本发明专利技术的目的在于提供一种镀敷装置，其无须在镀敷槽外设置循环泵，而可提高镀敷液的流速，并可使流速从镀敷槽的底部至液面相同，其结果，可遍及基板全部区域地，进行镀敷膜厚均匀且析出速度快速的镀敷，镀敷装置具备：收容镀敷液的镀敷槽；拆装自如地保持基板的基板保持件；与基板保持件所保持的基板相对置地配置的阳极；以与基板保持件平行的方式架设在镀敷槽的上方的轨道部；以及悬垂支持于该轨道部且可沿轨道部往返移动的桨叶，其特征在于；在该桨叶上垂直设置有以轴部为中心旋转自如或转动自如的叶片部。
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及将基板浸溃在镀敷液中而在基板表面进行镀敷的镀敷装置。
技术介绍
以往，已知有在将保持有基板的镀敷夹具铅垂地设置，使镀敷液由镀敷槽的底面流入并从上面溢流的半导体基板用镀敷装置中，设置有可在镀敷夹具与阳极之间往复运动的桨叶(paddle)，以便在镀敷处理中将镀敷液均匀地提供给基板的被镀敷面的全部区域。在利用这种桨叶的搅拌的情况下，利用镀敷夹具保持基板，一面使桨叶往复运动一面进行镀敷，但是液流的方向与桨叶的行进方向相反，存在由于液流方向交替而无法加速在表面的流速的问题。因此，在专利文献I中公开了一种利用使镀敷液发生涡流的涡发生器，使从镀敷槽的下部供给的镀敷液发生涡流的镀敷装置。但是，在这种镀敷装置的情况下，必须在镀敷槽外设置用以将镀敷液送至涡发生器的循环栗，不仅设置空间会变大，还由于镀敷液从镀敷槽的下部供给至涡发生器，而难以使流速在被镀敷面的上下均匀。日本特开2004-345066
技术实现思路
(专利技术所要解决的问题)因此，本专利技术的问题在于提供一种克服现有的镀敷装置的上述缺点，无须在镀敷槽外设置循环栗，就可提高镀敷液的流速，并使流速从镀敷槽的底部至液面相同，其结果，可遍及基板全部区域地，进行镀敷膜厚均匀且析出速度亦快速的镀敷处理的镀敷装置。(解决问题的措施)本专利技术用于解决上述问题，提供一种镀敷装置，具备；收容镀敷液的镀敷槽；拆装自如地保持基板的基板保持件；与基板保持件所保持的基板相对置地配置的阳极；以与基板保持件平行的方式架设在镀敷槽的上方的轨道部；以及被悬垂支持在该轨道部且可沿轨道部往返移动的桨叶，所述镀敷装置的特征在于:在所述桨叶上垂直设置有以轴部为中心而旋转自如或转动自如的叶片部。(专利技术的效果)本专利技术的镀敷装置在可沿轨道部往返移动的桨叶上设置旋转自如或转动自如的叶片部，据此可调整抵碰于基板的流速或方向，液流平均地抵碰整个基板而无不匀，因此可使镀敷膜厚均匀。此外，在本专利技术的镀敷装置中，桨叶的叶片部总是以恒定方向旋转，使基板的被镀敷面附近的液流成为单一方向，而以小的动力就可使液流以高速抵碰于基板表面。此外，在本专利技术的镀敷装置中，将桨叶的叶片部在规定的角度范围内进行转动(摆动)，使液流垂直地抵碰于基板W的被镀敷面，并且液流遍及基板W全面地抵碰，因此可均匀地进行镀敷处理。【附图说明】图1为本专利技术的镀敷装置的概略平面图。图2为本专利技术的镀敷装置的概略剖面图。图3为本专利技术的镀敷装置中不同的实施方式的概略平面图。图4为本专利技术的镀敷装置中不同的实施方式的概略剖面图。图5的(a)为显示本专利技术的镀敷装置的桨叶的一个实施方式的主视图，(b)为显示本专利技术的镀敷装置的桨叶的一个实施方式的剖面图。【具体实施方式】以下根据附图，具体说明本专利技术的镀敷装置的实施方式。另外，本专利技术并不受这些实施方式的任何限制。图1为本专利技术的镀敷装置的概略平面图，图2为本专利技术的镀敷装置的概略剖面图。如图所示，本专利技术的镀敷装置具备:收容镀敷液的镀敷槽I ;拆装自如地保持基板的基板保持件2 ;与基板保持件2所保持的基板W相对置地配置的阳极3 ;以与基板保持件2平行的方式架设在镀敷槽I的上方的轨道部5 ;以及悬垂支持于该轨道部5且可沿轨道部5往返移动的桨叶4。以下说明各构件。如图所示，轨道部5以与基板保持件2平行的方式架设于镀敷槽I上方且在基板保持件2与阳极3之间。在该轨道部5上悬垂支持有具备用于沿轨道部5左右往返移动的驱动装置(未图标)的桨叶4。该桨叶4具备作为叶片部41的旋转驱动装置的电机43，并具有与电机43连动而旋转自如地垂直设置的轴部42。在桨叶4的轴部42上形成有分别朝向相反方向突出的2个叶片部41，设置为在从电机43经由轴部42而传递的旋转力的作用下旋转自如。