固相肽合成方法及相关系统技术方案

技术编号:12526590 阅读:186 留言:0更新日期:2015-12-17 15:01
一般性描述了用于进行固相肽合成的系统和方法。固相肽合成是其中向已固定在固体支持物上的肽添加氨基酸残基的已知方法。在某些实施方案中,本发明专利技术的系统和方法可用于快速地进行固相肽合成同时保持高产率。某些实施方案涉及可用于以减少进行固相肽合成所需的时间量的方式来加热、运输和/或混合试剂的方法和系统。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】【专利说明】固相化合成方法及相关系统 相关申请 本申请是2013年3月15日提交的名称为"SolidPhaseP巧tideSynthesis ProcessesandAssociatedSystems"的美国专利申请序列号13/833,745(其通过引用W 其整体并入本文用于所有目的)的部分继续申请。
一般性描述了用于进行固相肤合成的系统和方法。
技术介绍
固相肤合成是用于在固体支持物上化学合成肤的方法。在固相肤合成中,氨基酸 或肤通常通过C-末端与固体支持物结合。通过偶联反应将新的氨基酸添加至结合的氨基 酸或肤。由于非期望反应的可能性,通常使用保护基团。迄今为止,固相肤合成已经成为化 学肤合成的标准实践。已经通过自动化固相肤合成仪的商业成功证明了固相肤合成的广泛 效用。虽然固相肤合成已被使用了 30多年,但是还没有开发出快速合成技术。因此,需要 改进的方法和系统。
技术实现思路
阳0化]一般性描述了固相肤合成方法及相关系统。某些实施方案设及可用于快速地进行 固相肤合成而同时保持高产率的系统和方法。在一些实施方案中,可WW减少进行固相肤 合成所需的时间量的方式来加热、运输和/或混合试剂。在一些情况下,本专利技术的主题设及 相关的产品、特定问题的替代解决方案和/或一个或更多个系统和/或制品的多种不同的 用途。 在一些实施方案中,提供了用于向肤添加氨基酸残基的方法。在某些实施方案中, 所述方法包括加热包含氨基酸的流W使得所述氨基酸的溫度提高至少约TC;W及使经加 热的氨基酸暴露于固定在固体支持物上的多个肤,其中在使经加热的氨基酸暴露于所述肤 之前且在约30秒内进行所述加热步骤。 在某些实施方案中,所述方法包括提供多个包含保护基团的肤,每个肤均固定在 固体支持物上;进行第一氨基酸添加循环,其包括使氨基酸暴露于固定肤W使得向至少约 99%的所述固定肤添加氨基酸残基;W及进行第二氨基酸添加循环,其包括使氨基酸暴露 于固定肤W使得向至少约99%的所述固定肤添加氨基酸残基。在一些实施方案中,第一氨 基酸添加循环结束与第二氨基酸添加循环结束之间的总时间量为约10分钟或更短,并且 保护基团包括巧基甲氧幾基(fluoren^meth^oxycarbonyl)保护基团和/或第一氨基酸 添加循环结束与第二氨基酸添加循环结束之间的总时间量为约5分钟或更短。 在某些实施方案中,所述方法包括提供固定在固体支持物上的多个肤;W及使活 化氨基酸暴露于固定肤W使得至少一部分所述活化氨基酸与所述固定肤结合W形成新结 合的氨基酸残基;其中至少约99%的所述固定肤在约1分钟或更短的时间内添加了氨基酸 残基。 在某些实施方案中,所述方法包括使包含氨基酸的第一流流动;使包含氨基酸活 化剂的第二流流动;合并所述第一流和第二流W形成包含活化氨基酸的混合流体;并且在 合并所述第一流和第二流W形成混合流体之后的约30秒内将所述混合流体暴露于固定在 固体支持物上的多个肤。 在某些实施方案中,所述方法包括提供多个包含保护基团的肤,每个肤均固定在 固体支持物上;使去保护试剂暴露于固定肤W从至少一部分的所述固定肤中除去保护基 团;除去至少一部分的所述去保护试剂;使活化氨基酸暴露于所述固定肤W使得至少一部 分的所述活化氨基酸与所述固定肤结合W形成新结合的氨基酸残基;W及除去至少一部分 不与所述固定肤结合的活化氨基酸;在一些实施方案中,在氨基酸暴露步骤期间,至少约 99 %的固定肤添加了氨基酸残基。在某些实施方案中,进行所有的去保护试剂暴露步骤、去 保护试剂除去步骤、活化氨基酸暴露步骤和活化氨基酸除去步骤的组合所花费的总时间量 为约10分钟或更短,并且所述保护基团包括巧基甲氧幾基保护基团和/或进行所有的去保 护试剂暴露步骤、去保护试剂除去步骤、活化氨基酸暴露步骤和活化氨基酸除去步骤的组 合所花费的总时间量为约5分钟或更短。 