一种用于晶硅电池片刻蚀的水膜保护装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术涉及太阳能电池领域，公开了一种用于晶硅电池片刻蚀的水膜保护装置，包括喷淋机构和传动机构，所述喷淋机构包括导液管、喷嘴、阀门和传感器，所述喷嘴安装在所述导液管上，所述喷嘴的数量为1个或多个，所述传感器固定在导液管上，并位于所述喷嘴一侧，所述传感器控制所述阀门的开启或闭合，所述传动机构位于所述喷嘴下方，所述传动机构托载晶硅电池片；本实用新型专利技术采用大角度低流量喷嘴对电池片表面直接进行喷洒，无需额外的泵浦，能够实现结构简单、需求压力低、喷洒效果好、节省水量和适合批量生产的有益效果。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及太阳能电池领域，尤其涉及一种用于晶硅电池片刻蚀的水膜保护 目.0
技术介绍
近年来，太阳能电池片生产技术不断进步，生产成本不断降低，转换效率不断提高，使光伏发电的应用日益普及并迅猛发展，逐渐成为电力供应的重要来源。太阳能电池片是一种能量转换的光电元件，它可以在太阳光的照射下，把光的能量转换成电能，从而实现光伏发电。生产电池片的工艺比较复杂，一般要经过切片、制绒、扩散、刻蚀、去磷硅玻璃清洗、沉积减反射膜、丝网印刷、烧结和测试等主要步骤。刻蚀最简单最常用分类是:干法刻蚀和湿法刻蚀。显而易见，它们的区别就在于湿法使用溶剂或溶液来进行刻蚀。湿法刻蚀是一个纯粹的化学反应过程，是指利用溶液与预刻蚀材料之间的化学反应来去除未被掩蔽膜材料掩蔽的部分而达到刻蚀目的。电池片每经过一次化学品，都会经过一次水喷淋清洗，因此在该工序中较广泛使用喷淋结构，且有些情况下要求较高水压进行喷淋。现有技术中使用小栗浦抽水，然后通过许多细小的独立喷嘴将水喷洒到电池片表面，该技术存在结构复杂、成本较高、喷洒不均匀等缺陷。鉴于此，有必要研制一种用于晶硅电池片刻蚀的水膜保护装置，利用纯水管路的压力，采用本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于晶硅电池片刻蚀的水膜保护装置，其特征在于，包括喷淋机构和传动机构(4)，所述喷淋机构包括导液管(1)、喷嘴(2)、阀门(3)和传感器(5)，所述喷嘴(2)安装在所述导液管(1)上，所述喷嘴(2)的数量为1个或多个，所述传感器(5)固定在导液管(1)上，并位于所述喷嘴(2)一侧，所述传感器(5)控制所述阀门(3)的开启或闭合，所述传动机构(4)位于所述喷嘴(2)下方，所述传动机构(4)托载晶硅电池片。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：张淋，程强强，
申请(专利权)人：苏州宝馨科技实业股份有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏;32