在本实施方式中，叶片部41形成为剖面呈矩形，但也可形成为在叶轮的旋转行进方向具有凹面的弧状。通过设置这种凹面，叶片部41可效率良好地捕集镀敷液而使流速提高。此外，关于叶片部41的个数，虽无特别限制，但尤其优选为2个。此外，关于叶片部41的宽度(在图面上为上下方向的长度)优选为至少具有可覆盖基板W的被镀敷面的高度的宽度。本实施方式的桨叶4沿轨道部5而左右往返移动，但是此时，叶片部41始终朝单一方向旋转。例如，在图1的实施方式中，叶片部41在桨叶4的往返移动中，始终以顺时钟旋转。这样，无论桨叶4的行进方向如何，都始终使叶片部41的旋转方向恒定，据此基板W的被镀敷面附近的液流成为单一方向，以小的动力就可使液流高速地抵碰于基板表面。图3及图4为显示本专利技术的镀敷装置的第二实施方式。该第二实施方式在架设于镀敷槽I的上方的轨道部5上悬垂支持的桨叶4可往返移动的方面，与第一实施方式相同。在第二实施方式中，在以下方面具有特征。即，在本实施方式中，桨叶4的叶片部41设置为在规定的角度范围内借助于电机43而转动(摆动)自如。具体而言，从轴部42朝向基板W方向突出而设置的叶片部41如图中的箭头所示，相对于基板W从直角的位置朝左右转动。此时，叶片部41的转动角度无特别限制，但是为了以最小的动力而效率良好地产生液流，优选设定在30度?90度(相对于关于基板W的垂线为单侧15度?45度)的范围。此外，关于叶片部41的个数，亦没有限制，但是若个数增加则会产生多余的液流，因此如图所示优选设置为I个。如上所述，在第二实施方式中，叶片部41 一面在规定的角度范围内转动，一面使桨叶4沿着轨道部5左右往返移动，因此液流会垂直地抵碰于基板W的被镀敷面，并且液流遍及基板W全面地抵碰，因此可均匀地进行镀敷处理。另外，在第二实施方式的镀敷装置中，也可以不使叶片部41转动，而是在相对于桨叶4的行进方向保持恒定角度的同时使桨叶4移动。通过这种方法，可有效率地使液流抵碰于基板W的被镀敷面，因此以小的动力就可均匀地进行镀敷处理。此外，在第二实施方式的镀敷装置中，也可以将叶片部41保持为自由转动的方式，并且在桨叶4上设置用于将叶片部41的转动角度限制在规定范围内的止动件。通过这种方式，液体对于叶片部41的阻力会与桨叶4的行进方向相对应而改变，因此叶片部41的方向及角度可按照桨叶4的移动而变更、保持。据此，可使液流效率良好地抵碰于基板W的被镀敷面，因此可以以小的动力而均匀地进行镀敷处理。图5为显示本专利技术的镀敷装置的桨叶的不同的实施方式。本实施方式的桨叶被称为所谓的交叉流叶轮的类型，在上下的圆板状支持部44之间，2个叶片部41隔着旋转轴部分而对称地垂直设置。这种叶片部41设置为以连续设置在上部的支持部44上的轴部42为旋转轴而旋转自如。此外，在本实施方式的桨叶4上，沿着与阳极3侧相对置的侧面，设置有以半圆形弯曲的覆盖部45。如上所述，通过将本专利技术的镀敷装置的桨叶形成为交叉流叶轮类型，液流遍及基板W全面地进行抵碰，因此可均匀地进行镀敷处理。(附图标记的说明)1:镀敷槽;2:基板保持件;3:阳极;4:桨叶;5:轨道部;41:叶片部;42:轴部；43:电机部；44:支持部；45:覆盖部。【主权项】1.一种镀敷装置，具备； 收容镀敷液的镀敷槽；拆装自如地保持基板的基板保持件；与基板保持件所保持的基板相对置地配置的阳极；以与基板保持件平行的方式架设在镀敷槽的上方的轨道部；悬垂支持于所述轨道部且可沿轨道部往返移动的桨叶， 其特征本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种镀敷装置，具备；收容镀敷液的镀敷槽；拆装自如地保持基板的基板保持件；与基板保持件所保持的基板相对置地配置的阳极；以与基板保持件平行的方式架设在镀敷槽的上方的轨道部；悬垂支持于所述轨道部且可沿轨道部往返移动的桨叶，其特征在于：在所述桨叶上垂直设置有以轴部为中心旋转自如或转动自如的叶片部。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
【专利技术属性】
技术研发人员：吉冈润一郎，村山隆史，
申请(专利权)人：株式会社杰希优，
类型：发明
国别省市：日本;JP
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