感光性组合物、保护膜以及具有保护膜的元件制造技术

本发明专利技术提供一种感光性组合物、保护膜及具有保护膜的元件。感光性组合物包括聚硅氧烷(A)、邻萘醌二叠氮磺酸酯(B)以及溶剂(C)。聚硅氧烷(A)是由混合物聚缩合而得，其中混合物包括由式(1)表示的硅烷单体(a-1)、由式(2)表示的硅烷单体(a-2)以及含硅化合物(a-3)。含硅化合物(a-3)选自由式(3)表示的硅烷单体、硅氧烷预聚物以及二氧化硅粒子所组成的族群。感光性组合物可以制作出耐化性佳的保护膜。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种感光性组合物、保护膜及具有保护膜的元件。特别涉及一种可以制作出耐化性佳的保护膜的感光性组合物、其所形成的保护膜，以及具有保护膜的元件。
技术介绍
近年来，随着半导体工业、液晶显示器(liquidcrystaldisplay,LCD)以及有机电激发光显示器(organicelectro-luminescencedisplay,OELD)的发展，伴随而来对于尺寸缩小化的需求，使得光刻(photolithography)工艺成为非常重要的议题。在光刻(photolithography)工艺中，必须将所需的图案(pattern)的微细化(finer)，以达到尺寸缩小化的目的。一般而言，微细化的图案是由对具有高解析(resolution)及高感光性(photosensitivity)的正型感光性组合物(positivephotosensitivecomposition)进行曝光及显影来形成。值得一提的是，正型感光性组合物通常是以聚硅氧烷(polysiloxane)为主要成分。一般而言，作为保护膜(例如：平坦化膜或固化膜)的材料需要兼具高耐热性、高透明性以及高介电常数的材料。日本特开平第7-98502号揭露一种含有酚醛树脂(Novolacresin)与醌二叠氮化合物(quinonediazidecompound)的组合物。日本特开平第10-153854号及日本特开第2001-281853号揭露一种含有丙烯酸系树脂(Acrylicresins)及醌二叠氮化合物的组合物。但是，这些材料的耐热性不够，由于基板的高温处理而固化膜着色，而存在透明性降低的问题。另一方面，习知以硅氧烷聚合物作为高耐热性、高透明性以及高介电常数的材料。为了赋予硅氧烷聚合物的感光性而组合了醌二叠氮化合物。举例而言，美国专利申请公开第2003-211407号揭露一种将末端具有酚性羟基的硅氧烷聚合物与醌二叠氮化合物组合的组合物；日本特开平第3-59667号揭露一种透过环化加成反应(cycloadditionreaction)而加成的酚性羟基或羧基等的硅氧烷聚合物与醌二叠氮化合物组合的组合物。然而，上述组合物因存在大量的醌二叠氮化合物或者在硅氧烷聚合物中存在酚性羟基而容易发生涂膜白化或热固化时着色等问题。更值得一提的是，使用上述习知的组合物所形成的固化膜皆存在耐化性不佳的问题，而不利于应用。因此，如何改善感光性组合物所形成的保护膜的耐化性(chemicalresistance)不佳的问题，以达到目前业界的要求，实为目前此领域技术人员亟欲解决的问题。
技术实现思路
有鉴于此，本专利技术提供一种用于保护膜的感光性组合物，其能够改善上述保护膜的耐化性不佳的问题。本专利技术提供一种感光性组合物，其包括聚硅氧烷(A)、邻萘醌二叠氮磺酸酯(B)以及溶剂(C)。聚硅氧烷(A)是由混合物经聚缩合而得，其中混合物包括由式(1)表示的硅烷单体(a-1)、由式(2)表示的硅烷单体(a-2)以及含硅化合物(a-3)。具体而言，由式(1)表示的硅烷单体(a-1)如下所示。(R1O)3Si-R2-Si(OR3)3式(1)式(1)中，R1及R3各自独立表示碳数为1至4的烷基；R2表示碳数为1至6的伸烷基、伸苯基(phenylene)或由式(1-1)表示的基团。式(1-1)中，a各自独立表示1至4的整数。又，由式(2)表示的硅烷单体(a-2)如下所示。Si(R4)b(OR5)4-b式(2)式(2)中，R4各自独立表示氢原子、碳数为1至10的烷基、碳数为2至10的烯基、碳数为6至15的芳香基、含有酸酐基的烷基、含有环氧基的烷基或含有环氧基的烷氧基；R5各自独立表示氢原子、碳数为1至6的烷基、碳数为1至6的酰基或碳数为6至15的芳香基；b表示1至3的整数，R4包含至少一个含有酸酐基的烷基、含有环氧基的烷基或含有环氧基的烷氧基，含硅化合物(a-3)选自由式(3)表示的硅烷单体、硅氧烷预聚物以及二氧化硅粒子所组成的族群，其中由式(3)表示的硅烷单体如下所示。Si(R6)c(OR7)4-c式(3)式(3)中，R6各自独立表示氢原子、碳数为1至10的烷基、碳数为2至10的烯基或碳数为6至15的芳香基；R7各自独立表示氢原子、碳数为1至6的烷基、碳数为1至6的酰基或碳数为6至15的芳香基；c表示0至3的整数。在本专利技术的一实施例中，基于混合物中的单体的总量为100摩尔百分比，硅烷单体(a-1)的使用量为0.1摩尔百分比至10摩尔百分比，硅烷单体(a-2)的使用量为1摩尔百分比至30摩尔百分比，含硅化合物(a-3)的使用量为60摩尔百分比至98.9摩尔百分比。在本专利技术的一实施例中，基于聚硅氧烷(A)的使用量为100重量份，邻萘醌二叠氮磺酸酯(B)的使用量为5重量份至30重量份，溶剂(C)的使用量为200重量份至1200重量份。本专利技术还提供一种保护膜，其包括上述的感光性组合物。本专利技术更提供一种具有保护膜的元件，其包括元件以及上述的保护膜，其中保护膜覆盖在元件上。基于上述，本专利技术的感光性组合物用于形成保护膜时，可以改善耐化性不佳的问题，进而适用于保护膜。为让本专利技术的上述特征和优点能更明显易懂，下文特举实施例作详细说明如下。具体实施方式感光性组合物本专利技术提供一种感光性组合物，其包括聚硅氧烷(A)、邻萘醌二叠氮磺酸酯(B)以及溶剂(C)。此外，若需要，感光性组合物可更包括添加剂(D)。以下将详细说明用于本专利技术的感光性组合物的各个成分。在此说明的是，以下是以(甲基)丙烯酸表示丙烯酸和/或甲基丙烯酸，并以(甲基)丙烯酸酯表示丙烯酸酯和/或甲基丙烯酸酯；同样地，以(甲基)丙烯酰基表示丙烯酰基和/或甲基丙烯酰基。聚硅氧烷(A)聚硅氧烷(A)是由混合物经聚缩合(即水解(hydrolysis)及部分缩合(partiallycondensation))而得，其中混合物包括硅烷单体(a-1)、硅烷单体(a-2)以及含硅化合物(a-3)。以下，进一步说明混合物的各个成分以及聚缩合的反应步骤与条件。硅烷单体(a-1)硅烷单体(a-1)为由式(1)表示的化合物。(R1O)3Si-R2-Si(OR3)3式(1)式(1)中，R1及R3各自独立表示碳数为1至4的烷基；R2表示碳数为1至6的伸烷基、伸苯基或由式(1-1)表示的基团。式(1-1)中，a各自独立表示1至4的整数。式本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种感光性组合物，其特征在于，其包括：聚硅氧烷(A)；邻萘醌二叠氮磺酸酯(B)；以及溶剂(C)，所述聚硅氧烷(A)是由混合物经聚缩合而得，其中所述混合物包括由式(1)表示的硅烷单体(a‑1)、由式(2)表示的硅烷单体(a‑2)以及含硅化合物(a‑3)，(R1O)3Si‑R2‑Si(OR3)3式(1)式(1)中，R1及R3各自独立表示碳数为1至4的烷基；R2表示碳数为1至6的伸烷基、伸苯基或由式(1‑1)表示的基团，式(1‑1)中，a各自独立表示1至4的整数，Si(R4)b(OR5)4‑b式(2)式(2)中，R4各自独立表示氢原子、碳数为1至10的烷基、碳数为2至10的烯基、碳数为6至15的芳香基、含有酸酐基的烷基、含有环氧基的烷基或含有环氧基的烷氧基；R5各自独立表示氢原子、碳数为1至6的烷基、碳数为1至6的酰基或碳数为6至15的芳香基；b表示1至3的整数，R4包含至少一个含有酸酐基的烷基、含有环氧基的烷基或含有环氧基的烷氧基，所述含硅化合物(a‑3)选自由式(3)表示的硅烷单体、硅氧烷预聚物以及二氧化硅粒子所组成的族群，Si(R6)c(OR7)4‑c式(3)式(3)中，R6各自独立表示氢原子、碳数为1至10的烷基、碳数为2至10的烯基或碳数为6至15的芳香基；R7各自独立表示氢原子、碳数为1至6的烷基、碳数为1至6的酰基或碳数为6至15的芳香基；c表示0至3的整数。...