当结合附图考虑对本专利技术的多种非限制性实施方案的W下详细描述时,本专利技术的 其他优点和新的特征将变得明显。在本说明书和通过引用并入的文献包含冲突和/或不一 致的公开内容的情况下,应W本说明书为准。【附图说明】 将通过参考附图举例的方式来描述本专利技术的非限制性实施方案,其是示意性的且 并不意在按比例绘制。在图中,所示的每一个相同的或几乎相同的组件通常由单个数字表 示。为了清楚的目的,在不必进行说明就可使本领域普通技术人员理解本专利技术的情况下,并 非在每幅图中的每个组件都被加W标记,也不必示出本专利技术每个实施方案中的每个组件。 在附图中: 图1是根据一组实施方案之用于进行肤合成的一个系统的示意图; 图2A-2D是根据某些实施方案的(A)肤合成系统的一个示例性示意图,度)一个 示例性肤合成系统的照片,(C)合成的肤Fmoc-ALFALFA-CONHz的色谱图W及值)反应器的 一个示例性示意图;[001引图3A-3C是根据一组实施方案的(A)用不同的活化氨基酸暴露时间合成的LYRAG-CONHz肤的色谱图,度)用不同的活化氨基酸暴露时间合成的Fmoc-ALF-CONH2肤的色 谱图,和(C) 一个示例性的合成时间线; 图4A-4D是根据某些实施方案的通过W下条件合成的ACP(65-74)肤的色谱图和 质谱:(A)在60°C下使用HATU合成和度)在60°C下使用皿TU合成,(C)在室溫下使用皿TU 合成,W及做使用相同的合成时间线在分批条件下使用皿TU合成; 图5A-5B是根据一组实施方案的(A)合成的化IA(AlOL)肤的色谱图和质谱W及 度)合成的HIV-IPR(81-99)肤的色谱图和质谱; 阳0化]图6A-6E是根据某些实施方案的在如表1所示的多种条件(A) 5、做7、似8和 值)4下合成的GCF肤的总离子流色谱,W及胆)是可靠(authentic)的Gly-D-切S-L-Phe 样品的一个示例性总离子流色谱; 图7A-7E是根据某些实施方案的(A)来自S个肤片段的亲和体(affibody)蛋白 之化学连接的一个示例性方案,度)第一亲和体片段的色谱图和质谱,(C)第二亲和体片段 的色谱图和质谱,值)第=亲和体肤片段的色谱图和质谱,W及巧)纯化的亲和体的色谱图 和质谱; 图8A-8F是根据某些实施方案的(A-B)分别使用FmocN-末端保护基团的N-末 端亲和体片段和使用BocN-末端保护基团的常规手动排布的总离子色谱图,(C-D)分别使 用FmocN-末端保护基团的中间亲和体片段和使用BocN-末端保护基团的常规手动排布 的总离子色谱图,W及巧-巧分别使用FmocN-末端保护基团的C-末端亲和体片段和使用 BocN-末端保护基团的常规手动排布的总离子色谱图; 图9A-犯是根据某些实施方案的(A)纯化的第一亲和体片段的总离子色谱图,度) 纯化的第二亲和体片段的总离子色谱图,(C)纯化的第=亲和体片段的总离子色谱图,值) 来自第一片段和第二片段之连接的纯化的亲和体片段的总离子色谱图,W及巧)纯化的亲 和体的色谱图和质谱; 图10是根据一组实施方案的在肤的合成期间记录为时间之函数的紫外吸光度 图; 图11是根据一组实施方案的流量相对于洗涂时间的图; 图12A-G是根据一组实施方案的(A)入口(左)和出口(右)的照化做垫片 (spacer)的照本文档来自技高网...

【技术保护点】
用于向肽添加氨基酸残基的方法,其包括:加热包含氨基酸的流,以使得所述氨基酸的温度提高至少约1℃;以及使经加热的氨基酸暴露于固定在固体支持物上的多个肽,其中在使所述经加热的氨基酸暴露于所述肽之前且在约30秒内进行所述加热步骤。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员:马克·大卫·西蒙布雷德利·L·彭泰卢特安德烈亚·阿达莫帕特里克·路易斯·海德尔克拉夫斯·F·詹森
申请(专利权)人:麻省理工学院
类型:发明
国别省市:美国;US

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