人:无锡永发电镀有限公司
类型:发明
国别省市:江苏;32

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