【技术特征摘要】
2014.05.07 TW 1031162561.一种感光性组合物，其特征在于，其包括：
聚硅氧烷(A)；
邻萘醌二叠氮磺酸酯(B)；以及
溶剂(C)，
所述聚硅氧烷(A)是由混合物经聚缩合而得，其中所述混合物包括由式
(1)表示的硅烷单体(a-1)、由式(2)表示的硅烷单体(a-2)以及含硅化合物(a-3)，
(R1O)3Si-R2-Si(OR3)3式(1)
式(1)中，R1及R3各自独立表示碳数为1至4的烷基；R2表示碳数为1
至6的伸烷基、伸苯基或由式(1-1)表示的基团，
式(1-1)中，a各自独立表示1至4的整数，
Si(R4)b(OR5)4-b式(2)
式(2)中，R4各自独立表示氢原子、碳数为1至10的烷基、碳数为2至
10的烯基、碳数为6至15的芳香基、含有酸酐基的烷基、含有环氧基的烷
基或含有环氧基的烷氧基；R5各自独立表示氢原子、碳数为1至6的烷基、
碳数为1至6的酰基或碳数为6至15的芳香基；b表示1至3的整数，R4包含至少一个含有酸酐基的烷基、含有环氧基的烷基或含有环氧基的烷氧
基，
所述含硅化合物(a-3)选自由式(3)表示的硅烷单体、硅...

【专利技术属性】
技术研发人员：黄伟杰，施俊安，
申请(专利权)人：奇美实业股份有限公司，
类型：发明
国别省市：中国台湾;71